• 분석과학
• /
• 제11권6호
• /
• pp.485-494
• /
• 1998

질산불용성합금의 특성을 갖는 Mo-Ru-Rh-Pd 합금을 만들어 XRD, WDX, EDX, ICP 분석을 하였다. XRD 분석결과 이 합금은 육방밀집(hcp) 구조와 $P6_3/mmc$의 공간군을 갖는 것으로 나타났다. EPMA 분석시 최적 가속전압은 15 kV였으며 Tc을 제외한 Zr~Cd 표준시편의 원자번호와 X-선 세기간의 직선성을 나타내는 R값은 0.998 범위였다. 내삽법에 의한 WDX 분석과 표준시편을 사용한 WDX 분석에서 구한 X-선 계수비를 비교한 결과 Mo, Pd은 표준시편을 사용한 WDX분석에 비해 0.1% 낮게 검출되었고 Ru, Rh은 약 3% 높게 검출되었다. 이 합금은 염산 12.5대 질산 1의 혼합산으로 $220^{\circ}C$, 22시간 용해시켰을 때 완전히 녹았으며 1N-HCl로 100배 희석시 재침전이 없었다. ICP 분석결과는 표준시편을 사용한 WDX분석에 대해 4% 이하의 편차를 보였다.

• 한국원자력학회:학술대회논문집
• /
• 한국원자력학회 1995년도 추계학술발표회논문집(2)
• /
• pp.723-728
• /
• 1995

Alloy 600 표면에 레이저 빔을 이용하여 Ni, Cr 흔합분말 및 순수 Cr 분말로 표면합금층을 만들었다. 표면 합금층은 모재와 정합계면를 이루고 있으며 레이저 표면용용 시편에서와 같이 크게 면선단 응고부와 셀룰라 응고부로 나눌 수 있고, 모재에는 레이저 처리과정에서 생긴 수십 $\mu\textrm{m}$ 두께의 열영향 부위가 존재하였다. 그리고 합금층 내부에는 레이저 표면 용용된 시편과 달리 구형의 커다란 기공(pores)이 존재하였다. 레이저 표면 합금층에서 합금원소의 조성 분포를 조사하기 위해 레이저 처리된 시편에 대해 WDX 분석을 하였고, 합금층 내부에 Ni, Cr, Fe 원소의 조성 분포는 매우 균일하였다.

• 한국결정성장학회지
• /
• 제8권3호
• /
• pp.419-423
• /
• 1998

형석$(CaF_2)$ 단결정 내부에 형성되는 다양한 결함에 대하여 현미경관찰, 성분분석 및 투과율분석을 하고 광투과에 미치는 영향을 고찰하였다. 내부 cavity의 종류로는 bubble과 결정면을 포함하는 공공형태의 negative crystals이 있으며, 특히 negative crystals이 결정에 고루 퍼져있는 경우, UV-Visible 파장영역에서 약 3%의 투과율 저하현상이 나타났다. 또한, 결정내부의 석출물은 주로 내부 cavite에 형성됨을 WDX 분석을 통하여 확인할 수 있었다. Violet colored 결정은 non-colored 결정에 비하여 전위밀도가 3배 정도 높았고, 성분분석 F이온이 적은 Ca와 F의 원자비가 나타내었다. 이러한 결과로 F이온의 부족으로 인하여 형성된 violet 색상이 발생되었음을 간접적으로 알 수 있었다.

