UV-excited $F_2/H_2$ 를 이용한 실리콘 자연산화막 제거에 관한 연구
(A Study on the Removal of Native Oxide on a Silicon Surface Using UV-Excited $F_2/H_2$ )
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- 대한전기학회:학술대회논문집
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- 대한전기학회 1997년도 하계학술대회 논문집 C
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- pp.1528-1530
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- 1997