Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
/
2002.07a
/
pp.22-25
/
2002
In this paper, we deposited MgO buffer layer on p-type (100)Si substrate in the condition of substrate temperature 400$^{\circ}C$, working gas ratio Ar:O$_2$=80:20, RF Power 50W, working pressure 10mtorr, and the thickness of the film was about 300${\AA}$. Then we deposited Ba$\sub$0.5/Sr$\sub$0.5/TiO$_3$ thin film using RF Magnetron sputtering method on the MgO/Si substrate in various RF power of 25W, 50W, 75W. The film deposited in 50W showed the best crystalline from the XRD measurement. To know the electrical properties of the film, we manufactured Al/BSTMgO(300${\AA}$)/Si/Al structure capacitor. In the result of I-V measurement, The leakage current density of the capacitor was lower than 10$\^$-7/A/$\textrm{cm}^2$ at the range of ${\pm}$150kV/cm. From C-V characteristics of the capacitor, can calculate the dielectric constant and it was 305. Finally we deposited BST thin film on bare Si substrate and (100)MgO substrate in the same deposition condition. From the comparate of the properties of these samples, we found the properties of BST thin film which deposited on MgO/Si substrate were better than on bare Si substrate and similar to on MgO substrate.
Electrochromic $WO_3$ films were prepared by using an electron-beam deposition method. The dependence of the chemical stability of film on the substrate temperature was studied. From the experimental results, The optical property and chemical stability of as-deposited films strongly depended on the substrate temperature. The $WO_3$ film prepared at a substrate temperature of $80^{\circ}C$ was found to be the most stable when subjected to repeated coloring and bleaching cycles in an organic 0.6M $LiClO_4$ solution.
We report here the surface behavior of zirconium oxide deposited on Si(100) substrate depending on the different substrate temperatures. The zirconium oxide thin films were successfully deposited on the Si(100) surfaces applying radio-frequency (RF) magnetron sputtering process. The obtained zirconium oxide films were characterized by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) for study about the chemical environment of the elements, X-ray diffraction (XRD) for check the crystallinity of the films, spectroscopic ellipsometry (SE) technique for measuring the thickness of the films, and the morphology of the films were investigated by atomic force microscope (AFM). We found that the oxidation states of zirconium were changed from zirconium suboxides ($ZrO_{x,y}$, x,y < 2) (x; higher and y; lower oxidation state of zirconium) to zirconia ($ZrO_2$), and the surface was smoothed as the substrate temperature increased.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
/
2000.11a
/
pp.492-495
/
2000
In order to develop an ultra-thin CoCr perpendicular magnetic recording layer, we prepared CoCrTa/Ti double layer for perpendicular magnetic recording media by new facing targets sputtering system, Crystallgraphics and magnetic characteristics of CoCrTa on underlayer substrate temperature have been investigated. Crystallgraphic and magnetic characteristic of thin films were evaluated by X-ray diffractometry(XRD), vibrating sample magnetometer(VSM) and atomic force microscopy(AFM). The coercivity and anisotropy field was increased by increasing under layer substrate temperature, c-axis orientation of CoCrTa magnetic recording layer was improved 8$^{\circ}$ to 5.6$^{\circ}$when under layer substrate temperature was 250[$^{\circ}C$]. Also, through annealing effect for CoCrTa/Ti double layer, it was certain that crystallgraphics and magnetic characteristics was improved.
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
/
v.30
no.12
/
pp.794-799
/
2017
Ga-doped ZnO (GZO) films were deposited by an RF magnetron sputtering method on glass substrates using ZnO as a target containing 5 wt% $Ga_2O_3$ powder (for Ga doping). The structural, electrical, and optical properties of the GZO thin films were investigated as a function of the substrate temperatures. The deposition rate decreased with increasing substrate temperatures from room temperature to $350^{\circ}C$. The films showed typical orientation with the c-axis vertical to the glass substrates and the grain size increased up to a substrate temperature of $300^{\circ}C$ but decreased beyond $350^{\circ}C$. The resistivity of GZO thin films deposited at the substrate temperature of $300^{\circ}C$ was $7{\times}10^{-4}{\Omega}cm$, and it showed a dependence on the carrier concentration and mobility. The optical transmittances of the films with thickness of $3,000{\AA}$ were above 80% in the visible region, regardless of the substrate temperatures.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
/
2010.02a
/
pp.38-38
/
2010
Ever since the experimental discovery of graphene exfoiliated from the graphite flakes by Geim et at., this area has drawn a lot of attention for its possible application in IT industry. For the growth of graphene, chemical vapor deposition (CVD) has been widely used to fabricate the large area graphene. The lateral size of this graphene can be easily controlled by the size of the metal substrate though the chemical etching to remove this substrate is somewhat troublesome. Another problem which is hard to avoid is the folding at the grain boundary. We will discuss the origin of the folding first and introduce the way to avoid this folding. To solve this problem, we have used the various types of micro-thin metal foils. The precise control of hydro-carbon and the carrier gas results in the formation of the graphene on top of substrate. The thickness of graphene layers can be controlled with the control of gas flow on top of Cu substrate in contrast to the previously reported self-limiting growth $behavior^1$. Uniformity of this graphene layer has been checked by micro-raman spectroscopy and SEM. The size of grain can be enhanced by thermal treatment or use of other metal substrate. The dependence of grain size on the lattice size of the substrate will be discussed. By selecting the shape of substrate, we can grow various types of graphene. We will introduce the micron size graphene tube and its application.