• Restorative Dentistry and Endodontics
• /
• 제29권1호
• /
• pp.36-43
• /
• 2004

The purpose of this study was to compare the microhardness and the fluoride content of enamel and dentin around fluoride- or non fluoride-containing restorations. Forty extracted human teeth were used and prepared cervical cavities on proximal surface. Experimental teeth were divided into five groups . Group 1 : Prime & Bond NT and Z100, Group 2 Prime & Bond NT and F2000, Group 3 : Scotchbond Multi-purpose and Z100, Group 4 : Scothcbond Multi-purpose and F2000, Group 5 : Fuji II LC. The cavities were filled with dentin adhesives and restorative materials. After each tooth was bisected, one half was tested microharaness and the other half was analyzed the fluoride at the enamel and dentin by an EPMA-WDX device. The results were as follows; 1. There was no statistical difference among the microhardness of enamel surface in all group. 2. The microhardness at dentin of $100{\;}\mu\textrm{m}$ point in Group 2 and $20{\;}\mu\textrm{m}$ point in Grocup 4 was lower than that of normal dentin (p>0.05). 3. There was no statistical difference among the fluoride content of enamel surface in all group. 4. The fluoride content at the dentin of $30{\;}\mu\textrm{m}$ point in Group 2 and 5 were higher than those at $100{\;}\mu\textrm{m}{\;}and{\;}200{\;}\mu\textrm{m}$ point in Group 2 and normal dentin (p<0.05). 5. At the dentin of $30{\;}\mu\textrm{m}$ point, Group 2 showed higher fluoride content than Group 1 and 3, and Group 5 showed higher fluoride content than other groups.

• 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
• /
• 한국전기전자재료학회 2004년도 하계학술대회 논문집 Vol.5 No.1
• /
• pp.332-335
• /
• 2004

Boron Phosphide films were deposited on(III) Si substrate at $650^{\circ}C$, by the reaction of $B_2H_6$ with $PH_3$ using CVD. $N_2$ was employed as carrier gas. The optimal gas rates were 20 ml/min for $B_2H_6$, 60 ml/min for $PH_3$ ml/min and $1{\ell}/min$ for $N_2$. The films were annealed for 1hour in $N_2$ ambient at $550^{\circ}C$ and measured. The measurement of AFM shows that the average surface roughness is each $10.108{\AA}$ and $29.626{\AA}$. So, we could know every commonplace thing. The measurement of XRD shows that the films have the preferred orientation of(1 0 1). From SEM images, we could see that Boron Phosphide is showed of a structure, which is grain size, which is grain boundary size. Also, the measurement of AES is shown the films have $B_{13}P_2$ Stoichiometry. From WDX See that ingredient is detected each Boron and Phosporus. So, we could see that deposited BP thin film. In this study, we obtained the BP thin film by deposited in atmosphere pressure, and known to applicate as microwave absorbtion material of BP thin film.

• 한국주조공학회지
• /
• 제9권4호
• /
• pp.320-326
• /
• 1989

Titanium-Boron-Aluminium master alloys are used extensively to grain-refine a wide range of aluminium alloys. This experiment was performed by various amounts of AlTi5B1 addition to the technical aluminium alloys, and also by changing cast temperature and hold time of the melts. The macrostructures were shown that with increasing the addition of AlTi5B1 to the melts, the grain became finer. In the case of cast temperature high enough over $900^{\circ}C$, the grain became coarser, but hold time change not affected on the grain refinement. Particles of $TiAl_3$, and $TiB_2$ were found in the grains and grainboundaries. The important role of grain refinement in this experiment were mainly $TiAl_3$, and also $TiB_2$ those have been confirmed in TEM, SEM, EDS, WDX and X-ray diffraction.

• 한국표면공학회지
• /
• 제30권2호
• /
• pp.144-154
• /
• 1997

Effects of plasma nitriding on the surface charcteristice of stainless steel(SS) were investjgated by utilizing wear tester, micro-hardness tester and potentiostat. The surface and corrosion morphology of plasma nitrided SS were analyzed by utilizing optical microscopy, SEM, XRD and WDX. It was found that plasma nitriding at $550^{\circ}C$, compared with $380^{\circ}C$, prodiced a good wear resistance and hardness as nitriding time increased, whereas Mo addition showd that were resistance and hardness decreased. Intergranular corrosion(IGC) resistance improved significantly in the case of plasma nirtrided SS containing 4.05wt% Mo at $380^{\circ}C$ because that nitrogen and Mo ast syner gidically to form a protective layer on surface which is responsible for the aggresive SCN-ion. Plasma nitrided at $550^{\circ}C$ decreased IGC as Mo content increased. Pitting improved in the plasma nitirided SS at Mo content incresased owing to retard a nucleation and growth of chromium carbide or nitirde in grain boundary.

