Zhao, Pu Su;Guo, Zhi Yan;Sui, Jing;Wang, Jing;Jian, Fang Fang
Bulletin of the Korean Chemical Society
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제32권1호
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pp.49-52
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2011
A dinuclear copper(II) complex of [$Cu_2(aceace)_4$(dipyph)] [aceace = acetylacetone, dipyph = 1,4-di(4-pyridylethene-2-yl-)benzene] has been synthesized and characterized by elemental analysis, IR and X-ray single crystal diffraction. It crystallizes in the monoclinic system, space group P21/c, with lattice parameters a = 7.9584(16) $\AA$, b = 18.594(4) $\AA$, c = 15.063(4) $\AA$$\beta=120.97(2)^o$ and $M_r$ = 807.85 ($C_{40}H_{44}Cu_2N_2O_8$), Z = 2. Each of the $Cu^{2+}$ ion adopts a square pyramid geometry and coordinates with four oxygen atoms from two aceace ligands and one nitrogen atom from dipyph bidentate ligand. Magnetic measurement shows that the Weiss constant and Curie constant for the title compound are -0.22 K and 0.1154 emu K/mol, respectively. Thermal stability data indicate that the title complex undergoes two steps decomposition and the residue is $Cu_2O_4$. In the potential range of -1.5 ~ 0.8 V, the title complex represents an irreversible electrochemical process.
Statement of problem. Nano-scale calcium-phosphate coating on the anodizing titanium surface using ion beam-assisted deposition (IBAD) has been recently introduced to improve the early osseointegration. However, not much is known about their surface characteristics that have influence on tissue-implant interaction. Purpose. This study was aimed to investigate microtopography, surface roughness, surface composition, and wettability of the titanium surface modified by the anodic oxidation and calcium phosphate coating using IBAD. Material and methods. Commercially pure titanium disks were used as substrates. The experiment was composed of four groups. Group MA surfaces represented machined surface. Group AN was anodized surface. Group CaP/AN was anodic oxidized and calcium phosphate coated surfaces. Group SLA surfaces were sandblasted and acid etched surfaces. The prepared titanium discs were examined as follows. The surface morphology of the discs was examined using SEM. The surface roughness was measured by a confocal laser scanning microscope. Phase components were analyzed using thin-film x-ray diffraction. Wettability analyses were performed by contact angle measurement with distilled water, formamide, bromonaphtalene and surface free energy calculation. Results. (1) The four groups showed specific microtopography respectively. Anodized and calcium phosphate coated specimens showed multiple micropores and tiny homogeneously distributed crystalline particles. (2) The order of surface roughness values were, from the lowest to the highest, machined group, anodized group, anodized and calcium phosphate deposited group, and sandblasted and acid etched group. (3) Anodized and calcium phosphate deposited group was found to have titanium and titanium anatase oxides and exhibited calcium phosphorous crystalline structures. (4) Surface wettability was increased in the order of calcium phosphate deposited group, machined group, anodized group, sandblasted and acid etched group. Conclusion. After ion beam-assisted deposition on anodized titanium, the microporous structure remained on the surface and many small calcium phosphorous crystals were formed on the porous surface. Nanoscale calcium phosphorous deposition induced roughness on the microporous surface but hydrophobicity was increased.
A stoichimetric mixture of evaporating materials for $AgInS_2$ single crystal thin films was prepared from horizontal furnace. To obtain the single crystal thin films. $AgInS_2$mixed crystal was deposited on thorughly etched semi-insulating GaAs(100) substrate by the Hot wall Epitaxy (HWE) system. The source and substrate temperatures were $680^{\circ}C$ and $410^{\circ}C$, respectively. The crystalline structure of the single thin films was investigated by the photoluminescence and double crystal X-ray diffraction(DCXD). The carrier density and mobility of $AgInS_2$ single crystal the films measured from Hall effect by van der Pauw method are $9.35\times 10^{16}/\terxtm{cm}^3$ and $294\terxtm{cm}^2$/V.s at 293 K, respectively. From the optical absorption measurement the temperature dependence of the energy band gap on AgInS$_2$ single crystal thin film was found to be $E_g$(T)= 2.1365eV-($9.89\times 10^{-3}eV/T^2$/(2930+T). After the as-grown $AgInS_2$ single crystal thin films was annealed in $Ag^-S^-$ and In-atmospheres, the origin of point defects of AgInS$_2$ single crystal the films has been investigated by using the photoluminescence(PL) at 10K. The native defects of $V_{Ag},V_s, Ag_{int}$ and $S_{int}$ int/ obtained from PL measurements were classified as a donors or acceptors type. And we concluded that the heat-treatment in the S-atmosphere converted $AgInS_2$ single crystal thin films to an optical p-type. Also, we confirmed that In in $AgInS_2$ /GaAs did not form the native defects because In is $AgInS_2$ single crystal thin films did exist in the form of stable bonds.
