• 제목/요약/키워드: effective capacitance

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국산자기재료를 이용한 비대칭자속분포 단상유도기구 (A Study On The Performances Of A Single-Phase Motor With Non-Quadrature Stator Windings Using Domestic Magnetic Materials.)

  • 박민호
    • 전기의세계
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    • 제21권3호
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    • pp.41-47
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    • 1972
  • The requirements of a successful design for single phase induction motors with a high efficiency have, in recent years, led to the use of non-quadrature stator windings motors in which a high starting torque is a prime requisite. The capacitor motor is one of above machines in which various possible forms of asymmetry can be occur. These forms of asymmetry in the stator phase windings, encountered in machine designs, are 1) an asymmetrical disposition in space of their magnetic axes, 2) a difference in their effective number of turns, 3) a difference in the distribution of their coil groups per pole and 4) amounts of capacitance of an auxiary winding. In order to apply the effective performance prediction of these form to motors, mading of lower quality-domestic magnetic materials, the analysis and the experimental investigations of its sample motors are described in this paper. The utility of such a motor is demonstrated and it is shown that the effects- a good efficiency, good power factor and high starting torque-of the motor mechanism with non-quadrature stator phase windings can development disadvantages by using the lower quality-domestis magnetic materials.

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F16CuPc를 이용한 Field Effect Transistor의 전기적 특성 연구 (Electrical Properties of Field Effect Transistor using F16CuPc)

  • 이호식;박용필;천민우
    • 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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    • 한국전기전자재료학회 2008년도 추계학술대회 논문집 Vol.21
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    • pp.389-390
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    • 2008
  • We fabricated organic field-effect transistors (OFETs) based a fluorinated copper phthalocyanine ($F_{16}CuPc$) as an active layer. And we observed the surface morphology of the $F_{16}CuPc$ thin film. The $F_{16}CuPc$ thin film thickness was 40nm, and the channel length was $50{\mu}m$, channel width was 3mm. We observed the typical current-voltage (I-V) characteristics and capacitance-voltage (C-V) in $F_{16}CuPc$ FET and we calculated the effective mobility.

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스위치 레벨 CMOS 지연시간 모델링과 파라미터 추출 (A Switch-Level CMOS Delay Time Modeling and Parameter Extraction)

  • 김경호;이영근;이상헌;박송배
    • 전자공학회논문지A
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    • 제28A권1호
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    • pp.52-59
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    • 1991
  • An effective and accurate delay time model is the key problem in the simulation and timing verification of CMOS logic circuits. We propose a semi-analytic CMOW delay time model taking into account the configuration ratio, the input waveform slope and the load capacitance. This model is based on the Schichman Hodges's DC equations and derived on the optimally weighted switching peak current. The parameters necessary for the model calculation are automatically determined from the program. The proposed model is computationally effective and the error is typically within 10% of the SPICEA results. Compared to the table RC model, the accuracy is inproved over two times in average.

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F16CuPc를 활성층으로 사용한 FET의 특성 연구 (Properties of FET using Activative Materials with F16CuPc)

  • 이호식;박용필
    • 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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    • 한국전기전자재료학회 2009년도 춘계학술대회 논문집
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    • pp.43-44
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    • 2009
  • We fabricated organic field-effect transistors (OFETs) based a fluorinated copper phthalocyanine ($F_{16}CuPc$) as an active layer. And we observed the surface morphology of the $F_{16}CuPc$ thin film. The $F_{16}CuPc$ thin film thickness was 40nm, and the channel length was $50{\mu}m$, channel width was 3mm. We observed the typical current-voltage (I-V) characteristics and capacitance-voltage (C-V) in $F_{16}CuPc$ FET and we calculated the effective mobility.

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F16CuPc를 이용한 FET의 전기적 특성 연구 (Electrical Properties of FET using F16CuPc)

  • 이호식;박용필
    • 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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    • 한국전기전자재료학회 2008년도 하계학술대회 논문집 Vol.9
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    • pp.504-505
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    • 2008
  • We fabricated organic field-effect transistors (OFETs) based a fluorinated copper phthalocyanine ($F_{16}CuPc$) as an active layer. And we observed the surface morphology of the $F_{16}CuPc$ thin film. The $F_{16}CuPc$ thin film thickness was 40nm, and the channel length was $50{\mu}m$, channel width was 3mm. We observed the typical current-voltage (I-V) characteristics and capacitance-voltage (C-V) in $F_{16}CuPc$ FET and we calculated the effective mobility.