• 한국재료학회지
• /
• 제3권1호
• /
• pp.33-42
• /
• 1993

세라믹스를 공업분야에 응용범위를 확대하기 위한 최선의 수단으로 금속과의 복합화를 들수 있다. 금속과 복합화하는 방법중에서 세라믹스/금속접합은 부품의 제조등에 이용될 수 있는 수단으로 많은 연구가 행하여져서 이미 몇몇 부품에 대해서는 실용화가 되고 있고 현재에도 활발히 연구가 되고 있다. 따라서 본 연구에서는 여러가지 접합법중에서도 비교적 공정이 간편한 활성 브레이징법을 이용해 $Al_2$$O_3$ 와 304 스테인레스강을 접합하였으며 이때 삽입금속으로는 Cu-Ti합금을 사용하였고 접합온도 및 접합시간 범위는 각각 110$0^{\circ}C$-120$0^{\circ}C$, 0.5h-1.5h, 그리고 브레이징로 내의 분위기는 $10^{-3}$-$10^{-4}$ torr로 유지하였다. 접합후 접합부 조직에 대한 접합조건의 영향을 검토하고 반응생성물을 EDX, WDX 및 XRD을 이용해 분석하였으며 반응층형성을 위한 계면화학반응을 고찰하였다. 그 결과 알루미나와 삽입금속의 계면에서 접합을 유도하는 반응층은 T$i_2$$O_3$임을 확인할 수 있었다.

• 한국재료학회지
• /
• 제4권6호
• /
• pp.669-680
• /
• 1994

합금원소(Cr, V, Si. Mo, Nb)가 첨가된 TiAi 금속간화합물의 고온 산화거동을 대기중의 900~$1100^{\circ}C$에서 관찰하였다. 산화반응물은 XRD, SEM, WDX을 이용하여 분석하였다. 등온 산화에 있어서 Cr과 V이 각각 첨가된 시편은 무게증가가 많았으나, Si, Mo, Vb가 각각 첨가된 시편은 상대적으로 무게증가각 적었아. 그리고, Cr과 V이 각각 첨가된 시편의 산화속도는 TiAi의 그것보다 항상 크게 나타났으며, Si, Mo, Vb가 각각 첨가된 시편의 산화속도는 TiAi의 그것보다 향상되지 않고, Si, Mo또는 Nb 첨가는 내산화성을 향상시킨다. Si, Mo, Nb이 각각 첨가된 TiAI합금표면에 형성된 산화물은 보호막 역할을 함으로 산소와 합금원소의 확산을 감소시키는 역할을 하였다. 특히, Nb는 산화의 초기단계에서는 $AI_{2}O_{3}$를 형성하려는 경향이 강하기 때문에 연속적인 $AI_{2}O_{3}$층과 조밀한 $Tio_{2}+AI_{2}O_{3}$ 혼합층이 형성되었다. Nb가 첨가된 합금의 백금 marker 실험결과에 따르면, 산소가 주로 합금내부로 확산하여 합금표면에서 산화물을 형성하였다. $900^{\circ}C$에서의 열반복주기(thermal cyclic)산화실험 결과, 다른 합금원소와 비교해 볼 때 Cr또는 Nb첨가가 금속기지와 산화층간의 접착력을 향상시키는 것으로 나타났다.

• 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
• /
• 한국전기전자재료학회 2004년도 추계학술대회 논문집 Vol.17
• /
• pp.243-246
• /
• 2004

Boron Phosphide films were deposited on (111) Si substrate at $650^{\circ}C$, by the reaction of $B_2H_6$ with PH, using APCVD. $N_2$ was carried out as carrier gas. The optimal gas rates were 20 ml/min for B2H6, 60 ml/min for PH3 and 1 l/min for N2. After as grown the films were insitu annealed fur 1hour in $N_2$ ambient at $550^{\circ}C$ and measured. The measurement of AFM shows that the average surface roughness is $10.108{\AA}$ for the reaction temperature at $450^{\circ}C$ and $29.626{\AA}$ fur the reaction temperature at $650^{\circ}C$. The measurement of XRD shows that the films have the orientation of(1 0 1). Also, the measurement of AES is shown that the films have $B_{13}P_2$ stoichiometry. For the Result of microwaves absorbtion properties using VNA, it obtained the permittivity of BP about 8 between $1.5{\sim}2.5GHz$. In this study, it obtained the BP thin film by deposited in atmosphere pressure And BP thin film can be after to applicate as microwave absolution material is obtained.