$SnO_2$ gas sensor for the detection DMMP, simulant of nerve gas was fabricated and its characteristics were examined. Sensing materials were $SnO_2$ added by TEX>$\alpha$-$Al_{2}O_{3}$ with 0∼20wt.% and $In_{2}O_{3}$ with 0∼3wt.% and were physically mixed each material. They were deposited by screen printing method on alumina substrate. The sensor was consisted of sensing electrode with interdigit(IDT) type in front and a heater in back side. Its dimension was 7$\times$10$\times$0.6$\textrm{mm}^2$. Crystallite size 8t phase identification, specific surface area and morphology of fabricated $SnO_2$ powders were analyzed by X-ray diffraction(XRD), surface area analyzer(BET) and by a scanning electron microscope(SEM), respectively. Sensor was measured as flow type and sensor resistance change was monitored as real time using LabVIEW program. The best sensitivities were 75% at adding 4wt.% TEX>$\alpha$-$Al_{2}O_{3}$, operating temperature $300^{\circ}C$ and 87% at adding 2wt.% $In_{2}O_{3}$, operating temperature $350^{\circ}C$ to DMMP 0.5ppm. Response and recovery times were about 1 and 3 min., respectively. Repetition measurement was very good with $\pm$3% in full scale. As a result, operating temperature was lower TEX>$\alpha$-$Al_{2}O_{3}$ than $In_{2}O_{3}$, but sensitivity was higher $In_{2}O_{3}$ than $\alpha$-$Al_{2}O_{3}$.
대구경, 고품질 GaN 단결정 기판은 HVPE 방법을 이용하여 제조하였다. 이때 성장 방법은 기판인 $Al_2O_3$ 단결정 기판을 질화처리 하였으며, 이종기판 성장 시 야기되는 격자 불일치와 성장 후 냉각동안에 열팽창 계수의 불일치로 야기되는 휨이나 crack 발생을 제거하기 위하여 step-growth 방법을 사용하였다. 사파이어 위에 성장된 GaN의 기판은 두께가 380um이며, 직경은 3"로 crack 발생은 없었으며, $600^{\circ}C$에서 레이저 분리 방법을 이용하여 사파이어와 분리하였다. 그러나 분리된 기판은 이종기판과의 접촉면에서 고밀도 결함발생으로 인하여 휨이 발생하였으며, 표면을 연마한 후 DCXRD의 FWHM은 107 arcsec, PL을 이용한 결함밀도는 $6.2\times10^6/cm^2$으로 나타났다.
The electrical and mechanical properties in indium-tin-oxide films deposited on polymer substrate were examined. The materials of substrates were polyethersulfone (PES) which have gas barrier layer and anti-glare coating for plastic-based devices. The experiments were performed by rf-magnetron sputtering using a special instrument and buffer layers. Therefore, we obtained a very flat polymer substrate deposited ITO film and investigated the effects of buffer layers, and the instrument. Moreover, the influences of an oxygen partial pressure and post-deposition annealing in ITO films deposited on polymer substrates were clarified. X-ray diffraction observation, measurement of electrical property, and optical microscope observation were performed for the investigation of micro-structure and electro-mechanical properties, and they indicated that as-deposited ITO thin films are amorphous and become quasi-crystalline after adjusting oxygen partial pressure and thermal annealing above $180^{\circ}C$. As a result, we obtained 20-25 ${\Omega}/sq$ of ITO films with good transmittance (above 80 %) of oxygen contents with under 0.2 % and vacuum annealing. Furthermore, using organic buffer layer, we obtained ITO films which have a rather high electrical resistance (40-45 ${\Omega}/sq$) but have improved optical (more than 85 %) and mechanical characteristics compared to the counterparts. Consequently, a prototype reflective color plastic film LCD was fabricated using the PES polymer substrates to confirm whether the ITO films could be realized in accordance with our experimental results.
