• 제목/요약/키워드: UV Intensity

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광반응을 이용한 Triclosan 분해에서의 UV 광세기와 파장의 효과 (The Effect of UV Intensity and Wavelength on the Photolysis of Triclosan (TCS))

  • 손현석;최석봉;;조경덕
    • 대한환경공학회지
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    • 제27권9호
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    • pp.1006-1015
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    • 2005
  • 본 연구에서는 항균제로 광범위하게 사용되는 triclosan (TCS)의 광분해시, 광분해 효율을 결정하는 OH 라디칼의 기여도를 조사하였다. TCS의 광분해 반응은 365 nm에서 모든 광세기 조건과 254 nm에서 낮은 광세기 조건들에서, 반응 초기 약 5분에서의 분해양상은 유사일차 속도반응 모델을 따르고 있었다. 또한 TCS의 광분해시 메탄올을 $H_2O$ 대신에 용매로 사용하였을 경우 OH 라디칼의 저해작용에 의하여 TCS 분해속도가 감소되었다. TCS의 광분해 속도는 파장이 감소하고, 광세기가 증가함에 따라 유의한 증가를 보였다. TCS의 광분해시 254 nm에서는 $5.77{\times}10^{-5}$ einstein $L^{-1}min^{-1}$이상의 광세기와, 365 nm에서는 $1.56{\times}10^{-4}$ einstein $L^{-1}min^{-1}$ 보다 낮은 광세기 조건에서 photon의 기여도가 증가함을 보였다. 또한 photon의 기여도가 큰 광세기 조건들에서의 TCS에 의해 이용된 quantum yield는 254 nm보다 365 nm에서 높은 효율을 보였다. TCS의 중간부산물로서는 dibenzodichloro-p-dioxin (DCDD)와 dibenzo-p-dioxin가 365 nm하의 $1.37{\times}10^{-4}$$1.56{\times}10^{-4}$ einstein $L^{-1}min^{-1}$의 광세기 조건에서 모두 검출되었다. Dichloro-phenol과 phenol 역시 광반응의 부산물로서 모든 실험에서 발견되었다. 실험 결과를 토대로 TCS의 광분해 메커니즘을 제안하였다.

DYNAMICAL CHARACTERISTICS OF THE QUIET TRANSITION REGION: SPATIAL CORRELATION STUDIES OF H I 931 AND S VI 933 UV LINES

  • YUN HONG SIK;CHAE JONG CHUL;POLAND A. I.
    • 천문학회지
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    • 제31권1호
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    • pp.1-17
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    • 1998
  • To understand the basic physics underlying large spatial fluctuations of intensity and Doppler shift, we have investigated the dynamical charctersitics of the transition region of the quiet sun by analyzing a raster scan of high resolution UV spectral band containing H Lyman lines and a S VI line. The spectra were taken from a quiet area of $100'\times100'$ located near the disk center by SUMER on board SOHO. The spectral band ranges from 906 A to 950 A with spatial and spectral resolution of 1v and $0.044 {\AA}$, respectively. The parameters of individual spectral lines were determined from a single Gaussian fit to each spectral line. Then, spatial correlation analyses have been made among the line parameters. Important findings emerged from the present analysis are as follows. (1) The integrated intensity maps of the observed area of H I 931 line $(1\times10^4 K)$ and S VI 933 line $(2\times10^5 K)$ look very smilar to each other with the same characterstic size of 5". An important difference, however, is that the intensity ratio of brighter network regions to darker cell regions is much larger in S VI 933 line than that in H I 931 line. (2) Dynamical features represented by Doppler shifts and line widths are smaller than those features seen in intensity maps. The features are found to be changing rapidly with time within a time scale shorter than the integration time, 110 seconds, while the intensity structure remains nearly unchanged during the same time interval. (3) The line intensity of S VI is quite strongly correlated with that of H I lines, but the Doppler shift correlation between the two lines is not as strong as the intensity correlation. The correlation length of the intensity structure is found to be about 5.7' (4100 km), which is at least 3 times larger than that of the velocity structure. These findings support the notion that the basic unit of the transition region of the quiet sun is a loop-like structure with a size of a few $10^3 km$, within which a number of unresolved smaller velocity structures are present.

