• 제목/요약/키워드: UV laser

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Roll-to-Roll UV 나노 임프린팅 리소그래피에 의한 대면적 17인치의 나노 와이어 그리드의 제작 (Fabrication of a 17inch Area Size Nano-Wire Grid using Roll-to-Roll UV Nano-Imprinting Lithography)

  • 허종욱;남수용
    • 한국인쇄학회지
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    • 제29권3호
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    • pp.17-30
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    • 2011
  • The polarizer is an important optical element used in a variety of applications. Nano-wire grid polarizers in the form of sub-wavelength metallic gratings are an attractive alternative to conventional polarizers, because they provide high extinction ratio. This study has been carried out to fabrication of the 17inch area size nano-wire grid polarizer(NWGP) The master for NWGPs with a pitch of 200nm and the area size $730mm{\times}450mm$ were fabricated using laser interference lithography and aluminum sputtering and wet etching. And The NWGP fabrication process was using by the Roll to-Roll UV imprinting and was applied to flexible PET film. The results were a transmission of light (Tp) 46.7%, reflectance (Rs) 40.1% and Extinction ratio of above 16 for the visible light range.

Recent Progress in Synthesis of Plate-like ZnO and its Applications: A Review

  • Jang, Eue-Soon
    • 한국세라믹학회지
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    • 제54권3호
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    • pp.167-183
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    • 2017
  • Zinc oxide (ZnO) is one of the most versatile semiconductors, and one-dimensional (1D) ZnO nanostructures have attracted significant interest for use in ultraviolet (UV) lasers, photochemical sensors, and photocatalysts, among other applications. It is known that 1D ZnO nanowires can be fabricated readily owing to the anisotropic growth of ZnO along the [0001] direction. However, this type of growth results in a decrease in the surface area of the (0001) plane, which plays a vital role not only in UV lasing but also in the photocatalytic process. Thus, we attempted to synthesize ZnO crystals with an increased polar surface area by controlling the crystal growth process. The purpose of this review is to propose a simple route for the synthesis of plate-like ZnO crystals with highly enhanced polar surfaces and to explore their feasibility for use in UV lasers as well as as a photocatalyst and antibacterial agent. In addition, we highlight the recent progress made in the pilot-scale synthesis of plate-like ZnO crystals for industrial applications.

발광소자 응용을 위한 ZnO 박막의 자외선 및 가시광 발광 세기 제어 (UV and visible emission intensity control of ZnO thin films for light emitting device applications)

  • 강홍성;심은섭;강정석;이상렬
    • 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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    • 한국전기전자재료학회 2001년도 추계학술대회 논문집
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    • pp.108-111
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    • 2001
  • ZnO thin films on (001) sapphire substrates knave been deposited by pulsed laser deposition(PLD) technique for light emitting device applications. We have controlled the emission intensity of UV and visible light, depending on film thickness and various post-annealing time. UV emission became strong as the thickness of ZnO thin films increased. The intensity of visible light was strong as post-annealing temperature increased. The optical properties of the ZnO thin films were characterized by PL(photoluminescence) and the structural properties of the ZnO were characterized by XRD for the application of ZnO light emission device.

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Confocal Scanning Laser Microscope (CSLM)을 이용한 신규 미백 효과 측정 연구 (New Measurement of Whitening Effects by Using Confocal Scanning Laser Microscope (CSLM))

  • 김명기;조석철;남개원
    • 대한화장품학회지
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    • 제41권3호
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    • pp.279-285
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    • 2015
  • 여성의 얼굴에 과색소침착이 발생하는 것은 불안감, 특히 미적인 요소에 있어서 많은 고민을 유발한다. 피부의 흑화는 자외선(UV)에 대하여 이를 방어하기 위한 기작으로 멜라닌의 양과 밀접한 관계가 있다. 이러한 피부의 구성성분을 관찰하기 위해, confocal scanning laser microscope (CSLM)은 피부에 직접 현미경 검사를 실시하여 어떠한 조직의 변화 없이 피부를 실시간으로 관찰할 수 있는 비침습적 이미지 장치이다. 본 연구에서는 자외선 조사를 통해 유도된 하박 내측 피부의 과색소침착을 유도하여, 다른 피부색을 평가하는 측정기기와 상관성을 분석하여, CSLM을 이용한 새로운 미백 평가방법을 제시하였다. CSLM을 활용한 미백 효능 평가법은 소비자가 보다 이해하기 쉽도록 미백 제품을 평가하는데 유용할 것으로 생각된다.