Journal of Korean Society of Environmental Engineers
/
v.29
no.7
/
pp.839-845
/
2007
Temperature dependence of kinetic constants in the anaerobic acidogenesis was investigated using anaerobic chemostat-type reactor. Glucose was used as a substrate in this experiment. Temperature ranging from 15 to $30^{\circ}C$ were studied. The saturation constant$(k_s\upsilon)$ and growth yield(Y) decreased with increasing temperature, while the maximum specific substrate utilization rate$(\upsilon_{max})$ increased. A temperature correction factor$(Q_{10})$ values of the substrate utilization rate and bacteria growth rate were the range from 1.3 to 2.2 and 1.5 to 2.2, respectively. The growth yield(Y) for the acidogenesis process was less sensitive to temperature changes than the maximum specific substrate utilization rate$(\upsilon_{max})$. The simulation model of the relationship between the substrate and sludge retention time(SRT) at the temperature range of 20 to $30^{\circ}C$ is obtained as the following ; $1/SRT={(6.53){\cdot}(1.038)^{T-20}{\cdot}(S/X)}/{(1.38){\cdot}(0.983)^{T-20}+(S/X)}$.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
/
2009.11a
/
pp.208-208
/
2009
We used Brewster's Law to examine the mechanism of liquid crystal (LC) alignment on an organic insulation layer when subjected to ion-beam irradiation. Brewster's Law implies that the maximum rate polarized ray on a slanted insulation layers on the substrate and it illustrates the dependence of polarization and themechanical structure on the ion beam irradiation process. The pretilt angle of nematic LCs on the organic insulation surface was about $1.13^{\circ}$ for an ion beam exposure of $45^{\circ}$ for 1 minute at 1800eV. This shows the dependence of LC alignment on the polarization ratio in a slanted organic insulation layer.
Objective : Dopamine transporter is member of family of Na/Cl dependent neurotransmitter transporter, 12 transmembrane domain, that has high substrate specificity, affinity. It is related with dopamine reuptake in presynaptic vesicle. DAT has a VNTR in its 3'-untranslated region(UTR). 3'-UTR VNTR polymorphism is related with modification of dopamine transmission. The association between with VNTR polymorphism and neuropsychiatric disorders such as alcohol dependence, and low activity ALDH has been studied, but their relationship is unclear. We study about association of 3'-UTR VNTR of DAT gene and G2319A and alcohol dependence. Method : Group of Korean subjects were studied with alcohol dependence(n=49 male) compared to mentally healthy controls(n=53 male). The peripheral blood sample was acquired, and Polymerase Chain Reaction(PCR) amplification, MspI procedure was done. Result : There was a significant difference between alcohol dependence group and normal control(genotype frequency p<0.05, allele frequency p<0.05) Allele A frequency and genotype(GG, GA) frequency was a significant difference between alcohol dependence group and normal control(p<0.05). Conclusion : Our study showed that genetic polymorphism of DAT1 G2319A had relation with alcohol dependence.
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
/
v.23
no.10
/
pp.776-781
/
2010
CdSe films were deposited on glass substrates (CdSe/glass) by thermal evaporation. Substrate temperature was lowered by cooling substrate holder with liquid nitrogen. Substrate temperatures were $200^{\circ}C$, $0^{\circ}C$ and $-40^{\circ}C$. The crystallographic properties and surface morphologies of the CdSe/glass films were studied by X-ray diffraction (XRD) and scanning electron microscopy (SEM). The optical and electrical properties of the films were investigated by dependence of energy gap, photosensitivity and resistivity on the substrate temperature. CdSe/glass showed energy gap of ~1.72 eV regardless of substrate temperature. The resistivity of the films decreased to $0.5{\Omega}cm$ by lowering the substrate temperature to $-40^{\circ}C$. The CdSe/glass films prepared at $0^{\circ}C$ showed the highest photosensitivity among the films in this study.
