• 제목/요약/키워드: clean시스템

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청정실내의 공기 필터 시스템의 보전 (Maintenance of air filter system in clean room)

  • 구자항;고명훈
    • 산업경영시스템학회지
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    • 제19권40호
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    • pp.341-349
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    • 1996
  • In this paper, we deal with the problem of maintenance policies for an air filter system in clean room. Two types of maintenance policies are considered, one based on the reliability of equipment and the other one determined by the total cost including minimal repair cost. For these models, we obtain the structure of the optimal maintenance Policy which minimize the total cost. Finally we give the numerical example.

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고온정제 온도에 따른 IGCC 시스템 성능 영향 분석 (The analysis of the effect on the temperature of Hot Gas Clean-Up for IGCC system)

  • 서석빈;김종진;이윤경;안달홍
    • 한국에너지공학회:학술대회논문집
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    • 한국에너지공학회 1999년도 추계 학술발표회 논문집
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    • pp.47-51
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    • 1999
  • 차세대 석탄가스화복합발전(Integrated Gasification Combined Cycle; IGCC)으로써 고온정제(Hot Gas Clean-up; HGCU)는 고온고압의 석탄가스 중에 있는 불순물을 고온고압에서 제거하는 기술이다. 현재 이 기술에 대한 연구가 국내외적으로 활발히 이루어지고 있으며 특히 미국 에너지성에서는 2000년까지 플랜트 효율 45%의 건식 고온정제를 채용한 IGCC 시스템을 개발 중에 있으며 나아가 목표 효율 50% 이상으로 건식 고온 정제뿐 아니라 차세대 가스터빈을 채용한 시스템으로 2010년 개발을 목표로 하고 있다.(중략)

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7.6 µm 파장 영역의 다중 광 흡수 신호 파장 변조 분광법을 이용한 이산화황 농도 측정 (Measurement of Sulfur Dioxide Concentration Using Wavelength Modulation Spectroscopy With Optical Multi-Absorption Signals at 7.6 µm Wavelength Region)

  • 송아란;정낙원;배성우;황정호;이창엽;김대해
    • 청정기술
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    • 제26권4호
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    • pp.293-303
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    • 2020
  • 세계보건기구에 따르면 대기오염은 건강에 대한 주요 위험원으로 대기오염으로 인해 매년 약 700만 명의 조기 사망이 발생하고 있다. 이산화황(SO2)은 대표적인 대기오염물질로 황 성분이 포함된 연료의 연소에서 다량 발생한다. SO2 발생량을 감소시키기 위해서는 대형 연소 환경에서 이를 실시간으로 정밀하게 측정하고 측정 값을 바탕으로 저감 설비를 최적화하는 과정이 필요하다. 이 논문에서는 미세먼지 전구물질인 SO2의 농도를 측정하기 위해 파장 가변형 다이오드 레이저 흡수 분광법 중 파장 변조 분광법을 이용하였다. 광원으로는 7.6 ㎛ 양자 폭포 레이저를 사용하였고 7623.7 ~ 7626.0 nm 사이의 64개 다중 광흡수선으로 SO2 농도 측정이 가능함을 증명하였다. 실험은 1 atm, 296 K에서 28, 76 m multi-pass cell을 사용하여 수행되었다. SO2 농도는 고농도(1000 ~ 5000 ppm)와 저농도(10 ppm 이하)로 두 종류로 실험 하였다. 추가적으로 가스 셀 외에 레이저가 지나가는 경로에 질소를 채워 대기 중의 H2O가 SO2 측정에 미치는 영향을 확인하였다. SO2는 3 ppm까지 측정하였고 측정된 SO2 농도는 전기 화학식 센서와 NDIR 센서 측정 결과와 비교되었다.

클린튜브 시스템의 웨이퍼 정지 제어 (Wafer Motion Control of a Clean Tube System)

  • 신동헌;최철환
    • 한국정밀공학회:학술대회논문집
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    • 한국정밀공학회 2003년도 춘계학술대회 논문집
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    • pp.459-462
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    • 2003
  • This paper presents a force model of the clean tube system, which was developed as a means for transferring the air-floated wafers inside the closed tube filled with the super clean air. The recovering force from the holes for floating wafers is modeled as a linear spring and thus the wafer motion is modeled as a mass-spring-damper system. The propelling forces are modeled as linear along with the wafer location. The paper also proposes the control method to emit and stop a wafer at the center of a control unit. It shows the minimum value of the propelling force to leave from the control unit. In order to stop the wafer, it utilizes the exact time when a wafer arrives at the position to activate the propelling force. Experiments with the clean tube system built for 12 inch wafer shows the validity of the proposed model and the algorithm.

