• 제목/요약/키워드: amorphous CoSiB

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비정질 CoFeSiB 자유층을 갖는 자기터널접합의 스위칭 특성 (Switching Characteristics of Magnetic Tunnel Junction with Amorphous CoFeSiB Free Layer)

  • 황재연;이장로
    • 한국자기학회지
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    • 제16권6호
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    • pp.276-278
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    • 2006
  • 스위칭 특성을 향상시키기 위하여 비정질 강자성 CoFeSiB 자유층을 갖는 자기터널접합 (MTJ)의 스위칭 특성을 연구하였다. 자기터널접합의 구조는 $Si/SiO_{2}/Ta$ 45/Ru 9.5/IrMn 10/CoFe 10/CoFe $7/AlO_{x}/CoFeSiB\;(t)/Ru\;60\;(nm)$이다. CoFeSiB는 $560\;emu/cm^{3}$의 낮은 포화자화도와 $2800\;erg/cm^{3}$의 높은 이방성 상수를 가졌다. 이러한 특성이 자기터널접합의 낮은 보자력($H_{c}$)과 높은 자장민감도를 갖게 한다. 이것은 또한 Landau-Lisfschitz-Gilbert 방정식에 근거한 미세자기 전산시뮬레이션을 통하여 submicrometersized elements에서도 확인하였다. CoFeSiB 자유층 두께를 증가함으로서 스위칭 특성은 반자화 자기장의 증가로 인하여 더욱더 나빠졌다.

자계중 열처리된 FeCoSiB 아몰퍼스박막의 자기적 특성 (Magnetic Properties of FeCoSiB Amorphous Films Annealed in Magnetic field)

  • 신광호;김영학;사공건
    • 한국전기전자재료학회논문지
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    • 제16권12S호
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    • pp.1305-1309
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    • 2003
  • To utilize FeCoSiB amorphous films for magnetoelastic sensors, the temperature dependency of magnetization (M-T curve) and the magnetization properties of the amorphous films were investigated in this study. As the amount of cobalt In the films increased, the Curie temperature decreased but the crystallization temperature increased. In addition to this, the crystallization temperature was lower than the Curie temperature in the film containing 20 at% cobalt. The optimized annealing condition was set up by analyzing the H-T curve. And then, the amorphous film that has excellent magnetic properties and uni-axal anisotropy could be prepared for construction of the magnetoelastic sensor devices. The coercive force of the film was below 0.5 Oe and the anisotripic field was about 5 Oe.

비정질 강자성체 CoSiB/Pd 다층박막의 두께에 따른 수직자기이방성 변화 (Thickness Dependence of Amorphous CoSiB/Pd Multilayer with Perpendicular Magnetic Anisotropy)

  • 임혜인
    • 한국자기학회지
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    • 제23권4호
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    • pp.122-125
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    • 2013
  • 비정질 합금인 CoSiB과 비자성체 Pd을 이용하여 CoSiB/Pd 다층박막을 제작하고, 그 자기적인 특성을 분석하였다. $[CoSiB\;t_{CoSiB}/Pd\;1.3nm]_5$ 다층박막을 $t_{CoSiB}$ = 0.1~0.6 nm의 범위로 제작하였고, 동일한 방법으로 $[CoSiB\;0.3nm/Pd\;t_{Pd}]_5$ 다층박막을 $t_{Pd}$ = 1.0~1.6 nm의 범위로 제작하여 두께에 따른 자기이방성과 포화자화도를 측정하였다. CoSiB 두께가 증함에 따라 포화자화도가 증가하는 경향을 보였는데, 특히 CoSiB의 두께가 0.2~0.3 nm 일 때 포화자화도가 급격하게 증가하였다. 보자력은 두께 0.2 nm 에서 최대값을 보이다가 두께가 증가함에 따라 점차 감소하는 것을 확인하였다. Pd의 두께 변화 실험에서는 포화자화도는 1.1~1.2 nm 구간에서 약간 감소하다가 1.3 nm 이후 점차 증가하였으며, 보자력은 포화자화도에 비해 확연한 규칙성을 보이지 않았으나, 전체적으로 Pd의 두께가 증가함에 따라 값이 감소하는 것을 알 수 있었다.

