The purpose of this study is to examine a proper amount of addition and a proper point for addition of titanium dioxide for the manufacture of E0 type of urea-formaldehyde resin (UF). The reduction of free formaldehyde from UF resin treated particle board was also investigated. $TiO_2$ content was 0.5%, 1% and 3% on the dry basis of UF resin. UV light was used to initiate reaction. The results of this study are as follows: 1. During UF resin manufacturing process, the second adding step of urea was proper point for $TiO_2$ addition. 2. 1 % addition of $TiO_2$ gave good values for the Eo type urea-formaldehyde resin. 3. There was no significant difference between physical properties of particle board, but the higher the adding content of titanium dioxide resulted in the lower the mechanical properties.
To improve the deep coloring effect of PET fabrics, the alkali treated and black dyed PET fabrics were treated with 2 kinds of low refractive compounds such as acrylic resin and silicone resin. The color depth effect of treated PET fabrics was evaluated as lightness(L) change by UV-visible spectrophotometer. As the weight loss of PET fiber treated with alkali increased, the color depth of PET fabrics increased. Lightness(L) of PET fabrics treated with deep coloring agent was lower than that of untreated PET fabrics. The optimum concentration of treated PET with deep coloring agent was 4% o.w.s. The deep coloring effect of PET fabrics treated with silicone resin was higher than one treated with acrylic resin. PET fabrics treated with silicone resin only might be more appropriate process than PET fabrics treated with acrylic and silicone resin for giving deep coloring effect for polyester fabrics.
To increase the ultraviolet radiation (UVR) protection of cotton fabric, ultraviolet protection (UVP) materials were treated onto cotton fabric using a new technique, UV-curing. A photocrosslinkablepolymer, poly(ethylene glycol) dimethacrylate was used as a UV-curable resin in the presence of a small amount of photoinitiator. Two kinds of UVP materials were used, UV-absorber, 2,2'-dihydroxy-4-methoxy benzophenone, and UV-scatterer, $TiO_2/ZnO$ Pad-dry-cure method in employing these materials onto cotton was also conducted to compare the effectiveness and the washfastness of UVP treatment between curing methods. UVP treated cotton fabric showed a moderate increase in UVP in case of 2,2'-dihydroxy-4-methoxy benzophenone treatment and a high increase in case of $TiO_2/ZnO$. UV-curing method increased the washfastness of UVP property of $TiO_2/ZnO$ treated cotton fabrics. However, in case of 2,2'-dihydroxy-4-methoxy benzophenone, similar wash fastnesses of UV-cured and pad-dry-cured cotton were observed. It can be presumed that 2,2'-dihydroxy-4-methoxy benzophenone was not significantly affected by water since its hydrophobicity. In short, UV-curing of UVP materials onto cotton was successfully done, and treated cotton fabrics showed the increased UVP properties and an increased washfastness in some extent.
Generally, the build-up printed circuit board manufactured by the sequential process with etching, plating, drilling etc. requires many types of equipments and lead time. Etching process is suitable for mass production, however, it is not adequate for manufacturing prototype in the developing stage. In this study, we introduce a screen printing technology to prototyping a build-up printed circuit board. As for the material, photo/thermal curable resin and conductive paste are used for the formation of dielectric and conductor. The build-up structure is made by subsequent processes such as the formation of liquid resin thin layer, the solidification by UV/IR light, and via filling with conductive paste. By use of photo curable resin, productivity is greatly enhanced compared with thermal curable resin. Finally, the basic concept and the possibility of build-up printed circuit board prototyping are proposed in comparison with to the conventional process.
문화재 복원 분야에서 3D 기술이 복원에 적용되고 있다. 그러나 아직까지 유리제 문화재의 복원에 관하여 3D 기술이 활용되어 복원된 사례가 적으며 이에 관한 연구가 필요한 상황이다. 이에 본 연구에서는 국립중앙박물관에서 소장하고 있는 보물인 금강산 출토 이성계 발원 사리장엄구 일괄 중 유리제 사리병의 결손부를 복원하는 과정에 3D 기술을 이용하였다. 보존처리는 3D 프린팅 출력물을 직접적으로 복원제로써 적용하지않고 에폭시계수지로 복제한 복원편으로 결손부를 복원하였다. 보존처리 완료 후 3D 프린팅에 사용되는 재료와 기술방식에 관하여 기존 도자기의 복원재료 중 투명성을 지닌 재료를 선택하여 사용감과 안정성을 비교하고자 하였다. 보존처리 완료 후 SLA(Stereo Lithography Apparatus)방식으로 출력한 광경화성 수지, 에폭시계 수지, 아크릴계 수지등 총 5개의 시편을 제작 한 후 96시간까지 자외선에 노출시켜 황변화를 조사하였고, 광경화성수지의 시편은 출력물에 UV차단제를 분무 여부에 따라 2종으로 나누어 자외선에 노출시켰다. 자외선 노출 결과, SLA방식 시편에 UV차단제를 분무한 시편, 에폭시계수지의 시편의 b*값의 변화값이 1 미만으로 황변화에 안정적인 것으로 나타났으며 유리제 문화재의 복원제로써 적용 가능한 재료로 보여진다. 유리제 문화재의 형태가 매우 다양하고 복원해야할 부분 또한 다양하고 복잡하여 접근하기 어려울 수 있으므로 복원재료에 대해 여러 가지 재료를 염두해두고 고민해볼 필요가 있다.
