유도 결합 플라즈마를 이용한 $TiO_2$ 박막의 식각 특성
(The Etching Characteristics of $TiO_2$ ThinFilms Using the Inductively Coupled Plasma)
-
- 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
- /
- 한국전기전자재료학회 2010년도 하계학술대회 논문집
- /
- pp.385-385
- /
- 2010