CoFeSiB/Ru/CoFeSiB 자유층을 갖는 자기터널 접합의 스위칭 자기장 (Magnetization Switching of MTJs with CoFeSiB/Ru/CoFeSiB Free Layers)

  • 이선영;이서원;이장로
    • 한국자기학회지
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    • 제17권3호
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    • pp.124-127
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    • 2007
  • 비정질 $Co_{70.5}Fe_{4.5}Si_{15}B_{10}$층을 갖는 자기터널접합(magnetic tunneling junctions; MTJ)를 연구하였다. 비정질 자유층이 MTJ의 스위칭 특성에 미치는 영향을 중점적으로 이해하기 위하여 기존의 사용된 CoFe 그리고 NiFe층들을 대신하여 비정질 강자성체 CoFeSiB을 사용하였다. CoFeSiB은 CoFe과 NiFe보다 각각 낮은 포화자기장($M_s:\;560\;emu/cm^3$)과 높은 자기이방성 상수($K_u:\;0.2800\;erg/cm^3$)를 갖는다. CoFeSiB층들의 사이에 1.0 nm Ru층 삽입시 $-0.003\;erg/cm^3$ 교환결합에너지($J_{ex}$)를 나타내었다. $Si-SiO_2-Ta$ 45/Ru 9.5/IrMn 10/CoFe 7/$AlO_x$/CoFeSiB 7 또는 CoFeSiB (t)/Ru 1.0/CoFeSiB (7-t)/Ru 60(in nm) MTJ 구조의 터널접합에 대하여 실험 및 시뮬레이션 결과를 통하여 낮은 $J_{ex}$에 기인하는 스위칭 자기장(switching field; $H_{sw}$)의 시료 크기 의존성이 나타나는 것을 알 수 있었다. CoFeSiB 합성형 반강자성 구조는 micrometer뿐만 아니라 submicrometer 시료 크기영역에서도 보자력($H_c$)의 감소와 민감도를 증가 시킴으로써 자기 스위칭 특성에 유리한 것으로 확인 되었다.

자기터널접합을 활용한 고집적 MRAM 소자 기술 (High Density MRAM Device Technology Based on Magnetic Tunnel Junctions)

  • 전병선;김영근
    • 한국자기학회지
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    • 제16권3호
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    • pp.186-191
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    • 2006
  • 자기터널접합 기반의 MRAM(magnetic random access memory)은 자기저항효과를 응용하는 메모리소자로서 비휘발성과 고속 정보처리가 가능할 뿐만 아니라 고집적화 할 수 있는 차세대 통합형 비휘발성 메모리이다. 그러나 기존의 메모리 소자들에 비해 스위칭 산포가 크고, 기록마진(writing margin)이 확보되지 않아 아직까지는 고집적화가 어려운 실정이다. 최근 포화자화가 낮은 NiFeSiB 및 CoFeSiB과 같은 비정질 강자성체를 자기터널접합의 자유층 재료로 사용하여 스위칭 자기장의 거대화를 크게 감소시켜 MRAM의 기록마진을 높이는 연구결과에 관해 정리하여 보았다. 그리고 이러한 물질을 이용하여 자기터널접합의 재생마진(reading margin)과 관련된 터널자기저항비의 인가전압의존성을 저감시킬 수 있었다. 본고에서는 나노자기소자 기술의 중요한 분야인 MRAM의 기술발전 방향과 연구사례를 소개하고자 한다.

강자성 비정질 NiFeSiB 자유층을 갖는 자기터널접합의 스위칭 특성 (Characteristics of Magnetic Tunnel Junctions Comprising Ferromagnetic Amorphous NiFeSiB Layers)

  • 황재연;이장로
    • 한국자기학회지
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    • 제16권6호
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    • pp.279-282
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    • 2006
  • 비정질 강자성 NiFeSiB 자유층을 갖는 자기터널접합 (MTJ)에 대하여 연구하였다. 비정질 자유층이 MTJ의 스위칭 특성에 미치는 영향을 알아보는데 역점을 두어 기존의 CoFe와 NiFe층 대신에 NiFeSiB 자성층을 사용하였다. $Ni_{16}Fe_{62}Si_{8}B_{14}$$Co_{90}Fe_{10}$보다 더 낮은 포화자화도 ($M_{s}:\;800\;emu/cm^{3}$) 그리고 $Ni_{80}Fe_{20}$보다 더 높은 이방성 상수 ($K_{u}:\;2700\;erg/cm^{3}$)를 갖는다. $Si/SiO_{2}/Ta$ 45/Ru 9.5/IrMn 10/CoFe $7/AlO_{x}/CoFeSiB\;(t)/Ru\;60\;(nm)$ 구조는 그 자체의 낮은 포화자화도와 높은 일축 이방성을 가짐으로 인하여 보자력($H_{c}$)을 감소시키고 스위칭 각형을 증가시키게 함으로서 MTJ의 스위칭 특성에 유리한 것으로 조사되었다. 더욱이 미소두께(1 nm)의 CoFe층을 터널장벽/NiFeSiB 경계면에 삽입하면 TMR비와 스위칭 각형이 증가하고 개선되었다.

