A pilot study was performed to examine the feasibility of UV disinfection system and the reactivation of indicator microorganisms (TC, FC, E. coli) after UV irradiation for agricultural reuse of reclaimed water. Photoreactivation and dark repair enable UV-inactivated microorganisms to recover and may reduce the efficacy of UV inactivation, which might be drawbacks of the UV disinfection method. The effluent of biofilter for 16-unit apartment house was used as input to the UV disinfection system, and average SS and BOD concentration were 3.8 and 5.7 mg/L, respectively, and the mean level of total coliform was in the range of $1.0\times10^4$ MPN/100mL. UV disinfection was found to be effective and it reduced mean concentration of indicator microorganisms (total coliform, fecal coliform, and E. coli) to less than 100 MPN/100mL within 60s exposure using 17, 25, and 40W lamps. Two UV doses of 6 and 16 mW$\cdot$s/$\textrm{km}^2$ were applied and microorganisms reactivation was monitored under the dark, photoreactivating light, and solar irradiation. Microorganisms reactivation was observed in the UV dose of 6 mW$\cdot$s/$\textrm{km}^2$, and numbers increased up to 5% at the photoreactivating light and 1% at the dark. However, microorganisms were inactivated rather than reactivated at the solar radiation and numbers decreased to non-detectible level about below 2 MPN/100mL in 4 hours. In the case of 16 mW$\cdot$s/$\textrm{km}^2$, microorganism reactivation was not observed indicating that UV dose might affect the reactivation process such as photoreactivation and dark repair. Therefore, concerns associated with microorganism reactivation could be controlled by sufficient UV dose application. Agricultural reuse of reclaimed water might be even less concerned due to exposure to the solar irradiation that could further inactivate microorganisms. The pilot study result is encouraging, however, sanitary concern in water reuse is so critical that more comprehensive investigation is recommended.
수질계의 부식산을 화학적 산화처리하기 위한 방법의 하나로 광산화공정을 도입하여 부식산의 특성 변화를 조사하였다. 광산화공정은 UV단독, UV/$TiO_2$ 및 UV/$H_2O_2$ 시스템을 실험하였다. UV 단독 조사시 TOC 제거율은 pH 7-9에서 가장 높았으며, 흡광도는 강알카리성 영역에서 감소율이 향상된 결과를 보였다. 각 시스템별로 처리도를 보면, UV/$TiO_2$ 시스템의 경우 $TiO_2$ 의 농도가 50ppm 일때 TOC 제거와 흡광도 감소의 효율이 높았으며 50ppm 이상을 투입해도 처리율에 변화가 없었다. UV/$H_2O_2$ 시스템에서는 과산화수소의 농도가 20mM이 최적의 주입농도로 조사되었으며, 그 이상 투입할 경우 TOC와 흡광도의 처리율이 저하되었다. 탄산이온을 첨가할 경우, TOC 제거율 및 UV 흡광도의 감소율 모두 감소하며, TOC 제거율이 흡광도 감소율에 비해 상대적으로 더 크게 나타났다.
The World Space Observatory Ultraviolet (WSO-UV) is the space mission that will grant access to the UV range in the post Hubble epoch. WSO-UV is equipped with instrumentation for imaging and spectroscopy and it is fully devoted to UV astronomy. In this talk, we outline the WSO-UV mission model and present the current status of the project. Also, the NEO observing mission SODA (System of Observation of Day-time Asteroids) is also presented.
복잡한 광도변화를 보이는 RS CVn형 단주기 식쌓성 UV Piscium의 BV 광도곡선을 Wilson-Devinney의 차등보정 방법으로 분석하여 궤도요소들을 산출하였다. 우리가 분석에 사용한 광도곡선은 식이 일어나지 않고 있는 부분에서도 심한 광도변화를 보이고 있는데 이는주성에 흑점 군이 있기때문인 것으로 가정하고 이 흑점군의 위치와 크기 등도 계산하였다. 그 결과 UV Psc는 분리계쌍성이며 주성이 반성에 비하여 질량도 크고 온도도 높으나 반경은 거의 같다는 것을 알았다. 이것은 일반적인 항성 모형과는 대조를 보이는 것이어서 이를 검증하기 위한 관측이 요구된다.
The photocatalytic decolorization of Rhodamine B (RhB) was studied using packed-bed reactor and immobilized $TiO_2/UV$ System. The 20 W UV-A, UV-B and UV-C lamps were employed as the light source. The effect of shape and surface polishing extent of reflector, distance between the reactor and reflector, reactor material were investigated. The results showed that the order of the initial reaction constant with reflector shape was round > polygon > W > rhombus. The optimum distance between the reactor and reflector was 2 cm. The initial reaction constant of quartz reactor was 1.46 times higher than that of tile PVDF reactor.