본 웹사이트에 게시된 이메일 주소가 전자우편 수집 프로그램이나
그 밖의 기술적 장치를 이용하여 무단으로 수집되는 것을 거부하며,
이를 위반시 정보통신망법에 의해 형사 처벌됨을 유념하시기 바랍니다.
[게시일 2004년 10월 1일]
이용약관
제 1 장 총칙
제 1 조 (목적)
이 이용약관은 KoreaScience 홈페이지(이하 “당 사이트”)에서 제공하는 인터넷 서비스(이하 '서비스')의 가입조건 및 이용에 관한 제반 사항과 기타 필요한 사항을 구체적으로 규정함을 목적으로 합니다.
제 2 조 (용어의 정의)
① "이용자"라 함은 당 사이트에 접속하여 이 약관에 따라 당 사이트가 제공하는 서비스를 받는 회원 및 비회원을
말합니다.
② "회원"이라 함은 서비스를 이용하기 위하여 당 사이트에 개인정보를 제공하여 아이디(ID)와 비밀번호를 부여
받은 자를 말합니다.
③ "회원 아이디(ID)"라 함은 회원의 식별 및 서비스 이용을 위하여 자신이 선정한 문자 및 숫자의 조합을
말합니다.
④ "비밀번호(패스워드)"라 함은 회원이 자신의 비밀보호를 위하여 선정한 문자 및 숫자의 조합을 말합니다.
제 3 조 (이용약관의 효력 및 변경)
① 이 약관은 당 사이트에 게시하거나 기타의 방법으로 회원에게 공지함으로써 효력이 발생합니다.
② 당 사이트는 이 약관을 개정할 경우에 적용일자 및 개정사유를 명시하여 현행 약관과 함께 당 사이트의
초기화면에 그 적용일자 7일 이전부터 적용일자 전일까지 공지합니다. 다만, 회원에게 불리하게 약관내용을
변경하는 경우에는 최소한 30일 이상의 사전 유예기간을 두고 공지합니다. 이 경우 당 사이트는 개정 전
내용과 개정 후 내용을 명확하게 비교하여 이용자가 알기 쉽도록 표시합니다.
제 4 조(약관 외 준칙)
① 이 약관은 당 사이트가 제공하는 서비스에 관한 이용안내와 함께 적용됩니다.
② 이 약관에 명시되지 아니한 사항은 관계법령의 규정이 적용됩니다.
제 2 장 이용계약의 체결
제 5 조 (이용계약의 성립 등)
① 이용계약은 이용고객이 당 사이트가 정한 약관에 「동의합니다」를 선택하고, 당 사이트가 정한
온라인신청양식을 작성하여 서비스 이용을 신청한 후, 당 사이트가 이를 승낙함으로써 성립합니다.
② 제1항의 승낙은 당 사이트가 제공하는 과학기술정보검색, 맞춤정보, 서지정보 등 다른 서비스의 이용승낙을
포함합니다.
제 6 조 (회원가입)
서비스를 이용하고자 하는 고객은 당 사이트에서 정한 회원가입양식에 개인정보를 기재하여 가입을 하여야 합니다.
제 7 조 (개인정보의 보호 및 사용)
당 사이트는 관계법령이 정하는 바에 따라 회원 등록정보를 포함한 회원의 개인정보를 보호하기 위해 노력합니다. 회원 개인정보의 보호 및 사용에 대해서는 관련법령 및 당 사이트의 개인정보 보호정책이 적용됩니다.
제 8 조 (이용 신청의 승낙과 제한)
① 당 사이트는 제6조의 규정에 의한 이용신청고객에 대하여 서비스 이용을 승낙합니다.
② 당 사이트는 아래사항에 해당하는 경우에 대해서 승낙하지 아니 합니다.
- 이용계약 신청서의 내용을 허위로 기재한 경우
- 기타 규정한 제반사항을 위반하며 신청하는 경우
제 9 조 (회원 ID 부여 및 변경 등)
① 당 사이트는 이용고객에 대하여 약관에 정하는 바에 따라 자신이 선정한 회원 ID를 부여합니다.
② 회원 ID는 원칙적으로 변경이 불가하며 부득이한 사유로 인하여 변경 하고자 하는 경우에는 해당 ID를
해지하고 재가입해야 합니다.
③ 기타 회원 개인정보 관리 및 변경 등에 관한 사항은 서비스별 안내에 정하는 바에 의합니다.
제 3 장 계약 당사자의 의무
제 10 조 (KISTI의 의무)
① 당 사이트는 이용고객이 희망한 서비스 제공 개시일에 특별한 사정이 없는 한 서비스를 이용할 수 있도록
하여야 합니다.
② 당 사이트는 개인정보 보호를 위해 보안시스템을 구축하며 개인정보 보호정책을 공시하고 준수합니다.