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저전력 동작을 위한 지연된 피드-포워드 경로를 갖는 3차 시그마-델타 변조기 (Third order Sigma-Delta Modulator with Delayed Feed-forward Path for Low-power Operation)

  • 이민웅;이종열
    • 전자공학회논문지
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    • 제51권10호
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    • pp.57-63
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    • 2014
  • 본 논문은 전력소모와 면적을 줄인 지연된 피드-포워드 경로를 갖는 3차 SDM 구조를 제안하였다. 제안한 SDM은 기존의 적분기 2개로 구현된 3차 SDM(Sigma-Delta Modulator) 구조를 개선하였다. 제안된 구조에서는 기존 구조의 둘째 단에 지연된 피드-포워드 경로를 삽입함으로써 첫째 단의 계수 값을 2배로 증가시킬 수 있어 기존구조에 비하여 첫째 단 적분기 커패시터($C_I$)를 1/2로 감소시킬 수 있다. 그러므로 첫째 단 적분기의 부하 커패시턴스가 1/2로 작아지기 때문에 첫째 단 연산증폭기의 출력전류는 51%, 첫째 단의 커패시터 면적은 48% 감소되어 제안한 구조는 전력과 면적을 최적화 할 수 있다. 본 논문에서 제안한 구조를 이용하여 설계된 3차 SC SDM은 $0.18{\mu}m$ CMOS 공정에서 공급전압 1.8V, 입력신호 1Vpp/1KHz, 신호대역폭 24KHz, 샘플링 주파수 2.8224MHz 조건으로 시뮬레이션 하였다. 그 결과 SNR(Signal to Noise Ratio) 88.9dB, ENOB(Effective Number of Bits) 14비트이고 SDM의 전체 전력소모는 $180{\mu}W$이다.

광통신용 10Gb/s CMOS 전치증폭기 설계 (10Gb/s CMOS Transimpedance Amplifier Designs for Optical Communications)

  • 심수정;박성민
    • 대한전자공학회논문지SD
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    • 제43권10호
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    • pp.1-9
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    • 2006
  • 본 논문에서는 0.18um CMOS 공정을 이용하여 두 종류의 10Gb/s급 광통신용 전치증폭기(TIA)를 설계, 비교하였다. 전압모드인 Inverter TIA(I-TIA)는 입력단에 inverter 구조를 사용하여 입력 유효 gm 값을 증가시킴으로써 입력저항 값을 줄이고 동시에 대역폭을 늘리는 효과를 얻었다. 0.25pF의 광다이오드 캐패시턴스에 대하여 $56dB{\Omega}$의 트랜스임피던스 이득과 14GHz의 대역폭을 얻었고, $10^{-12}$ BER과 9dB extinction ratio 및 0.4A/W responsivity를 예상할 경우 -16.5dBm의 광민감도를 얻었다. 그러나 기생 성분에 의한 대역폭의 감소 및 민감도가 크기 때문에 회로설계 시 패키지 및 회로내의 기생성분 효과에 대한 신중한 고려가 필요하다. 이와 달리, 전류모드인 RGC TIA는 입력단에 regulated cascode 설계기법을 사용하여 광다이오드와 TIA 사이에 생기는 큰 입력 기생 캐패시턴스를 전압모드보다 매우 효과적으로 차단하여 대역폭을 확장하였다. 또한 기생성분에 의한 대역폭 및 트랜스임피던스의 민감도가 현저히 줄어들어 대역폭의 변화가 없다. 0.25pF의 광다이오드 캐패시턴스에 대하여 $60dB{\Omega}$의 트랜스임피던스 이득과 10GHz의 대역폭을 얻었고, $10^{-12}$ BER과 9dB extinction ratio 및 0.5A/W responsivity를 예상할 경우 -15.7dBm의 광민감도를 얻는다. 그러나, I-TIA에 비하여 약 4.5배의 높은 전력소모를 보이는 단점이 있다.