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도시열환경개선을 위한 대구 클린 로드 시스템의 확대 운영방안에 관한 연구 (Managerial Plan of Extended Operation of the Clean-Road System for the Improvement of the Urban Thermal Environment in Daegu)

  • 정응호;노백호;김해동
    • 한국환경과학회지
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    • 제25권11호
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    • pp.1589-1595
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    • 2016
  • From December 2014 to November 2015, an automatic weather system (AWS) was installed over a wide road of Daegu to continuously measure meteorological factors and surface temperature. We investigated the effective operating period of the clean-road system using the daily maximum and minimum air and asphalt surface temperatures, with the aim of creating an optimum thermal environment. The clean-road system was installed over a part of the broad way of Dalgubul(Dalgubul-Daero) by Daegu Metropolitan City in 2011. Until now, the clean-road system has been operated from the middle of April to the end of September. We assumed that it was desirable that the clean-road system could be operated when the discomfort index was above 55. In conformity with the conditions, we concluded that the optimum operation period of the clean-road system is from the end of March to about the middle of October.

반도체 클린룸용 배기 열회수식 에어와셔 시스템의 에너지절감에 관한 수치해석 (Numerical Analysis on Energy Reduction of an Exhaust-Air-Heat-Recovery Type Air Washer System for Semiconductor Manufacturing Clean Rooms)

  • 송근수;김형태;유경훈;손승우;신대건;김영일
    • 설비공학논문집
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    • 제22권10호
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    • pp.697-703
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    • 2010
  • In recent semiconductor manufacturing clean rooms, air washers are used to remove airborne gaseous contaminants from the outdoor air introduced into a clean room. Meanwhile, there is a large amount of exhaust air from a clean room. From an energy conservation point of view, heat recovery is useful for reducing the outdoor air conditioning load required to maintain a clean room. Therefore it is desirable to recover heat from the exhaust air and use it to cool or heat the outdoor air. In the present study, numerical analysis was conducted to evaluate the recovered heat of an exhaust air heat recovery type air washer system, which is the key part of an energy saving outdoor air conditioning system for semiconductor clean rooms. The present numerical results showed relatively good agreement with the available experimental data.

반도체 자동화 생산을 위한 실시간 일정계획 시스템 재 구축에 관한 연구 : 300mm 반도체 제조라인 적용 사례 (Real-Time Scheduling System Re-Construction for Automated Manufacturing in a Korean 300mm Wafer Fab)

  • 최성우;이정승
    • 지능정보연구
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    • 제15권4호
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    • pp.213-224
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    • 2009
  • 본 연구는 국내 300mm 웨이퍼를 이용하여 반도체 제품의 제조라인을 대상으로 수행 되었던 자동화 생산을 위한 일정계획 시스템 재 구축 프로젝트에 관한 내용이다. 본 프로젝트의 주요 목적은 반도체 제조라인 내의 세정, 확산, 포토, 증착과 같은 주요공정들을 대상으로 효율적인 일정계획 수립 알고리듬을 개발하고 그것을 실시간 일정계획 시스템에 구현함으로써 반도체 제조라인의 자동화 생산률을 향상시키는 것이다. 본 논문에서는 여러가지 주요 공정들 중 제한된 대기시간 제약과 배치공정의 특성이 존재하는 세정과 확산으로 이루어진 연속공정 구간을 대상으로 개발된 일정계획 알고리듬과 실시간 일정계획 시스템의 개발에 대한 내용에 초점을 두었다. 일정계획 시스템 재 구축 프로젝트가 시작 될 시점에 세정과 확산 공정의 자동화 생산률은 각각 50%와 10% 정도 였으나, 프로젝트 수행 완료 후에는 각각 91%와 83% 까지 자동화 생산률이 향상 되었다. 자동화 생산률의 향상은 작업자의 인건비 절감, 생산성의 향상, 지속적이고 편차 없는 생산을 의미한다.

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Wafer 낱장 반송용 이동 로봇의 개발 (Clean mobile robot for wafer transfer)

  • 성학경;이성현;김성권
    • 제어로봇시스템학회:학술대회논문집
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    • 제어로봇시스템학회 2000년도 제15차 학술회의논문집
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    • pp.161-161
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    • 2000
  • The clean mobile robot for wafer transfer is AGV that carry each wafer to each equipment. It has wafer handling technology, wafer ID recognition technology, position calibration technology using vision system, and anti-vibration technology. Wafer loading/unloading working accuracy is within ${\pm}$1mm, ${\pm}$3$^{\circ}$. By application of this AGV, we can reduce the manufacturing tack time and bring cost down of equipment.

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