분자 내에 방무기능을 부여하기 위한 수산기와 전자선(EB) 및 자외선(UV) 경화가 가능한 아크릴레이트 관능기를 갖는 1관능성 및 4관능성 방무제 AF-1과 AF-2를 합성하여 EB 및 UV 경화시스템에 적용하였다. 합성된 AF-1과 AF-2를 UV 경화시스템에 적용하여 도막의 방무특성 및 경화물성을 측정한 결과, AF-1과 AF-2 함량을 5:17.5의 비로 함유한 배합이 표면과 내부경도, 내화학성 및 접착력이 저하되지 않으면서 김서림 방지 특성이 우수한 최적배합임을 알 수 있었다. 이 최적배합을 EB 경화시스템에 적용하였고, EB 및 UV 두 시스템에 의해 이루어진 코팅배합물을 PC sheet에 코팅하여 도막의 방무특성 및 경화물성을 비교 연구하였다. 그 결과 EB 및 UV에 의해 경화된 두 시스템 모두 우수한 방무특성을 나타냈으나 EB 시스템이 UV 시스템보다 더우수한 내부경도, 접착력 및 젖음성을 나타냄을 확인하였다.
Advanced oxidation processes(AOPs)는 강력한 산화제인 hydroxyl radical(${\cdot}OH$)를 생성하여 오염물질을 산화시키는 기법이다. 본 연구에서는 DNAPL인 trichloroethylene(TCE)과 tetrachloroethylene(PCE)의 수리학적 특성을 고려하여 우수한 고도산화처리기법($UV/Fe^{3+}$-chelating agent/$H_2O_2$기법, $UV/H_2O_2$기법)의 적용성 평가를 실시하였다. TCE, PCE 처리에 있어 가장 높은 분해효율을 보인 기법은 $UV/H_2O_2$기법으로 pH 6의 중성조건에서 TCE의 경우 150분 만에 99.92%의 TCE 분해를 나타내었고($[H_2O_2]$ = 147 mM, UV dose = 17.4 kwh/L), PCE의 경우 반응 2시간에 99.99%가 분해되었다($[H_2O_2]$ = 29.4 mM, UV dose = 52.2 kwh/L). 또한, $UV/Fe^{3+}$-chelating agent/$H_2O_2$기법을 적용하였을 경우, TCE는 90분 만에 99.9% (UV dose = 34.8 kwh/L, $[Fe^{3+}]$ = 0.1 mM, [Oxalate] = 0.6 mM, $[H_2O_2]$ = 147 mM) PCE는 반응시간 6시간 만에 99.81% (UV dose = 17.4 kwh/L, $[Fe^{3+}]$ = 0.1 mM, [Oxalate] = 0.6 mM, $[H_2O_2]$ = 29.4 mM)의 빠른 분해경향을 보였다. 이러한 결과는 기존의 고도산화처리기법 중 modified Fenton 반응에 UV를 적용함으로서 반응 중 $H_2O_2$의 재생산을 증가시킬 수 있음을 보여주고 있다. 또한, Fe(III) 이온의 Fe(II) 이온으로의 환원을 용이하게 하여 기존 Fenton 반응에 비해 처리시간의 단축 및 분해효율의 향상을 기대할 수 있을 것이다. 그리고, oxalate나 acetate같은 저분자 유기산 착제의 적용으로 pH의 안정성과 분해효율의 향상이 가능하고, 철이온 및 oxalate나 acetate와 같은 물질이 자연상에 존재함에 따라 보다 경제적이고 친환경적인 실용적 처리기법 도출이 가능할 것이다.
반도체 제조공정인 다이싱 공정용 점착 테이프를 제조하기 위해 다양한 개수의 광 반응기를 갖는 화합물을 합성하였고 아크릴 공중합체에 도입하여 UV 경화형 아크릴 점착제를 제조하였다. 합성된 광반응성 화합물(f = 2 또는 3)의 구조는 NMR을 이용하여 확인하였다. 광반응성 화합물(f = 1~3)은 우레탄 반응을 통해 아크릴 점착제의 곁가지로 도입되었고, FT-IR 측정을 통해 UV 경화형 아크릴 점착제가 성공적으로 합성되었음을 확인하였다. UV 조사 전 후의 박리강도 변화는 실리콘 웨이퍼를 기재로 하여 평가되었으며, UV 조사 전 점착제의 높은 박리강도(~2000 gf/25 mm)가 UV조사 후 크게 감소(~5 gf/25 mm)하였다. 다 관능성 광 반응기가 도입된 점착제의 점착력 감소 효과가 가장 컸으며 FE-SEM을 통한 표면 잔류물 측정 결과, UV 조사 후의 표면 잔류물도 매우 낮은 수준(~0.2%)으로 관찰되었다.
An UV/thermal hybrid nanoimprint lithography system was designed and implemented for the pattern transfer to flexible substrates. This system can utilize a plate stamp, roll stamp, and film stamp. For all cases of using those stamps, this system is also switchable an UV or thermal nanoimprint lithography mode. This paper shows how to design the heating and UV curing plates and proposes how to change them easily. Because the pressure condition and the speed of the press roller varies by the characteristics of the stamp and substrate, all the parameters related to the nanoimprint lithography have to adjustable. Some transferred patterns are shown in this paper to verify the performance of the hybrid nanoimprint lithography system. The flexible substrates with nano-scale patterns on them will be key components for next generation technologies such as flexible displays, bendable semi-conductors, and solar cells.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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