• 제목/요약/키워드: Silica thin film

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다공성 SiO2/ITO 나노박막의 전기적 특성 (Electrical Properties of Porous SiO2/ITO Nano Films)

  • 신용욱;김상우
    • 한국재료학회지
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    • 제12권1호
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    • pp.94-99
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    • 2002
  • The electrical properties of porous $SiO_2/ITO$ nano thin film were studied by complex impedance and conductive mechanisms were analyzed. According to the results of complex impedance, the activation energy of $SiO_2/ITO$ and $Zn-SiO_2/ITO$ were 0.309 eV, 0.077 eV in below $450^{\circ}C$ and 0.147 eV in over $450^{\circ}C$, respectively. In case of $SiO_2/ ITO$, slightly direct tunneling occurred at room temperature. The contribution for conduction was very tiny because of high barrier of silica. However, the conductivity abruptly increased in over $300^{\circ}C$ by Thermally assisted tunneling. In case of $Zn-SiO_2/ITO$, high conductivity in 1.26 ${\Omega}^{ -1}{cdot}cm^{-1}$ at room temperature appeared by space charge conduction or Frenkel-poole emission that Zn ions play a role as localized electron states.

Consumable Approaches of Polysilicon MEMS CMP

  • Park, Sung-Min;Jeong, Suk-Hoon;Jeong, Moon-Ki;Park, Boum-Young;Jeong, Hae-Do;Kim, Hyoung-Jae
    • Transactions on Electrical and Electronic Materials
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    • 제7권4호
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    • pp.157-162
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    • 2006
  • Chemical-mechanical polishing (CMP), one of the dominant technology for ULSI planarization, is used to flatten the micro electro-mechanical systems (MEMS) structures. The objective of this paper is to achieve good planarization of the deposited film and to improve deposition efficiency of subsequent layer structures by using surface-micromachining process in MEMS technology. Planarization characteristic of poly-Si film deposited on thin oxide layer with MEMS structures is evaluated with different slurries. Patterns used for this research have shapes of square, density, line, hole, pillar, and micro engine part. Advantages of CMP process for MEMS structures are observed respectively by using the test patterns with structures larger than 1 urn line width. Preliminary tests for material selectivity of poly-Si and oxide are conducted with two types of silica slurries: $ILD1300^{TM}\;and\;Nalco2371^{TM}$. And then, the experiments were conducted based on the pretest. A selectivity and pH adjustment of slurry affected largely step heights of MEMS structures. These results would be anticipated as an important bridge stone to manufacture MEMS CMP slurry.

Support Vector Machine을 이용한 플라즈마 공정 모델링 (Modeling of Plasma Process Using Support Vector Machine)

  • 김민재;김병환
    • 대한전기학회:학술대회논문집
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    • 대한전기학회 2006년 학술대회 논문집 정보 및 제어부문
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    • pp.211-213
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    • 2006
  • In this study, plasma etching process was modeled by using support vector machine (SVM). The data used in modeling were collected from the etching of silica thin films in inductively coupled plasma. For training and testing neural network, 9 and 6 experiments were used respectively. The performance of SVM was evaluated as a function of kernel type and function type. For the kernel type, Epsilon-SVR and Nu-SVR were included. For the function type, linear, polynomial, and radial basis function (RBF) were included. The performance of SVM was optimized first in terms of kernel type, then as a function of function type. Five film characteristics were modeled by using SVM and the optimized models were compared to statistical regression models. The comparison revealed that statistical regression models yielded better predictions than SVM.

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Antiplatelet Constituent Isolated from Thujopsis dolabrata var. hondai

  • Son, Dong-Ju;Park, Byeoung-Soo;Lee, Sung-Eun;Won, Eun-Kyung;Yun, Yeo-Pyo;Park, Young-Hyun
    • 대한약학회:학술대회논문집
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    • 대한약학회 2003년도 Proceedings of the Convention of the Pharmaceutical Society of Korea Vol.1
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    • pp.137.2-138
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    • 2003
  • The steam distillate obtained from sawdust of Thujopsis dolabrata var. hondai was fractionated by centrifugal thin-film evaporation. and then the fractions were investigated against antiplatelet activity using washed rabbit platelets in vitro. The biologically active constituent of T. dolabrata sawdust was isolated by silica gel column chromatography and HPLC and characterized as carvacrol by various spectral analysis ($^{1}H$, $^{13}C$-NMR and GC/MS studies). (omitted)

