• 에너지공학
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• 제24권4호
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• pp.175-182
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• 2015

발전소 안전성 평가 시 최적해석 코드를 사용함으로써 코드 모델의 보수성을 최소화하고, 해석 조건의 보수성을 확보하도록 다양한 범위의 초기조건을 표본 추출하여 결정하는 방법을 수립하였다. 제시된 방법론의 적용성을 확인하기 위하여 국내 경수로를 참조발전소로 선정하고 첨두 압력이 주요 안전기준이 되는 복수기 진공상실사고에 대한 안전성평가를 수행하였다. MOSAIQUE 프로그램을 이용하여 100가지 다른 초기조건을 생성하고, 자동적으로 과도해석을 수행함으로써 가장 보수적인 결과에 대한 첨두 압력을 얻을 수 있었다. 새로운 방법론에 의해 얻어진 안전여유도는 기존의 방법론과 유사한 수준을 가졌는데, 안전성 평가를 위해 소요되는 시간과 노력을 획기적으로 줄일 수 있음을 확인하였다.

• 한국진공학회:학술대회논문집
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• 한국진공학회 2011년도 제41회 하계 정기 학술대회 초록집
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• pp.337-337
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• 2011

Application of plasma technology on microbial sterilization has been frequently studied. In spite of accumulating number of studies, many have been focused on bacteria. Reports on eukaryotic yeasts and filamentous fungi are limited. In addition, mechanism of plasma effect still needs to be clarified. In this study, we analyzed the effect of non-thermal atmospheric pressure plasma on the budding yeast, Saccharomyces cerevisiae using DBD-type device. When yeast cells were exposed to plasma (at 2 mm distance) and then cultured on YPD-agar plate, number of cells survived (shown as colony) were reduced proportionally to exposure time. More than 50% reduction in number of colonies were observed after twice exposure of 5min. each. Colonies much smaller than those of control (no plasma exposure) were appeared after twice exposure of 5 min. each. It seems that small colonies are resulted from delayed cell growth due to the damage caused by plasma treatment. Microscopic analysis demonstrates that yeast cells treated with plasma for 5 min. twice have more rough and shrinked shape compared to oval shape with smooth surface of control.

• 한국진공학회:학술대회논문집
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• 한국진공학회 2010년도 제39회 하계학술대회 초록집
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• pp.168-168
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• 2010

Transparent conduction oxides (TCOs) films is extensively reported for optoelectronic devices application such as touch panels, solar cells, liquid crystal displays (LCDs), and organic light emitting diodes(OLEDs). Among the many TCO film, indium tin oxide(ITO) is in great demand due to the growth of flat panel display industry. However, indium is not only high cost but also its deposits dwindling. Therefore, many studies are being done on the transparent conductive oxides(TCOs). We fabricated a target of IZTO(In2O3:ZnO:SnO2=70:15:15 wt.%) reduced indium. Then, IZTO thin films were deposited on glass substrates by pulsed DC magnetron sputtering with various oxygen flow ratio. The substrate temperature was fixed at the room temperature. We investigated the electrical, optical, structural properties of IZTO thin films. The electrical properties of IZTO thin films were dependent on the oxygen partial pressure. As a result, the most excellent properties of IZTO thin films were obtained at the 3% of oxygen flow rate with the low resistivity of $7.236{\times}10^{-4}{\Omega}cm$. And also the optical properties of IZTO thin films were shown the good transmittance over 80%. These IZTO thin films were used to fabricated organic light emitting diodes(OLEDs) as anode and the device performances studied. The OLED with an IZTO anode deposited at optimized deposition condition showed good brightness properties. Therefore, IZTO has utility value of TCO electrode although it reduced indium and we expect it is possible for the IZTO to apply to flexible display due to the low processing temperature.