Linseed oil fatty acid(LOFA), phthalic anhydride(PAA) 및 maleic anhydride(MA), trimethylol propane(TMP)을 사용하여 기본적인 유장(oil length) 50%의 중유성 기본 알키드를 합성하고 trimethylol propane triacrylate(TMPTA)를 그라프트 공중합시켜 MA/TMPTA 변성 알키드 수지를 제조하였다. 수지의 산가는 MA 첨가량으로 제어하였으며, 수용화에는 N,N-dimethylethanol amine(DMEA)를 사용하였다. TMPTA의 첨가량 변화에 의한 분자량, 유리 전이온도, 수용화 후의 점성도 및 그라프트율을 측정하였으며, 가교도막의 경화온도별 겔분율 변화를 조사하였다. 또한 멜라민 수지 경화 도막의 내열성, 내자외선성, 내수성 및 저장 안정성을 측정하고, TMA/TMPTA 변성 알키드 수지의 물성과 비교하였다. TMPTA의 첨가량이 증가할수록 수용화 후의 점성도, 겔분율, 그라프트율 및 분자량이 증가하였으며, 유리 전이온도(Tg)는 감소하였다. 고형분 함량에 따른 점성도 변화는 고형분 30%일 때보다 40%일 때가 더 낮게 나타났으며, 중화도에 따른 점성도 변화는 중화도가 높을수록 낮은 점성도를 나타내썼다. 내열성, 내자외선성, 내수성은 MA/TMPTA 변성 알키드 수지가 TMA/TMPTA 변성 알키드 수지보다 우수하였으나, 저장 안정성은 TMA/TMPTA 변성 알키드 수지가 우수함을 알 수 있었다.
Shrinkage is inevitable in the curing of resins during the nanoimprint process. The degree of shrinkage that occurs as the resin transforms from a viscous liquid to solid differs depending on the type of resin. However, if the cured material is repeatedly cured using the same material, constant shrinkage can be confirmed. In this study, the pattern of change was observed by repeatedly performing the nanoimprint process using a resin with a constant shrinkage rate. The observed pattern for the change of shape was made using a triangular pyramid-shaped aluminum master mold and a flexible replica mold made from the master. Shrinkage that results from the nanoimprint process occurs linearly in the longitudinal direction of the pattern and can be predicted by simple calculations. The change of the pattern due to shrinkage occurred as expected. If the shrinkage rate remains constant, various patterns can be manufactured with high accuracy by correcting these changes before producing a specific shape. This study confirms that the pattern of the desired angle can be obtained by performing the repeated imprint without having to manufacture a master mold.
Kim, Jin-Kon;Kim, Jong-Won;Kim, Myung-Im;Song, Min-Seok
Macromolecular Research
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제14권5호
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pp.517-523
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2006
The effects of particle content, size and shape on the thermal conductivity (k) and adhesion properties of thermally conductive, pressure-sensitive adhesives (PSAs) were investigated. The matrix resins were thermally crosslinkable, 2-ethylhexyl acrylic polyol and ultraviolet (UV)-curable, random copolymer consisting of acrylic oligomer and various acrylates. We found that k increased with increasing diameter and particle aspect ratio, and was further enhanced due to the reduction of the interfacial thermal barrier when the coupling agent, which increases the adhesion between particles and the matrix resin, was used. On the other hand, adhesion properties such as peel strength and tack of the thermally crosslinkable resin decreased sharply with increasing particle content. However, for UV curable resin, increased particle addition inhibited the decrease in adhesion properties.
Barrier ribs for PDP(plasma display panel) are commonly utilized to have uniform height and width and to prevent opical crosstalk between adjacent cells. The requirements for such barrier ribs are uniform height and shape, low outgassing rate and low porosity, high aspect ratio, and fine resolution. In this study, we are studied about that to make efficiency of material and high quality barrier ribs for PDP. As a result, could got high barrier ribs of $140{\mu}m$ evenly in 1th phenomenon using watersoluble UV curing resin and know that flatness of upper part is also very good.
Jun, Hwa Joon;Na, Dae Gil;Kwon, Young Hoon;Kwon, Jin Hyuk
Journal of the Optical Society of Korea
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제19권1호
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pp.80-83
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2015
White reflective patterns are very difficult to fabricate, due to the scattering and reflection of light, especially when the pattern size goes down to micron size. A reflective white barrier structure of height $50{\mu}m$ and width $80{\mu}m$ was fabricated using dry-film resist as an intermediate reverse pattern. The reverse dry-film resist pattern was coated with an $SiO_2$ layer by sputtering, to protect the resist from chemical attack by the radical molecules in UV white resin. The UV white resin was applied on the dry-film resist pattern and then cured with ultraviolet light. The fine three-dimensional reflective patterns were finished by removing the dry-film resist.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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