JSTS:Journal of Semiconductor Technology and Science
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제3권3호
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pp.145-152
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2003
Electrical gate and drain characteristics of double heterostructure InAlAs/InGaAs pseudomorphic HEMTs have been investigated under sub-bandgap photonic excitation ($hv). Drain $(V_{DS})-,{\;}gate($V_{DS})-$, and optical power($P_{opt}$)-dependent variation of the abnormal gate leakage current and associated physical mechanisms in the PHEMTs have been characterized. Peak gate voltage ($V_{GS,P}$) and the onset voltage for the impact ionization ($V_{GS.II}$) have been extracted and empirical model for their dependence on the $V_{DS}$ and $P_{opt} have been proposed. Anomalous gate and drain current, both under dark and under sub-bandgap photonic excitation, have been modeled as a parallel connection of high performance PHEMT with a poor satellite FET as a parasitic channel. Sub-bandgap photonic characterization, as a function of the optical power with $h\nu=0.799eV$, has been comparatively combined with those under dark condition for characterizing the bell-shaped negative humps in the gate current and subthreshold drain leakage under a large drain bias.
We have investigated the Josephson vortex dynamics in $Bi_2Sr_2CaCu_2O{8+\delta}$ intrinsic Josephson junctions subjected to a magnetic field parallel to $CuO_2$ planes. We investigated mesas with $40\times40{\mu}m^2$ in size and containing 6 and 20. intrinsic junctions. The zero field I-V characteristics exhibited a typical hysteretic, multi-branched nature of the intrinsic Josephson effect. At high magnetic fields (H>1.5 T), I-V characteristics showed flux flow steps. The Swihart velocity obtained from this observation was about $4.2\times10^5$ m/s, which was the lowest mode electromagnetic wave velocity of N coupled stack. The experimental I-V curves fitted well into the simple model of Cherenkov radiation including Ohmic and non-linear dissipation terms. This suggests that the dissipation mechanism of Josephson vortex be due to both Cherenkov radiation and quasiparticle tunneling current.
Self-assembled monolayers (SAMs) prepared by sulfur-containing organic molecules on metal surfaces have drawn much attention for more than two decades because of their technological applications in wetting, chemical and biosensors, molecular recognition, nanolithography, and molecular electronics. In this talk, we will present self-assembly mechanism and two-dimensional (2D) structures of various organic thiol SAMs on Au(111), which are mainly demonstrated by molecular-scale scanning tunneling microscopy (STM) observation. In addition, we will provide some idea how to control 2D molecular arrangements of organic SAMs. For instance, the formation and surface structure of pentafluorobenzenethiols (PFBT) self-assembled monolayers (SAMs) on Au(111) formed from various experimental conditions were examined by means of STM. Although it is well known that PFBT molecules on metal surfaces do not form ordered SAMs, we clearly revealed for the first time that adsorption of PFBT on Au(111) at $75^{\circ}C$ for 2 h yields long-range, well-ordered self-assembled monolayers having a $(2{\times}5\sqrt{13})R30^{\circ}$ superlattice. Benzenethiols (BT) SAMs on gold usually have disordered phases, however, we have clearly demonstrated that the displacement of preadsorbed cyclohexanethiol self-assembled monolayers (SAMs) on Au(111) by BT molecules can be a successful approach to obtain BT SAMs with long-range ordered domains. Our results will provide new insight into controlling the structural order of BT or PFBT SAMs, which will be very useful in precisely tailoring the interface properties of metal surfaces in electronic devices.
Photoisomerizing molecules which can transform their structure by the light irradiation have great deal for the application of photo-switching devices. And azobenzene is the representive type of the photoisomerizing molecules. It can transform their trans- structures into cis- structure as the light for certain wave lengths they receive. This property shows the potential of ON/OFF switching functionalization which can be used into the nano scale photo switch. Furthermore, many studies are interested in the organic linkers that connect the azobenzene and metal electrodes. We used S, $CH_2S$, $(CH_2)_4S$ as the linker to watch the influence of linkers for electronic properties. So We suggest a photoswitching device based on the vertical junction using the first-principles calculations with density functional theory and non-equilibrium Greens function (NEGF). By analyzing the electronic structure and tunneling current caused by the structural difference of the system between cis- and trans- azobenzene, the difference in switching mechanism, ON/OFF ratio and transmission will be watched as the linker changes. And finally We will suggest which linker would be the better for the optimal device architecture which can achieve high control of the ON/OFF photocurrent ratio. This result will show the potential of azobenzene-based photoswitch and provide the critical insight in constructing the optimal device architecture.
