• 제목/요약/키워드: Vacuum Evaporation

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전자비임에 의해 제작된 WO$_3$ 박막의 전기적착색 특성에 대한 진공도의 효과 (The Vacuum Pressure Effects on Electrochromic Properties of Tungsten Oxide Thin Films by Electron Beam Evaporation)

  • 이길동
    • 한국에너지공학회:학술대회논문집
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    • 한국에너지공학회 1995년도 춘계학술발표회 초록집
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    • pp.41-44
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    • 1995
  • The electrochromic WO$_3$ thin films were prepared by using an electron - beam evaporation technique. The influence of the electron - beam evaporation conditions. especially the vacuum pressure, and resistance of ITO substrate on the structural and electrochromic properties of the investigated film was presented. This films showed electrochromic behavior in an aqueous electrolyte of 1 M H$_2$SO$_4$. Among these WO$_3$ thin films, films prepared at a vacuum pressure of 10$^{-4}$ mbar were found to be most stable in terms of cycling durability. The chemical stability of film against dissolution in the aqueous solution was also shown to depend on the quantity of water in the film.

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금속박막의 물리적 성질(I)(증착속도에 따르는 구조변화) (-Physical Properties of Metal Thin Film-(Changes of Structure with Evaporation Rates))

  • 백수현;조현춘
    • 대한전자공학회논문지
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    • 제24권6호
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    • pp.980-985
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    • 1987
  • The thin metal films of Cr, Al, Mn and were made in various evaporation rates with 100\ulcornerthickness under 2x10**-9 bar vacuum level. We analized and discussed the relationships between changes of structure, morphology and sheet resistance, light transmittance for the corresponding evaporation rates. As the evaporation rates were decreased at higher rates, grain sizes of all film were decreased, however both of the sheet resistance and light transmittance were increased. At lower evaporation rate, films of Cr and Cu porduced non-stoi-chiometric oxides but Al an Mn showed up amorphous structures.

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표면처리된 흑연 보트를 이용한 알루미늄의 증발 특성 (Evaporation Characteristics of Aluminum by Using Surface-treated Graphite Boat)

  • 정재인;양지훈
    • 한국표면공학회지
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    • 제42권1호
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    • pp.1-7
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    • 2009
  • Resistive heating sources are widely used to prepare thin films by vapor deposition because they are cheap, and easy to install and handle in vacuum system. Graphite is one of materials used to make the resistive heating source, but until now only limited applications have been possible as it reacts easily with evaporating materials at high temperature. In this study, evaporation characteristics of aluminum have been investigated by using graphite boat thermally treated with BN powder. The employed graphite boat has been prepared by spray-coating BN power onto the cavity surface of the boat and thermal treatment with aluminum in vacuum at the temperature of more than $1400^{\circ}C$. The voltage-current characteristics as well as resistivity changes of the graphite boat have been investigated during aluminum evaporation according to the applied voltage and time. The evaporation aspect has been picturized during flash evaporation for 40 seconds based on the characterization results. The evaporation rate of the graphite boat has been compared with that of BN boat. The graphite boat showed some different characteristics compared with BN boat, in that the evaporation occurred at the last stage of flash evaporation. The film appearance according to the applied voltage has been compared, and also the reflectance of the resulting film has been investigated according to the film thickness. It has been found that the graphite boat thermally treated with BN powder can be used for aluminum evaporation without problem.

MgO 증착률에 따른 PDP 보호막 물성 및 방전 특성 분석 (The Analysis of the Discharging Characteristics and MgO protective layer by MgO Evaporation Rates for High-Efficiency PDP)

  • 김용재;권상직
    • 한국진공학회지
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    • 제16권3호
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    • pp.181-186
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    • 2007
  • 본 연구에서는 플라즈마 디스플레이 패널의 방전 특성과 MgO 보호막 물성에 영향을 미치는 MgO 증착률에 대해 분석을 하였다. 물성 특성으로 결정 방향과 표면 거칠기 결정 구조 및 음극선 발광을 XRD (X-ray Diffraction), AFM (Atomic Force Microscopy), Mono-CL (Mono Cathode Luminescence analysis)등을 이용하여 측정하였고, 방전 특성으로는 방전개시전압과 방전 전류, 휘도를 진공 챔버와 오실로스코프 (TDS 540C), 전류 프로브 (TCP 312A), 휘도 색차계 (CS-100A)를 이용하여 측정하였다. 실험 결과 $5{\AA}/sec$의 증착률이 최적의 증착률임을 확인하였고, 또한 MgO의 증착률에 따라서 MgO 보호막의 물성특성이 변화하고 이에 의해서 전기적 광학적 특징이 영향을 받는 것을 확인하였다. 즉, 증착률 $5{\AA}/sec$을 기준으로 증착률이 증가할수록 (200) 결정 방향 및 음극선 발광의 밀도가 감소되고, 동작 전압은 증가하며 점차 효율이 나빠지는 경향을 보인다.