Nguyen, Thuy Duong;Nguyen, Anh Son;Thai, Thu Thuy;Pham, Gia Vu;To, Thi Xuan Hang;Olivier, Marie-Georges
Corrosion Science and Technology
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제19권1호
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pp.16-22
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2020
It is important to realize that benzoate was intercalated into hydrotalcite (HTC-Bz) by the co-precipitation method. In this case, acrylic coating with 0.5 wt% HTC-Bz was deposited on carbon steel using the spin coating method. Next, the HTC-Bz structure was characterized by Field emission scanning electron microscopy (FESEM), X-ray diffraction (XRD), and Fourier transform infrared spectroscopy (FT-IR). In fact, an ultraviolet vision spectroscopy (UV-Vis) was used to determine the benzoate content in HTC-Bz, and the UV absorption ability of HTC-Bz. Using electrochemical techniques, water contact angle measurement, and thermal-gravimetric analysis, we compared the protective properties before and after QUV test, hydrophobicity and the thermal stability of acrylic coating containing HTC-Bz. The obtained results showed that HTC-Bz with a plate-like structure was successfully synthesized; benzoate was intercalated into the interlayer of hydrotalcite with a concentration of 28 wt%. Additionally, it was noted that HTC-Bz has an UV absorption peak at 225 nm. In conclusion, the addition of HTC-Bz enhanced the UV stability, hydrophobicity and the thermal stability of acrylic coating.
Dao, Anh Tuan;Phan, Thi Kieu Loan;Nguyen, Van Hieu;Le, Vu Tuan Hung
전기전자학회논문지
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제17권2호
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pp.182-188
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2013
Using a ceramic target ZnO:In with In doping concentration of 2%, hetero-junctions of n-ZnO:In/p-Si and p-ZnO:(In, N)/n-Si were fabricated by depositing Indium doped n - type ZnO (ZnO:In or IZO) and Indium-nitrogen co-doped p - type ZnO (ZnO:(In, N)) films on wafers of p-Si (100) and n-Si (100) by DC magnetron sputtering, respectively. These films with the best electrical and optical properties were then obtained. The micro-structural, optical and electrical properties of the n-type and p-type semiconductor thinfilms were characterized by X-ray diffraction (XRD), RBS, UV-vis; four-point probe resistance and room-temperature Hall effect measurements, respectively. Typical rectifying behaviors of p-n junction were observed by the current-voltage (I-V) measurement. It shows fairly good rectifying behavior with the fact that the ideality factor and the saturation current of diode are n=11.5, Is=1.5108.10-7 (A) for n-ZnO:In/p-Si hetero-jucntion; n=10.14, Is=3.2689.10-5 (A) for p-ZnO:(In, N)/n-Si, respectively. These results demonstrated the formation of a diode between n-type thin film and p-Si, as well as between p-type thin film and n-Si..
유리 기판위에 dc magnetron sputtering 방법으로 제작한Fe(50 $\AA$)/[Co(17 $\AA$)/Cu(24 $\AA$)]20 다층박막에 관하여 자기저항비의 기저층, 자성층, 비자성층의 증착률 및 열처리 의존성을 살펴보았다. 낮은 base 압력 중에서의 막의 증착은 Co/Cu 계면의 산화를 억제하여 자기저항비를 장가시켰다. 극대 자기저항비를 얻기위해 요구되는 증착률은 Fe는 1$\AA$)/s 이상, Cu는 2.8 $\AA$)/s 이었으며 Co는 증착률이 2 $\AA$/s 보다 높은 경우에 평탄한 자구형성을 이루어 자기적 향비가 높아지는 경향을 보였다. 40$0^{\circ}C$까지의 시료에 대한 역처리는 다층박막의 주기성을 유지한채 더 큰 결정립을 형성시켜 반강자성적으로 결합한 막의 부분이 증가함으로써 자기저항비를 증가시켰다.
Bae, Byoung-Jae;Lee, Kwang-Yeol;Seo, Won-Seok;Miah, Md. Arzu;Kim, Keun-Chong;Park, Joon T.
Bulletin of the Korean Chemical Society
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제25권11호
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pp.1661-1666
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2004
The reaction of titanium tetraisopropoxide with 2 equiv of N,N-diethyl acetoacetamide affords Ti($O^iPr)_2(CH_3COCHCONEt_2)_2$ (1) as colorless crystals in 80% yield. Compound 1 is characterized by spectroscopic (Mass and $^1H/^{13}C$ NMR) and microanalytical data. Molecular structure of 1 has been determined by a single crystal X-ray diffraction study, which reveals that it is a monomeric, cis-diisopropoxide and contains a six coordinate Ti(IV) atom with a cis($CONEt_2$), trans($COCH_3$) configuration (1a) in a distorted octahedral environment. Variable-temperature $^1H$ NMR spectra of 1 indicate that it exists as an equilibrium mixture of cis, trans (1a) and cis, cis (1b) isomers in a 0.57 : 0.43 ratio at -20$^{\circ}C$ in toluene-$d_8$ solution. Thermal properties of 1 as a MOCVD precursor for titanium dioxide films have been evaluated by thermal gravimetric analysis and vapor pressure measurement. Thin films of pure anatase titanium dioxide (after annealing above 500$^{\circ}C$ under oxygen) have been grown on Si(100) with precursor 1 in the substrate temperature range of 350- 500$^{\circ}$ using a bubbler-based MOCVD method.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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