Effective Volume of the Korea Research Institute of Standards and Science Free Air Chamber L1 for Low-Energy X-Ray Measurement

  • Chul-Young Yi;Yun Ho Kim;Don Yeong Jeong
    • 한국의학물리학회지:의학물리
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    • 제33권1호
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    • pp.1-9
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    • 2022
  • Purpose: To evaluate the effective volume of the Korea Research Institute of Standards and Science free air chamber (KRISS FAC) L1 used for the primary standard device of the low-energy X-ray air kerma. Methods: The mechanical dimensions were measured using a 3-dimensional coordinate measuring machine (3-d CMM, Model UMM 500, Carl Zeiss). The diameter of the diaphragm was measured by a ring gauge calibrator (Model KRISS-DM1, KRISS). The elongation of the collector length due to electric field distortion was determined from the capacitance measurement of the KRISS FAC considering the result of the finite element method (FEM) analysis using the code QuickField v6.4. Results: The measured length of the collector was 15.8003±0.0014 mm with a 68% confidence level (k=1). The aperture diameter of the diaphragm was 10.0021±0.0002 mm (k=1). The mechanical measurement volume of the KRISS FAC L1 was 1.2415±0.0006 cm3 (k=1). The elongated length of the collector due to the electric field distortion was 0.170±0.021 mm. Considering the elongated length, the effective measurement volume of the KRISS FAC L1 was 1.2548±0.0019 cm3(k=1). Conclusions: The effective volume of the KRISS FAC L1 was determined from the mechanically measured value by adding the elongated volume due to the electric field distortion in the FAC. The effective volume will replace the existing mechanically determined volume in establishing and maintaining the primary standard of the low-energy X-ray.

N-type 결정질 실리콘 태양전지 응용을 위한 Al2O3 박막의 패시베이션 특성 연구 (Passivation property of Al2O3 thin film for the application of n-type crystalline Si solar cells)

  • 정명일;최철종
    • 한국결정성장학회지
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    • 제24권3호
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    • pp.106-110
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    • 2014
  • Atomic layer deposition(ALD)을 이용하여 $Al_2O_3$ 박막을 형성하고 이에 대한 패시베이션 특성에 대한 연구를 수행하였다. ALD로 증착된 $Al_2O_3$ 박막은 $400^{\circ}C$ 5분간 후속 열처리 공정 후에도 $Al_2O_3$ - 실리콘 계면 반응 없이 비정질 상태를 유지할 만큼 구조적으로 안정한 특성을 나타내었다. 후속 열처리 후 $Al_2O_3$ 박막의 패시베이션 특성이 향상되었으며, 이는 field effective 패시베이션과 화학적 패시베이션 효과가 동시에 상승에 기인하는 것으로 판단된다. $Al_2O_3$ 박막의 음고정 전하를 정량적으로 평가하기 위해서 후속 열처리 공정을 거친 $Al_2O_3$ 박막을 이용하여 metal-oxide-semiconductor(MOS) 소자를 제작하고 capacitance-voltage(C-V) 분석을 수행하였다. C-V 결과로부터 추출된 flatband voltage($V_{FB}$)와 equivalent oxide thickness(EOT)의 관계식을 통하여 $Al_2O_3$ 박막의 고정음전하는 $2.5{\times}10^{12}cm^{-2}$로 계산되었으며, 이는 본 연구에서 제시된 $Al_2O_3$ 박막 공정이 N-type 실리콘 태양전지의 패시베이션 공정에 응용 가능하다는 것을 의미한다.

메모리 소자의 셀 커패시턴스에 미치는 공정 파라미터 해석 (Analysis of Process Parameters on Cell Capacitances of Memory Devices)

  • 정윤근;강성준;정양희
    • 한국전자통신학회논문지
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    • 제12권5호
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    • pp.791-796
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    • 2017
  • 본 연구에서는 DRAM 커패시터의 유전막 박막화를 위한 Load Lock(L/L) LPCVD 시스템을 이용한 적층형 커패시터의 제조 공정이 셀 커패시턴스에 미치는 영향을 조사하였다. 그 결과 기존의 non-L/L 장치에 비하여 약 $6{\AA}$의 산화막 유효두께를 낮춤으로 커패시턴스로 환산 시 약 3-4 fF의 차이가 나타남을 확인할 수 있었다. 또한 절연막으로써 질화막 두께의 측정 범위가 정상적인 관리 범위의 분포임에도 불구하고 Cs는 계산치보다 약 3~6 fF 정도 낮은 것으로 확인되었다. 이는 node poly FI CD가 spec 상한치로 관리되어 셀 표면적의 감소를 초래하였고 이는 약 2fF의 Cs 저하를 나타내었다. 따라서 안정적인 Cs의 확보를 위해서는 절연막의 두께 및 CD 관리를 spec 중심값의 10 % 이내로 관리할 필요가 있음을 확인하였다.