FeSiBNb 리본 합금의 비정질 형성능과 자기적 특성에 미치는 Co의 첨가 효과 (The Effects of Co Addition on Glass Forming Ability and Magnetic Properties for FeSiBNb Ribbon Alloys)

  • 이태규;노태환
    • 한국자기학회지
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    • 제17권3호
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    • pp.128-132
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    • 2007
  • 큰 비정질 형성능을 가지는 FeSiBNb 비정질 리본 합금의 열적 및 자기적 특성에 미치는 Co의 첨가 효과에 대하여 연구되었다. 두께 $40\;{\mu}m$의 비정질$(Fe_{1-X}Co_X)_{72}Si_4B_{20}Nb_4(x=0{\sim}0.5)$ 합금에 대한 열분석 결과, Fe에 대한 Co의 치환량이 증가할수록 과냉각 액상의 존재 온도 범위가 넓어져 비정질 형성능이 증가하는 것으로 평가되었다. 또 Co 농도의 증가에 따라 약간의 $B_8$(800A/m에서의 유도 자속밀도)의 감소가 얻어지나, 투자율이 현저하게 증가하고 철손이 크게 감소하는 경향을 나타내었다. 한편 두께가 두꺼운 상기 비정질 합금의 교류 투자율의 주파수 특성은 와전류에 의한 표피 효과의 증대 때문에 $20\;{\mu}m$ 정도의 두께를 가지는 통상의 비정질 리본 합금에 비해 열화되는 것으로 나타났다.

CoFeSiB 아몰퍼스리본의 열처리에 의한 대바크하우젠 효과 (Large Barkhausen Effects by Annealing of CoFeSiB Amorphous Ribbon)

  • 임재근;강재덕;정병두;신용진
    • 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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    • 한국전기전자재료학회 1999년도 춘계학술대회 논문집
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    • pp.59-72
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    • 1999
  • In this thesis, we measured the Barkhausen effect of CoFeSiB amorphous ribbon and then investigated its possibility to be used as a sensor material. We used a sample of composition $($Fe_{0.06}$$Co_{0.94}$)_${0.79}$$Si_{2.1}$$B_{18.9}$ with a thickness 12[pm1, width 2.5[rnml and length 5[cm], which was fabricated by a single roll method. In order to improve magnetic characteristics of the sample, we had carried on annealing in the magnetic field and in none magnetic field. And, experimented results to the magnetic characteristics show that the ribbon has large Barkhausen jump even in weak magnetic field below 0.5[0el. From the results, we confirmed that the sample can be used as an magnetic sensor material.

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CoFeSiB 아몰퍼스합금 자기리본 변위센서 개발에 관한 연구 (A Study on Development of the Displacement Sensor of CoFeSiB Amorphous Alloy Magnetic Ribbon)

  • 강재덕;신용진
    • 한국전기전자재료학회논문지
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    • 제14권2호
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    • pp.163-168
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    • 2001
  • This dissertation describes the development of a sensor for measuring microscopic displacement where we use CoFeSiB amorphous alloy magnetic ribbon having near zero magnetostrictive properties. For the development of the sensor, we first fabricate amorphous alloy magnetic ribbon, and then investigate its physical and magnetic properties. Finally, its possibility of practical application as a displacement sensor is discussed. The experimental samples were made of near zero magnetostrictive (Co$\_$0.94/Fe$\_$0.06/)$\_$9/Si$_2$B$\_$19/ alloy which were fabricated by a rapid liquid quenching method. As a results, we got amorphous alloy magnetic ribbons of 12㎛ in thickness, 10 mm in length, and 2.5 m in width. It was found that the crystallization temperature and the Curie temperature are around 451$\^{C}$ and around 441$\^{C}$ respectively. We couldn't observe any noticeable change of the impedance frequency of 10MHz, but observed the impedance change of 3.76 %/Oe at 100 MHz. The inductance was nearly stable over the frequency range of 1∼10 MHz, In addition, it was observed that the variation of the inductance and the impedance were linear within the displacement ranges of 20∼60㎛. As the results of the experiments, it is suggested that the displacement sensor which is fabricated by using amorphous alloy magnetic ribbon of (Co$\_$0.04/Fe$\_$0.06/)$\_$79/Si$_2$B$\_$19/ compound, can be used as a sensor to detect microscopic displacement.

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