Formation of p$^{+}$ -n ultra shallow junction with Co/Ti bilayer silicide contact
(Co/Ti 이중막 실리사이드 접촉을 갖는 p$^{+}$ -n 극저접합의 형성)
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- Journal of the Korean Institute of Telematics and Electronics D
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- 제35D권5호
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- pp.87-92
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- 1998