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Intrinsic UV Reflection and Fluorescence Studies for Water Sorption in Polycarbonate, Polyurethane and Poly(Ethylene Terephthalate) Films

  • Kim Min Sun;Sung Chong Sook Paik
    • Fibers and Polymers
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    • 제6권2호
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    • pp.127-130
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    • 2005
  • Intrinsic UV reflection and fluorescence behaviors of polycarbonate, polyurethane and poly(ethylene terephthalate) films were investigated in order to characterize the interaction of water in these films. During water sorption process, UV reflection spectra of polycarbonate and polyurethane films showed little peak position changes. Fluorescence emission spectra of polycarbonate films showed red spectral shifts from 332 nm with water immersion time. This red-shifted peak could be due to phenyl-2-phenoxybenzoate, which is one of the major thermal degradation products in polycarbonate. Fluorescence peaks of polyurethane films appeared at two different positions and the ratio of these peak intensities increased with increasing immersion time. In the case of PET films, the UV reflection spectrum showed the peak intensity around 340 nm to change in response to water sorption. The fluorescence near 388 nm probably due to ground state dimer exhibited sensitivity with water sorption, when excited at 340 nm.

분위기 산소압변화에 따른 ZnO박막의 UV발광 특성분석 (UV Emission Characterization of ZnO Thin Films Depending on the Variation of Oxygen Pressure)

  • 백상혁;이상열;진범준;임성일
    • 대한전기학회논문지:전기물성ㆍ응용부문C
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    • 제49권2호
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    • pp.103-106
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    • 2000
  • ZnO is a wide-bandgap II-IV semiconductor and has a variety of potnetial applications. ZnO exhibits good piezoelectric, photoelectric and optical properties, and is a good candidate for an electroluminescence device. ZnO films have been deposited on (001) sapphire by PLD technique. Nd:YAG pulsed laser was operated at a wavelength of $\lambda=355nm$. The ZnO films were deposited at oxygen pressures from base to 500 mTorr. The substrate temperatures was increased from $200^{\circ}C\; to\;700^{\circ}C$ films showed strong UV emission by increasing the partial oxygen pressure. We have investigated the relationship between partial oxygen pressure and the intensity of UV emission.

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자외선 처리 시스템의 강도 변화에 대한 영향 (EFFECTS OF INTENSITY VARIATIONS IN UV AIR TREATMENT SYSTEMS)

  • 김정호;홍성헌
    • 한국재난정보학회:학술대회논문집
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    • 한국재난정보학회 2017년 정기학술대회
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    • pp.271-272
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    • 2017
  • 자외선 에너지는 미생물의 DNA를 파괴함으로써 살균 효과를 일으킨다. 자외선 방사로 공기 중 미생물에 대하여 높은 살균력을 얻기 위해선 강한 자외선 강도와, 흐르는 공기가 충분한 시간 동안 강한 자외선에 노출되어야 하므로 균일한 자외선 방사는 매우 중요하다. 기존 UV살균 시스템은 강한 자외선 에너지와 공기의 빠른 이동에 필요한 UV방사의 균일성을 제공하지 않았다. 하지만 HDS의 BioProtector 제품에 사용된 Advanced UV System(AUVS) 반사 캐비티 기술은 매우 높은 수준의 균일성을 생성함으로써 이 문제에 대한 해결책을 제공하며, 미생물 살균에 가장 효과적인 UV파장을 사용하여 6 LOG KILL (100만마리의 미생물 투입시 1마리 이하생존) 수준의 살균 효과를 만들었다.

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UV 차단렌즈의 제작에서 광 투과율 Edge 및 Half Point의 Dippy 시간의존성 (Dippy Time Dependence of Transmittance Edge and Half Point in the UV cut lens' manufacture)

  • 김용근
    • 한국안광학회지
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    • 제6권1호
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    • pp.101-105
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    • 2001
  • UV 차단 렌즈 UV solution을 이용한 dip method로 제작하여 광 투과율과 광 반사율을 측정하였다. 광 투과율의 half point 파장 및 edge 파장이 dip 시간의 존성인 exponetial decay형식에 잘 적용되었다. $$W=W_0+A_1{e}{x}{p}[-(x-x_1)/t_1]$$ 광 투과율의 half point 파장은 358 nm 에서 408 nm로 이용하였고, edge 파장은 340 nm에서 398 nm로 이동하였다. 광 반사율 주 peak 380 nm는 dip 시간이 클수록 세기는 작아지고 장파장 쪽으로 이동하였으며, dip 시간 10분에서 UV solution의 성분 peak가 나타나기 시작하였다.

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졸-겔공정에 의해 실리카 구조체에 도입된 유기 NLO 물질의 특성 (Characteristics of Organic NLO Materials in Silica Matrix Prepared by Sol-gel Process)

  • 정미원;문정호;설용건
    • 공업화학
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    • 제4권3호
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    • pp.482-487
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    • 1993
  • 반응성과 성형성이 우수한 졸-겔법을 이용하여 비선형 광학물질인MNA(2-Methyl-4-nitro-aniline), Carbazole 1(5-Nitro-9-hydroxyethyl Carbazole), Carbazole 2(5-Nitro-9-ethyl Carbazole) 그리고 DR1(Disperse Red 1)을 Silica matrix에 조합시킨 유-무기계 복합박막을 제조하였다. 이들 유-무기계 복합박막의 열적 안정도와 분해정도를 비교한 결과 -OH기를 갖는 Carbazole 1과 DR 1이 열분해에 대한 안정성이 우수하다는 것을 알았다. Carbazole 1의 편극화 처리로 UV 흡광도의 현저한 감소가 일어났고 상온에서 전기장을 제거하자 UV 흡광도의 느린 회복이 발견되었다.