③ 당 사이트는 회원으로부터 제기되는 의견이나 불만이 정당하다고 객관적으로 인정될 경우에는 적절한 절차를
거쳐 즉시 처리하여야 합니다. 다만, 즉시 처리가 곤란한 경우는 회원에게 그 사유와 처리일정을 통보하여야
합니다.
제 11 조 (회원의 의무)
① 이용자는 회원가입 신청 또는 회원정보 변경 시 실명으로 모든 사항을 사실에 근거하여 작성하여야 하며,
허위 또는 타인의 정보를 등록할 경우 일체의 권리를 주장할 수 없습니다.
② 당 사이트가 관계법령 및 개인정보 보호정책에 의거하여 그 책임을 지는 경우를 제외하고 회원에게 부여된
ID의 비밀번호 관리소홀, 부정사용에 의하여 발생하는 모든 결과에 대한 책임은 회원에게 있습니다.
③ 회원은 당 사이트 및 제 3자의 지적 재산권을 침해해서는 안 됩니다.
제 4 장 서비스의 이용
제 12 조 (서비스 이용 시간)
① 서비스 이용은 당 사이트의 업무상 또는 기술상 특별한 지장이 없는 한 연중무휴, 1일 24시간 운영을
원칙으로 합니다. 단, 당 사이트는 시스템 정기점검, 증설 및 교체를 위해 당 사이트가 정한 날이나 시간에
서비스를 일시 중단할 수 있으며, 예정되어 있는 작업으로 인한 서비스 일시중단은 당 사이트 홈페이지를
통해 사전에 공지합니다.
② 당 사이트는 서비스를 특정범위로 분할하여 각 범위별로 이용가능시간을 별도로 지정할 수 있습니다. 다만
이 경우 그 내용을 공지합니다.
제 13 조 (홈페이지 저작권)
① NDSL에서 제공하는 모든 저작물의 저작권은 원저작자에게 있으며, KISTI는 복제/배포/전송권을 확보하고
있습니다.
② NDSL에서 제공하는 콘텐츠를 상업적 및 기타 영리목적으로 복제/배포/전송할 경우 사전에 KISTI의 허락을
받아야 합니다.
③ NDSL에서 제공하는 콘텐츠를 보도, 비평, 교육, 연구 등을 위하여 정당한 범위 안에서 공정한 관행에
합치되게 인용할 수 있습니다.
④ NDSL에서 제공하는 콘텐츠를 무단 복제, 전송, 배포 기타 저작권법에 위반되는 방법으로 이용할 경우
저작권법 제136조에 따라 5년 이하의 징역 또는 5천만 원 이하의 벌금에 처해질 수 있습니다.
제 14 조 (유료서비스)
① 당 사이트 및 협력기관이 정한 유료서비스(원문복사 등)는 별도로 정해진 바에 따르며, 변경사항은 시행 전에
당 사이트 홈페이지를 통하여 회원에게 공지합니다.
② 유료서비스를 이용하려는 회원은 정해진 요금체계에 따라 요금을 납부해야 합니다.
제 5 장 계약 해지 및 이용 제한
제 15 조 (계약 해지)
회원이 이용계약을 해지하고자 하는 때에는 [가입해지] 메뉴를 이용해 직접 해지해야 합니다.
제 16 조 (서비스 이용제한)
① 당 사이트는 회원이 서비스 이용내용에 있어서 본 약관 제 11조 내용을 위반하거나, 다음 각 호에 해당하는
경우 서비스 이용을 제한할 수 있습니다.
- 2년 이상 서비스를 이용한 적이 없는 경우
- 기타 정상적인 서비스 운영에 방해가 될 경우
② 상기 이용제한 규정에 따라 서비스를 이용하는 회원에게 서비스 이용에 대하여 별도 공지 없이 서비스 이용의
일시정지, 이용계약 해지 할 수 있습니다.
제 17 조 (전자우편주소 수집 금지)
회원은 전자우편주소 추출기 등을 이용하여 전자우편주소를 수집 또는 제3자에게 제공할 수 없습니다.
제 6 장 손해배상 및 기타사항
제 18 조 (손해배상)
당 사이트는 무료로 제공되는 서비스와 관련하여 회원에게 어떠한 손해가 발생하더라도 당 사이트가 고의 또는 과실로 인한 손해발생을 제외하고는 이에 대하여 책임을 부담하지 아니합니다.
제 19 조 (관할 법원)
서비스 이용으로 발생한 분쟁에 대해 소송이 제기되는 경우 민사 소송법상의 관할 법원에 제기합니다.
[부 칙]
1. (시행일) 이 약관은 2016년 9월 5일부터 적용되며, 종전 약관은 본 약관으로 대체되며, 개정된 약관의 적용일 이전 가입자도 개정된 약관의 적용을 받습니다.