We have studied conduction mechanism that is interpreted in terms of space charge limited current (SCLC) region and tunneling region. The OLEDs are based on the molecular compounds, N,N'-diphenyl-N,N'-bis(3-methylphenyl)-1,1'-biphenyl-4,4'-diamine (TPD) as a hole transport, tris (8- hydroxyquinolinoline) aluminum(III) $(Alq_3)$ as an electron injection and transport and emitting later, copper phthalocyanine (CuPc) and poly(3,4-ethylenedioxythiophene):poly(styrenesulfonate) (PEDOT:PSS) and poly(vinylcarbazole) (PVK) as a buffer layer respectively. Al was used as cathode. We manufactured reference structure that has in ITO/TPD/$Alq_3$/Al. Buffer layer effects were compared to reference structure. And we have analyzed out luminance efficiency-voltage characteristics in ITO/Buffer layer/TPD/$Alq_3$/Al with buffer-layer materials.
The use of compaction grouting evolved in 1950's to correct structural settlement of buildings. Over the almost 50 years, the technology has been developed and is currently used in wide range of applications. Compaction grouting, the injection of a very stiff, 'zero-slump' mortar grout under relatively high pressure, displaces and compacts soils. It can effectively repair natural or man-made soil strength deficiencies in variety of soil formations. Major applications of compaction grouting include densifying loose soils or fill voids caused by sinkholes, poorly compacted fills, broken utilities, improper dewatering, or soft ground tunneling excavation. Other applications include preventing liquefaction, re-leveling settled structures, and using compaction grout bulbs as structural elements of minipiles or underpinning. In this paper, on the basis of the case history constructed in this year, a study has been performed to analyze the basic mechanism of the compaction grouting. Also, the effectiveness of the ground improvement and the bearing capacity of the compaction pile has been verified by the Cone Penetration Test(CPT) and Load Test. Relatively uniform compaction grouting column could be maintained by planning the quality control in the course of grouting. And, the Qualify Control Plan has been conceived using grout pressure, volume of grout and drilling depth.
Size-controlled lead sulfide (PbS) quantum dots were synthesized by the typical hot injection method using oleic acid (OA) as the stabilizing agent. Subsequently, the ligand exchange reaction between OA and thioacetic acid (TAA) was employed to obtain TAA-capped PbS quantum dots (PbS-TAA QDs). The condensation reaction of the TAA ligands on the surfaces of the QDs enhanced the conductivity of the PbS-TAA QDs thin films by about 2-4 orders of magnitude, as compared with that of the PbS-OA QDs thin films. The electron transport mechanism of the PbS-TAA QDs thin films was investigated by current-voltage (I-V) measurements at different temperatures in the range of 293 K-473 K. We found that the charge transport was due to sequential tunneling of charge carriers via the QDs, resulting in the thermally activated hopping process of Arrhenius behavior.
We investigated the growth mechanism of amorphous-phase Si thin films in order to improve the film characteristics and circumvent photo-degradation effects by implementation of hot-wire chemical vapor deposition. Amorphous silicon thin films grown in a silane/hydrogen mixture can be decomposed by a resistive heat filament. The structural properties were observed by Raman spectroscopy, FTIR, SEM, and TEM. The electrical properties of the films were measured by photo-conductivity, dark-conductivity, and photo-sensitivity. The contents of Si-H and $Si-H_n$ bonds were measured to be 19.79 and 9.96% respectively, at a hydrogen flow rate of 5.5 sccm, respectively. The thin film has photo-sensitivity of $2.2{\times}10^5$ without a crystalline volume fraction. The catalyst behavior of the hot-wire to decompose the chemical precursors by an electron tunneling effect depends strongly on the hydrogen mixture rate and an amorphous Si thin film is formed from atomic relaxation.
JSTS:Journal of Semiconductor Technology and Science
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제4권2호
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pp.94-99
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2004
silicided 50-nm-gate-length n-type Schottky barrier metal-oxide-semiconductor field-effect-transistors (SB-MOSFETs) with 5 nm gate oxide thickness are manufactured. The saturation current is $120{\mu}A/{\mu}m$ and on/off-current ratio is higher than $10^5$ with low leakage current less than $10{\mu}A/{\mu}m$. Novel phenomena of this device are discussed. The increase of tunneling current with the increase of drain voltage is explained using drain induced Schottky barrier thickness thinning effect. The abnormal increase of drain current with the decrease of gate voltage is explained by hole carrier injection from drain into channel. The mechanism of threshold voltage increase in SB-MOSFETs is discussed. Based on the extracted model parameters, the performance of 10-nm-gate-length SB-MOSFETs is predicted. The results show that the subthreshold swing value can be lower than 60 mV/decade.
The effects of oxygen partial pressure and vacuum annealing on the electrical properties of sputtered vanadium oxide($VO_x$) thin films were investigated. The thin films were prepared by r.f. magnetron sputtering from $V_2O_5$ target in a gas mixture of argon and oxygen. The oxygen/(oxygen+argon) partial pressure ratio of 0% and 8% is adopted. Electrical properties of films sputter-deposited under different oxygen gas pressures and in situ annealed in vacuum at $400^{\circ}C$ for 1h and 4h are characterized through electrical conductivity measurements. I-V characteristics were distinguished between linear and nonlinear region. In the low field region the conduction is due to Schottky emission, while at high fields it changes to Fowler-Nordheim tunneling type conduction. The conductivity measurements have shown an Arrhenius dependence of the conductivity on the temperature.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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