Abstract
Electrochromic $WO_3$ films were prepared by using an electron-beam deposition method. The dependence of the chemical stability of film on the substrate temperature was studied. From the experimental results, The optical property and chemical stability of as-deposited films strongly depended on the substrate temperature. The $WO_3$ film prepared at a substrate temperature of $80^{\circ}C$ was found to be the most stable when subjected to repeated coloring and bleaching cycles in an organic 0.6M $LiClO_4$ solution.
전기적 착색 텅스텐 산화물박막의 전자비임 증착으로 제작하였으며 제작된 막의 화학적 안정성의 기판온도 의존성을 연구하였다. 실험결과로부터, 제작된 시료의 광학적 특성과 화학적 안정성은 강하게 기판온도에 의존하였다. 기판온도 $80^{\circ}C$에서 제작된 $WO_3$막은 유기성 용액 0.6몰 $LiClO_4$속에서 착색과 탈색이 반복되어도 가장 안정하였다.