Kim, Joo-Hyung;Baek, Chang Yeon;Kim, Dong Seok;Lim, Seong Taek;Kim, Do Kyung
Korean Journal of Materials Research
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v.26
no.12
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pp.751-756
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2016
Graphite was diffusion-bonded by hot-pressing to W-25Re alloy using a Ti interlayer. For the joining, a uniaxial pressure of 25 MPa was applied at $1600^{\circ}C$ for 2 hrs in an argon atmosphere with a heating rate of $10^{\circ}C\;min^{-1}$. The interfacial microstructure and elemental distribution of the W-25Re/Ti/Graphite joints were analyzed by scanning electron microscopy (SEM). Hot-pressed joints appeared to form a stable interlayer without any micro-cracking, pores, or defects. To investigate the high-temperature stability of the W-25Re/Ti/Graphite joint, an oxy-acetylene torch test was conducted for 30 seconds with oxygen and acetylene at a 1.3:1 ratio. Cross-sectional analysis of the joint was performed to compare the thickness of the oxide layer and its chemical composition. The thickness of W-25Re changed from 250 to $20{\mu}m$. In the elemental analysis, a high fraction of rhenium was detected at the surface oxidation layer of W-25Re, while the W-25Re matrix was found to maintain the initial weight ratio. Tungsten was first reacted with oxygen at a torch temperature over $2500^{\circ}C$ to form a tungsten oxide layer on the surface of W-25Re. Then, the remaining rhenium was subsequently reacted with oxygen to form rhenium oxide. The interfacial microstructure of the Ti-containing interlayer was stable after the torch test at a temperature over $2500^{\circ}C$.
Journal of the Microelectronics and Packaging Society
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v.15
no.2
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pp.29-36
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2008
In this paper, mechanical reliability issues of copper through-wafer interconnections are investigated numerically and experimentally. A hermetic wafer level packaging for MEMS devices is developed. Au-Sn eutectic bonding technology is used to achieve hermetic sealing, and the vertical through-hole via filled with electroplated copper for the electrical connection is also used. The MEMS package has the size of $1mm{\times}1mm{\times}700{\mu}m$. The robustness of the package is confirmed by several reliability tests. Several factors which could induce via hole cracking failure are investigated such as thermal expansion mismatch, via etch profile, and copper diffusion phenomenon. Alternative electroplating process is suggested for preventing Cu diffusion and increasing the adhesion performance of the electroplating process. After implementing several improvements, reliability tests were performed, and via hole cracking as well as significant changes in the shear strength were not observed. Helium leak testing indicated that the leak rate of the package meets the requirements of MIL-STD-883F specification.
The effect of Nb on interfacial bonding characteristics of Ni-Cr alloy for porcelain fused to metal crown (PFM) has been studied in order to investigate oxide layer. A specimens, which is 0.8mm in thickness, were fired at 1,000$^{\circ}C$ with four tests such as air, vacuum, air for 5 minutes and vacuum for 5 minutes in order to examine an oxide behavior of alloy surface generated by the adding of Nb to be controlled at a rate of 0, 1, 3 and 5. It observed oxide film form of the fired specimens with optical microscope and scanning electron microscope (SEM), and chemical formation of them with energy disperse X-ray spectroscopy (EDX). The other specimens, which is 2mm in thickness, were fired at 1,000$^{\circ}C$ with air and vacuum in order to analyze the diffusion behaviors of alloy-porcelain interface by X-ray dot mapping. The results of this study were as follows: 1. The observation of microstructure of specimens by SEM showed that the more Nb content is high, the more much intermediate compound of rich Nb is observed. 2. The surface morphology of oxide film is most dense in 3% Nb. The heat treatment in air constitutes denser oxide film than heat treatment under vacuum. 3. The diffusion behavior of oxide layer by X-ray dot mapping showed that Si, Al of porcelain diffuse toward metal.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2010.03a
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pp.18-20
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2010
The mechanism for suppression of Ag agglomeration in Ag-Mg alloy ohmic contact to p-GaN is investigated. The Ag-Mg alloy ohmic contact shows low contact resistivity of $6.3\;{\times}\;10^{-5}\;{\Omega}cm^2$, high reflectance of 85.5% at 460 nm wavelength after annealing at $400^{\circ}C$ and better thermal stability than Ag contact The formation of Ga vacancies increase the net hole concentration, lowering the contact resistivity. Moreover, the oxidation of Mg atoms in Ag film increase the work function of Ag-Mg alloy contact and prevents Ag oxidation. The inhibition of oxygen diffusion by Mg oxide suppresses the Ag agglomeration, leading to enhance light reflectance and thermal stability.