355nm 파장의 DPSSL을 이용한 폴리머의 3차원 미세 형상 광가공기술 (Three-dimensional micro photomachining of polymer using DPSSL (Diode Pumped Solid State Laser) with 355 nm wavelength)

  • 장원석;신보성;김재구;황경현
    • 한국광학회지
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    • 제14권3호
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    • pp.312-320
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    • 2003
  • 본 연구에서는 355 nm의 파장을 갖는 Nd:YVO$_4$ 3고주파 DPSS 레이저를 이용하여 폴리머의 3차원 미세형상 가공기술을 개발하였다. UV레이저와 폴리머의 어블레이션에 관한 메커니즘을 설명하였으며 비교적 UV영역에서 파장이 긴 355 nm파장의 영역에서는 광열분해 반응으로 가공되고 이에 따른 폴리머의 광학적 특성을 살펴보았다. 광 흡수율 특성이 우수한 폴리머가 광가공 특성이 좋은 것으로 나타났으나 벤젠구조가 많이 포함되어 있는 폴리이미드의 경우는 광분해후 다시 새로운 화학적 결합이 이루어져 가공부 면이 좋지 않은 면을 보였다. 레이저의 다중 주사방식으로 가공하기위하여 표면의 오염이 적은 폴리카보네이트를 시편으로 사용하여 3차원 적으로 모델링한 직경 1 mm와 500 $\mu\textrm{m}$의 마이크로 팬을 가공하였다. 레이저 발진 효율이 높고 유지비가 적은 355 nm의 DPSSL을 이용한 3차원 가공기술의 개발로 향후 저비용으로 빠른 시간에 미세부품을 개발하는 기술에 기여할 것으로 예상된다.

폴리머와 UV 레이저의 열적, 광화학적 반응특성을 고려한 직접식 마이크로 3차원 광가공기술 (Mastless 3D photomachining considering polymer thermal and photochemical interaction with UV laser)

  • 장원석;신보성;김재구;황경현
    • 한국광학회:학술대회논문집
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    • 한국광학회 2003년도 제14회 정기총회 및 03년 동계학술발표회
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    • pp.278-279
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    • 2003
  • 최근 정보, 전자, 광, 반도체 등 각종 첨단산업에서는 다양한 형태와 재료의 가공방법이 요구되고 있으며 요구되는 부품의 정밀도도 마이크로 단위에서 서브 마이크로 단위까지의 고도의 정밀도를 요하는 기술들이 점차 늘어가고 있다. 또 더욱 더 소형화 되어가고 있는 마이크로 부품은 기존의 2차원 및 준 3차원에서 완전한 3차원 형태의 기술로 발달하고 있으며 현재 연구가 활발히 진행되고 있는 MEMS 분야에서 구동부 부품이라든가 또는 그를 지지하는 구조체로 쓰일 수 있어 그 활용 가치는 응용에 따라 폭이 넓다고 할 수 있다. (중략)

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PLD 법을 이용해 제작한 ZnO 박막의 광학적 특성 (Optical Properties of ZnO Thin Films deposited by Pulsed Laser Deposition)

  • 강성준;정양희;윤영섭
    • 대한전자공학회논문지SD
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    • 제44권5호
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    • pp.15-20
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    • 2007
  • 펄스 레이저 증착법을 이용하여 ZnO 박막을 quartz 기판 위에 증착하였으며, 기판 온도에 따른 박막의 구조적 및 광학적 특성을 조사하였다. 기판 온도 변화에 관계없이 모든 박막이 (002) 방향으로 성장하였으며, 400 $^{\circ}C$ 에서 반가폭은 0.24$^{\circ}$로 가장 우수한 결정성을 갖는 박막이 제작되었다. 또, 박막의 발광 특성을 조사한 결과, 모든 박막에서 UV 발광 피크와 deep-level 발광 피크가 관찰되었으며, 기판 온도에 따른 발광 피크의 변화가 관찰되었다. 가장 우수한 UV 발광 특성은 400 $^{\circ}C$ 에서 관찰되었으며, 반가폭은 14 nm 였다. 기판 온도에 무관하게 가시광 영역에서 약 85 % 정도의 투과도를 나타내었다. 투과도 측정을 통하여 얻은 광학 밴드갭 에너지와 UV 발광 중심 값을 비교한 결과, 두가지 결과 값들이 서로 유사한 값을 나타냈다. 이로부터 UV 발광 중심 값이 ZnO 의 near band edge emission 을 나타낸다는 사실을 알 수 있었다.