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UV KrF 레이저 공정조건에 따른 FBG 센서의 방사선 영향 (Radiation Effects on Fiber Bragg Grating Sensors Written in UV KrF Laser Process Condition)

  • 김종열;이남호;정현규
    • 한국정보통신학회논문지
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    • 제20권1호
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    • pp.161-166
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    • 2016
  • 본 논문에서는 광섬유 브래그 격자의 공정조건 변화에 따른 $Co^{60}$ 감마방사선 영향을 연구하였다. 광섬유 브래그 격자는 붕소가 첨가된 광민감 광섬유를 이용하여 UV KrF 레이저 세기를 달리하여 제작하였으며, 제작된 광섬유 브래그 격자 센서에 총 선량 33.8 kGy 감마선을 조사하였다. 실험결과를 통하여, 격자 공정을 위한 UV 레이저 세기가 광섬유 브래그 격자의 방사선 민감도에 큰 영향을 줄 수 있다는 것을 확인하였으며, 레이저 공정조건 변화에 따른 방사선에 의한 광섬유 브래그 파장의 변화는 30 % 이상의 차이를 보였다.

Normally Scattering(NS)/Normally Transparent (NT) 고분자 분산형 액정 모드에서 UV 조건에 따른 전기 광학특성 연구 (Study on the Electro-Optic Characteristics Depending on UV Condition in the Normally Scattering(NS)/Normally Transparent(NT) Polymer Dispersed Liquid Crystal Mode)

  • 김미숙;서영현;이명훈;이종문;이택수;이승희
    • 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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    • 한국전기전자재료학회 2003년도 하계학술대회 논문집 Vol.4 No.2
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    • pp.1050-1053
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    • 2003
  • Polymer dispersed liquid crystal mode can be classified into two cases, normally scattering mode (NS) and normally transparent (NT) mode according to an initial state. Electro-optic characteristic NS/NT PDLC mode can be improved by controlling the factors to influence the phase separation. In case of NS PDLC mode, we inspected change of a phase separation as a function of curing temperature for the mixture of E7 and NOA65 with different ratios. When the LC concentration is less than polymer such as LC : NOA65 = 40 : 60wt%, the PDLC cell is influenced strongly by the curing temperature. However, when LC concentration is much less than polymer such as LC : NOA65 : 80 : 20wt%, it is influenced slightly by the curing temperature. In case of NT PDLC mode, we observed change of a phase separation as a function of the ratio of the mixture and UV conditions such as curing temperature, UV intensity The cell made with strong UV intensity and curing temperature of $20^{\circ}C$, in case that the ratio of LC to polymer is 70:30wt%, showed good electro-optic characteristics.

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광촉매 TiO2 층의 비접촉식 공정을 통한 저온 실리콘 산화박막 성장 (Low Temperature Growth of Silicon Oxide Thin Film by In-direct Contacting Process with Photocatalytic TiO2 Layer on Fused Silica)

  • 고천광;이원규
    • 공업화학
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    • 제19권2호
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    • pp.236-241
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    • 2008
  • 자외선 조사에 따른 광촉매 $TiO_2$의 표면에서 발생하는 활성산소종의 기상확산을 이용하여 실리콘기판 위에 산화박막을 성장시켰다. 자외선의 세기, 기판의 온도와 반응기 내의 산소 압력을 공정변수로 한 결과, 일정두께의 실리콘 산화박막의 성장이 자외선의 세기가 증가할수록 빨랐으며, 자외선램프의 세기를 60 W BLB 램프에서 1 kW 고압수은 랩프로 변경할 경우 성장속도가 8배 정도 빨라졌다. 반응기 내의 압력이 증가할수록 실리콘 산화박막의 성장속도는 느렸다. 대부분 산화박막의 성장은 $20{\AA}$에서 포화되었으며, 자외선의 세기가 증가할수록 포화상태까지 도달시간이 빨라졌다. 성장된 산화박막을 열처리를 통하여 전형적인 열산화막의 물성에 도달할 수 있었다. 광활성 산소종의 기상확산은 실리콘 산화박막의 저온 형성에 대한 광촉매 활용이라는 새로운 산화공정 방법으로 사용이 가능함을 확인할 수 있었다.