Journal of the Microelectronics and Packaging Society
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v.30
no.3
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pp.1-10
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2023
Recently, as the demand for high-performance computers and mobile products increases, semiconductor packages are becoming high-integration and high-density. Therefore, in order to transmit a large amount of data at once, micro bumps such as flip-chip and Cu pillar that can reduce bump size and pitch and increase I/O density are used. However, when the size of the bumps is smaller than 70 ㎛, the brittleness increases and electrical properties decrease due to the rapid increase of the IMC volume fraction in the solder joint, which deteriorates the reliability of the solder joint. Therefore, in order to improve these issues, a layer that serves to prevent diffusion is inserted between the UBM (Under Bump Metallization) or pillar and the solder cap. In this review paper, various studies to improve bonding properties by suppressing excessive IMC growth of micro-bumps through additional layer insertion were compared and analyzed.
Proceedings of the Korean Society For Composite Materials Conference
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2002.05a
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pp.155-158
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2002
Fabrication process of metal/intermetallic laminated composites by using self-propagating high temperature synthesis(SHS) reactions between Ni and Al elemental metal foils have been investigated. Al foils were sandwiched between Ni foils and heated in a vacuum hot press to the melting point of aluminium. SHS reaction kinetics was thermodynamically analyzed through the final volume fraction of the unreacted Al related with the initial thickness ratio of Ni:Al and diffusion bonding stage before SHS reaction. Thermal aging of laminated composites resulted in the formation of functionally gradient series of intermetallic phases. Microstructure showed that the main phases of intermetallics were NiAl and $Ni_3Al$ having higher strength at room and high temperatures. The volume fractions of intermetallic phases were measured as 82.4, 58.6, 38.4% in 1:1, 2:1, 4:1 initial thickness ratio of Ni:Al.
Journal of the Korean Society of Manufacturing Technology Engineers
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v.9
no.4
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pp.131-136
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2000
This study deals with the mechanical properties of STS304-Al351 friction welding zone. Main results are as follows ; under the condition of upset pressure 75MPa, the tensile strength of STS304-al6351 friction weld interface was higher than that of Al6351 base metal, and the highest tensile strength(290MPa) was obtained at upset pressure 125MPa. The hardness profile across the weld interface shows that the hardness of both STS304 and Al6351 is higher around the weld interface, and sharply increased hardness on the STS304 side is related with the plastic deformation of micro volume. As the result of analyzing the tensile fracture, it showed perfect soft fracture.
Brazing of Al to Cu using AI-Si-Mg-Bi brazing alloy has been carried out in the vacuum furnace. In the bonded interlayer, there were two kinds of intermetallic compounds. One of these intermetallic compounds was e phase and the other was b phase. The growth of b phase was controlled by diffusion Al into Cu. Deformation behavior of Al-Cu brazing joint was brittle without deformation of the base metal. Shear strength of the joint was only about 20MPa. The shear specimen broken in the intermetallic compound, which was mainly e phase. Shear strength did not depend on the bonding temperature.
Kim, Buoung-Soo;Kim, Min-Ho;Park, Duck-Kyun;Son, Yong-Bei
Proceedings of the International Microelectronics And Packaging Society Conference
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2000.04a
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pp.111-111
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2000
In order to form a uniform oxidation layer and spinel crystalline phase that has been help strong bonding in Kovar(Fe-29Ni-17Co)-to-glass sealing, the humidified nitrogen and nirtogen/hydrogen mixture was used as an oxidation atmosphere. Kovar oxidation was diffusion-controlled reaction and the activation energy was 25~32 kcal/mol at $600~900^{\circ}C.$ After oxidation at $600^{\circ}C, $ the oxidation layer was under 1 $\mu\textrm{m}$ thickness and crystalline phase was spinel which was found to be suitable for the Kovar-to-glass sealing. The Kovar-to-glass seal was carried out at $1010^{\circ}C$ and humidified nitrogen/hydrogen mixture atmosphere. Sealing properties were tested by Leak tester and SEM.
An Ag/Ni bi-layer sheet was fabricated by the combination of powder metallurgy, diffusion bonding, cold rolling and texture annealing processes. After heat treating the cold rolled thin Ag/Ni bi-layer sheet at $900^{\circ}C$ for 4h, the excellent cube texture was developed on nickel surface. Qualitative chemical analysis using EPMA showed that inter diffusions of Ni and Ag in Ag/Ni bi-layer composite were negligible. It showed that Ag can be used as a chemical barrier for Ni and vice versa.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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