• 한국지하수토양환경학회지:지하수토양환경
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• 제6권3호
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• pp.3-12
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• 2001

본 시험은 제주지역 화산회토에서 pressure-vacuum soil water sampler를 이용하여 시비 양분의 토양깊이별 이동상태를 조사하기 위하여 실시하였다. lysimeter(single chamber : model SW-071)를 각각 20, 40, 60, 80, 100, 120cm의 깊이에 매설한 후 전작물로는 옥수수, 후작물로는 감자를 재배하면서 강우시 침투수를 채수하여 pH및 양, 음이온의 농도를 조사하였다. 시비량은 질소-인산-가리를 옥수수는 36-30-30kg씩, 감자는 28-22-24kg씩 각각 파종전에 시용하였다. 채취한 침투수중 Cl, $NO_3$-N, $Ca^{+2}$, $K^{+}$의 평균농도는 시비 1개월 후에 20~40cm 깊이에서 급격하게 높아진 후 농도가 점차 낮아지면서 심토층으로의 하향 이동이 계속되어 5개월 후에는 시험 전 토양과 비슷한 수준이 되었다. 심토층(120cm)에서의 $NO_3$-N은 시비 1~l.5개월 후 그 농도가 가장 높았고, 다른 양이온도 비슷한 경향을 보였다. 용탈수의 PH와 $NO_3$-N은 부의 상관을 보였고, $NO_3$-N과 양이온간에는 고도의 정의 상관을 보여 $NO_3$-N이 표토에서 심토층으로 하향이동시 $Ca^{+2}$, $K^{+}$, $Mg^{+2}$ 등의 양이온도 동반용탈되는 것으로 조사되었다.

• KSBB Journal
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• 제16권3호
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• pp.233-236
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• 2001

원료 의약품의 경우 정제된 최총제품 내려 잔류용매 제거는 매우 중요하다. 일반적인 진공건조 방법에 의한 제품생산시 case hardening 효과 때문에 잔류용매획 제거가 상당히 어렵다. 본 연구에서는 초임제 이산화탄소를 아용하여 정제된 paclitaxel 내의 methylene chloride와 methanol 의 잔류용매를 효과적으로 제거하였다. 초임계 이산화탄소를 이용하여 $40^{circ}C$, 80 bar에서 30분간 조업하였율 경우 최초 최종제품 내 잔류 용매인 methylene chloride 와 methanol이 각각 5,869 ppm과 2,135 ppm에서 468 ppm과 403 ppm으로 줄어 ICH 규정치를 충분히 만족시킬 수 있다. 이러한 연구 결과는 초임계 유체의 새로운 응용 분야를 개척하고 많은 원료 의약품의 잔류용매 제거에 효과적으로 사용할 수 있을 것으로 사료된다.

• 보존과학연구
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• 통권13호
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• pp.69-80
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• 1992

A great numbers of cultural properties destroyed though attack by insect pests and microorganisms. Biodeterioration damage is particularly serious in this country because many cultural propertiese are made of organic materials. Recently, there are various countermeasures of biodeterioration or alternative methods are reported, such as Gamma Radiation, Micro-wave Irridation, Freezing, Inert Atmosphere (Oxygen-less atmosphere), and Environmental Control. However its practical application are limited and some difficulties for treatment of large objects. Fumigation is one of the most useful and effective methods of control biodeterioration because it gives less damage of cultural properties but rapidly eradicate infesting organisms at one action. This paper evaluated selected fumigants and fumigation methods with emphasis on the following paragraph:1) Effectiveness of selected fumigants on insects and microbes involved inbiodeterioration.2) Physical and chemical characters of selected fumigants.3) Less toxic new alternative fumigant and its mixtures.4) Inert atmosphere (Oxygen-less atmosphere)5) Methods of fumigation : Sealed fumigation, Covered fumigation and Vacuum fumigation (Reduced-pressure fumigation)

• Journal of the Korean Wood Science and Technology
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• 제39권2호
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• pp.132-139
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• 2011

This study examined the characteristics of radio-frequency/vacuum dried Korean red pine ($Pinus$ $densoflora$) heavy timbers with 250 ${\times}$ 250 mm (S), 300 ${\times}$ 300 mm (L) in cross section and 300 mm in diameter, and 3,600 mm in length, which were subjected to compressive loading after a kerf pretreatment. The following results were obtained : The drying time was short and the drying rate was high in spite of the large cross section of specimens. The moisture gradient inall specimens was gentle in both longitudinal and transverse directions owing to dielectric heating. The shrinkage of the width in the direction perpendicular to was 21 percent ~ 76 percent of that of the thickness of square timbers in the direction parallel to the mechanical pressure. The casehardening for all specimens was very slight because of significantly reduced ratio of the tangential to radial shrinkage of specimens and kerfing. The surface checks somewhat severely occurred although the occurrence extent of the surface checks on the kerfed specimens was slight compared withthat on the control specimen.