최적 증착 속도로 형성된 MgO를 갖는 인-라인 진공 실장된 플라즈마 디스플레이 패널의 방전 특성에 관한 연구 (A Study on Discharge Characteristics of the PDP Packaged with In-situ Vacuum Sealing with the MgO Protective Layer Deposited by Optimal Evaporation Rate)

  • 이조휘;조의식;권상직
    • 한국전기전자재료학회논문지
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    • 제21권10호
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    • pp.916-922
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    • 2008
  • AC PDP with MgO protective layer coated with the optimum evaporation rate of $5{\AA}/s$ can generate more enhanced efficiency through the vacuum in-line sealing process. However, the optimized process conditions still require the optimum driving scheme on the ramp-up and ramp-down slope of the reset waveform for enhancing the efficiency. In this paper, for the in-situ vacuum sealed PDP with the optimum evaporation rate of MgO protective layer, the address delay time was investigated with various slopes of ramp waveform during a reset ramp-up and ramp-down period. In this study, the minimum statistical delay time was obtained at the ramp-up rate of $6.0 V/{\mu}s$ and the ramp-down rate of $0.7 V/{\mu}s$ of the reset waveform.

LNG 벙커링용 이중 단열적용 LNG 저장탱크 열해석 (Thermal Analysis on the LNG Storage Tank of LNG Bunkering System Applied with Double Shield Insulation Method)

  • 정일영;김남국;윤상국
    • 한국가스학회지
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    • 제22권4호
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    • pp.1-6
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    • 2018
  • IMO에서 규정하는 LNG 벙커링 선박용 연료 탱크 중 C형 가압탱크는 내외 2중 용기로 구성된 초저온 탱크에 $10^{-2}$ Torr 진공과 펄라이트 단열재가 충전되는 것이다. 그러나 이 단열방식은 LNG 기화량이 하루당 2.0 % 내외로 증발율이 커서 보다 단열효과가 좋은 탱크가 요구되어 진다. 본 연구에서는 내외탱크 사이에 고진공을 적용하고 외부탱크의 내벽체에 중간 단열로 펄라이트 진공단열을 적용하는 단열 방식을 새로이 고안하여 열해석을 수행하였다. 이의 장점으로는 진공 공간의 감소로 고진공 형성 시간을 크게 감소되고, 진공도 $10^{-4}$ Torr 이하에서 하루당 증발율이 0.16 %에 불과한 매우 효율이 높은 탱크 단열방식이 되었다. 만약 현재의 IMO C형 탱크의 진공펄라이트 단열에서 진공이 파괴되는 경우, C형 탱크는 하루당 4.9 %의 증발이 발생하고 새 고안 탱크는 5.23 %로 거의 동일하게 된다.

E-beam evaporation을 이용하여 Si 기판위에 다양한 각도에 따라 성장된 $SiO_2$ 박막특성연구

  • 김명섭;이희관;유재수
    • 한국진공학회:학술대회논문집
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    • 한국진공학회 2011년도 제41회 하계 정기 학술대회 초록집
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    • pp.255-255
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    • 2011
  • $SiO_2$는 유전체 물질로서 고온에 강하고 열 변화에 민감하지 않으며 자외선을 잘 투과시키는 특성 때문에 각종 광전자 소자에 많이 응용되고 있다. 최근에는 classical thermal oxidation 방식을 이용하여 태양전지의 효율을 증가하기 위한 표면 보호막, 유기발광다이오드의 보호막 및 barrier로 적용되고 있다. $SiO_2$ 박막의 경우 RF-DC sputtering, thermal evaporation, plasma enhanced chemical vapor deposition, E-beam evaporation 등의 다양한 방법을 통하여 제작되고 있다. 이들 중 E-beam evaporation 법은 높은 증착속도, 증착방향성, 낮은 불순물농도 등 많은 장점을 가지고 $SiO_2$ 박막 증착이 가증하다. 따라서 본 연구에서는 Si 기판위에 $SiO_2$를 증착각도를 0$^{\circ}$, 25$^{\circ}$, 50$^{\circ}$, 70$^{\circ}$로 변화시켜 증착하였고, 증착속도, 빔 세기, 기판 회전속도 등을 변화시켰다. 또한, 증착 각도에 따른 유전율 차이를 무반사 특성 향상에 응용하기 위해 다양한 layer 층을 순차적으로 성장시켰다. 제작된 $SiO_2$의 나노구조의 구조적, 광학적 특성은 field emission scanning microscopy, atomic force microscopy, UV-VIS-NIS spectrophotometer를 이용하여 분석되었다.

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진공증착에 의해 제조된 열전 박막의 제조 특성 (Production Characteristics of Thermoelectric Film Produced by Vacuun Evaporation)

  • 김봉서;정현욱;박수동;이희웅
    • 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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    • 한국전기전자재료학회 2004년도 하계학술대회 논문집 Vol.5 No.2
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    • pp.865-868
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    • 2004
  • 열 진공 증착법(thermal vacuum evaporation)에 의해 p-형 열전박막을 $3{\times}10^{-4}{\sim}3{\times}10^{-6}$ Torr의 범위에서 유리 기판 위에 제조하였다. 제조된 박막의 전기저항은 고진공일수록 저항이 증가하였으며, $Bi_2Te_3$$Sb_2Te_3$상을 가지고 있었다. 박막의 조성은 기판의 위치에 따라 변화하였고, 원자 번호가 작을수록 위치의 영향이 크고, 반대로 원자번호가 큰 원소는 그 영향이 작았다. 또한 고진공에서 제조된 박막일수록 상대적으로 저진공에 비해 조성의 변화가 적게 나타났다.

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