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기체분리용 세라믹 복합분리막의 개발: I. 극미세 입자 실리카 졸의 코팅 특성 (Development of Ceramic Composite Membranes for Gas Separation: I. Coating Characteristics of Nanoparticulate SiO2 Sols)

  • 현상훈;;윤성필
    • 한국세라믹학회지
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    • 제29권6호
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    • pp.496-504
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    • 1992
  • Alumina tubes suitable for the support of gas separation membranes have been prepared by the slipcasting technique. These supports have the average pore size of 0.1 ${\mu}{\textrm}{m}$ within the narrow distribution. The sol-gel dipcoating process of nanoparticulate sols is very sensitive to microstructure of the support, and the coating on the inside surface of the tube is found to be more successful than on the outside surface. Nanoparticulate silica sols (0.82 mol/ι) have been synthesized by an interfacial hydrolysis reaction between TEOS and high alkaline water. When coating an alumina tube with these sols, the minimum limits of the particle size and the aging time required for forming the coated gel layer at the given pH are provided. It is optimum to coat the support with less concentrated sols stabilized through aging for the appropriate time (more than 22 days) at the lower pH (pH 2.0) for producing a reproducible crack free thin film coating in composite membranes.

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산화제 첨가에 따른 $WO_3$ 박막의 CMP 특성 (Characteristic of Addition Oxidizer on the $WO_3$ Thin Film CMP)

  • 이우선;고필주;최권우;김태완;최창주;오금곤;서용진
    • 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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    • 한국전기전자재료학회 2004년도 하계학술대회 논문집 Vol.5 No.1
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    • pp.313-316
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    • 2004
  • Chemical mechanical polishing(CMP) process has been widely used to planarize dielectric layers, which can be applied to the integrated circuits for sub-micron technology. Despite the increased use of CMP process, it is difficult to accomplish the global planarization of in the defect-free inter-level dielectrics(ILD). we investigated the performance of $WO_3$ CMP used silica slurry, ceria slurry, tungsten slurry In this paper, the effects of addition oxidizer on the $WO_3$ CMP characteristics were investigated to obtain the higher removal rate and lower non-uniformity.

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진공증착법으로 제조한 투명 비정질 $V_2O_5$박막의 특성평가 (Evaluation of Transparent Amorphous $V_2O_5$ Thin Film Prepared by Thermal Evaporation)

  • 황규석;정설희;정주현
    • 한국안광학회지
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    • 제13권1호
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    • pp.27-30
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    • 2008
  • 목적: 본 논문은 저온에서 $V_2O_5$의 cathode의 합성이 가능하다는 것이다. 방법: 간편한 진공 열증착법을 이용하여, 현미경용 소다 라임 실리카 슬라이드 기판위에 가시영역에서 투명하고 결정학적으로 비정질인 $V_2O_5$ 박막을 제조하였다. 100, 150 및 200$^{\circ}C$로 10분간 열처리가 완료된 박막의 표면미세구조와 파단면을 전계방사 주사형 전자현미경으로 분석하였다. 박막의 가시영역에서의 투과율과 표면 거칠기를 ultra violet-visible spectrophotometer와 Scanning probe microscope로 각각 분석하였다. 결과: 열처리 온도가 100$^{\circ}C$에서 150 및 200$^{\circ}C$로 증가함에 따라, 박막의 투과율은 감소하는 경향을 보였다. 박막의 광학적 특성은 표면미세구조적 결과를 바탕으로 토론될 것이다. 결론: 100$^{\circ}C$인 경우 광학적 투과율이 우수하고, 박막의 표면특성이 균질한 비정질 $V_2O_5$ 박막을 제조할 수 있었다.