• 한국자기학회지
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• 제10권1호
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• pp.11-15
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• 2000

수분사법으로 제조된 13Cr-1.5Nb-Fe 합금분말을 수소분위기 하에서 환원처리 하였다. 분말특성이 조사된 환원분말을 이용하여 자기코아를 제작한 후 약 $10^{-5}$Torr의 진공분위기에서 소결하였다. 자기코아의 교류자기특성을 조사하기 위하여 투자율과 자기손실을 조사하였다. 환원분말의 입도분포는 약 70$\mu\textrm{m}$에서 50% vol.을 나타내며, 포화자화 값은 약160 emu/g이었다. 10ton/$\textrm{cm}^2$ 성형압력, 1,20$0^{\circ}C$ 소결온도에서 제작된 자기코아의 교류투자율은 주파수, f=1 kHz, 인가자장, H$_{a}$ =5 Oe에서 400이다. 또한 동조건에서 제작된 자기코아의 교류자기이력손실은 유도자화, B$_{m}$ =80G에서 0.12mW/cc이다.

• 한국재료학회지
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• 제19권2호
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• pp.68-72
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• 2009

This study investigated dry etching of acrylic in capacitively coupled $SF_6$, $SF_6/O_2$ and $SF_6/CH_4$ plasma under a low vacuum pressure. The process pressure was 100 mTorr and the total gas flow rate was fixed at 10 sccm. The process variables were the RIE chuck power and the plasma gas composition. The RIE chuck power varied in the range of $25{\sim}150\;W$. $SF_6/O_2$ plasma produced higher etch rates of acrylic than pure $SF_6$ and $O_2$ at a fixed total flow rate. 5 sccm $SF_6$/5 sccm $O_2$ provided $0.11{\mu}m$/min and $1.16{\mu}m$/min at 25W and 150W RIE of chuck power, respectively. The results were nearly 2.9 times higher compared to those at pure $SF_6$ plasma etching. Additionally, mixed plasma of $SF_6/CH_4$ reduced the etch rate of acrylic. 5 sccm $SF_6$/5 sccm $CH_4$ plasma resulted in $0.02{\mu}m$/min and $0.07{\mu}m$/min at 25W and 150W RIE of chuck power. The etch selectivity of acrylic to photoresist was higher in $SF_6/O_2$ plasma than in pure $SF_6$ or $SF_6/CH_4$ plasma. The maximum RMS roughness (7.6 nm) of an etched acrylic surface was found to be 50% $O_2$ in $SF_6/O_2$ plasma. Besides the process regime, the RMS roughness of acrylic was approximately $3{\sim}4\;nm$ at different percentages of $O_2$ with a chuck power of 100W RIE in $SF_6/O_2$ plasma etching.

• 분석과학
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• 제27권4호
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• pp.187-195
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• 2014

잠재지문이 유류된 배경과 지문과의 대조비를 높이기 위한 증강작업 시에 잠재지문의 훼손을 최소화하는 것은 매우 중요하다. 본 실험은 반다공성 표면에 유류된 잠재지문을 시아노아크릴레이트 훈증 처리 후 p-dimethylaminobenzealdehyde (DMAB) 증강시약을 사용하여 그 효과를 확인하고, 증강효과에 미치는 환경적 요인을 분석한 것이다. 실험에 사용된 모든 지문은 시아노아크릴레이트 진공 훈증 후 실온에서 24 시간 건조해 사용하였다. 시아노아크릴레이트 훈증물의 DMAB 형광염색을 위해 표면적, 온도, 기압을 달리한 조건에서 12 시간 단위로 48 시간 동안 승화시켰다. 표면적 영향에 대한 실험에서 물질의 입자크기와 용기의 크기는 DMAB의 승화속도와 형광세기에 영향을 주었다. 또한 무용매접촉법을 적용한 DMAB 형광염색은 36 시간 승화 후 최대 형광세기를 보였고, 일정 표면적 이상에서는 형광세기에 미치는 영향이 저조하였다. 온도에 관한 실험에서 DMAB는 $20^{\circ}C$의 실온에서 가장 잘 승화하였고, 최대형광 세기를 얻을 수 있는 승화시간이 48 시간에서 36 시간으로 단축되었다. 또한 $30^{\circ}C$이상의 상온에서는 오히려 적정 형광세기를 나타내는 승화시간이 길어지고, 형광세기에 미치는 영향도 미약했다. 또한 압력에 관한 실험에서는 압력의 변화가 매우 크지 않는 이상 형광세기가 비진공상태에서의 형광세기보다 약했다.