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폴리머 상부클래드를 이용한 온도무의존 AWG 파장분할 다중화 소자의 설계 및 제작 (Design and fabrication of temperature-independent AWG-WDM devices using polymer overcladding)

  • 한영탁;김덕준;신장욱;박상호;박윤정;성희경
    • 한국광학회지
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    • 제14권2호
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    • pp.135-141
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    • 2003
  • 양의 열광학 계수를 갖는 실리카를 하부클래드 및 코아에 그리고 음의 열광학 계수를 갖는 폴리머를 상부클래드에 적용한 AWG(Arrayed Waveguide Grating) 파장분할 다중화 소자에 대하여 이차원 스칼라 유한차분법(Scalar Finite Difference Method; SFDM)으로 온도의존 특성을 분석한 결과, 클래드의 굴절률을 변화시키거나 실리카 코어 상부에 실리카 박막이 존재하는 구조에서 박막의 두께를 변화시켜 온도의존 특성을 조절할 수 있음을 확인하였다. 이러한 해석결과에 근거하여 폴리머 상부클래드가 적용된 AWG 소자를 제작하였으며 기존의 실리카 AWG 소자와 특성을 비교분석하였다. 폴리머 상부클래드의 도입에 의해 삽입손실 및 크로스톡은 큰 변화가 없었으나 중심파장의 온도의존성은 0.0130 nm/$^{\circ}C$에서 0.0028 nm/$^{\circ}C$ 수준으로 감소하였다.

LPMOCVD에 의한 Li2O 및 Li2CO3 박막의 증착 (Li2O and Li2CO3 Thin Film Growth by LPMOCVD)

  • 정상철;안호근;이마이시노부유키
    • 공업화학
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    • 제10권2호
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    • pp.225-230
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    • 1999
  • Li(DPM)을 원료로 hot wall 수평 관형 반응기를 이용하여 질소-산소 및 아르곤-산소의 분위기에서 $Li_2O$ 고체박막을 LPMOCVD법으로 합성하였다. XRD와 ESCA 분석으로부터 질소-산소 분위기에서는 $Li_2CO_3$막이, 아르곤-산소의 분위기에서는 $Li_2O$막이 성장하였음을 알아냈다. 성막된 산화리튬과 리튬카보네이트는 기판의 실리콘 성분과 반응하여 실리케이트를 형성하였다. 마이크로 trench법과 Monte Carlo 시뮬레이션에 의해 기상반응 속도상수 및 표면반응 속도상수가 얻어졌으며 이를 이용한 성막속도 계산치와 실험치를 비교한 결과 실험조건범위 내에서 잘 일치하였다.

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금속 나프텐산염을 이용하여 제조한 ZnO 박막의 광학적 특성 (Optical Property of Zinc Oxide Thin Films Prepared by Using a Metal Naphthenate Precursor)

  • 임용무;정주현;전경옥;전영선;황규석
    • 한국안광학회지
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    • 제10권3호
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    • pp.193-203
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    • 2005
  • Zn-나프텐산염을 출발 원료로 사용하고 스핀코팅 - 열분해법을 이용하여 실리카 유리 위에 c축으로 배향된 나노 결정질 ZnO 박막을 제조하였다. X-선 회절 분석을 행한 결과, 모든 시편에서 ZnO (002) 피크만이 관찰되었으며, 박막의 열처리 온도가 증가함에 따라 (002) 피크 강도가 증가하였다. 박막의 표면 미세 구조는 매우 균질하였으며, 입자들 간의 응집은 관찰되지 않았다. 박막의 topology를 주사형 탐침 현미경으로 분석한 결과에 따르면, 실리카 기판 자체의 불균질한 표면 특성과 ZnO 입자의 c축 배향 특성에 의한 것으로 보이는 3차원적인 입자성장이 모든 열처리 온도 영역에 대해 박막의 표면에서 관찰되었다. 고배향된 박막들 중에서 $800^{\circ}C$로 열처리한 박막의 표면이 가장 균질한 특성을 나타내었다. 박막의 가시영역에서의 투과율은 $1000^{\circ}C$로 열처리한 박막을 제외하고 모든 박막에 있어서 80% 이상의 투과율을 나타냈으며, 380~400nm 영역에서 날카로운 absorption edge가 나타났다. 흡수피크를 이용하여 계산된 오든 박막의 에너지 밴드 캡은 ZnO 단결정 및 다른 연구자들에 의해 보고된 박막과 같은 영역에 존재하였다. 본 연구에서 제조된 ZnO 박막들 중에 치밀한 입자 성장과 균질한 표면 특성을 보이는 $600^{\circ}C{\sim}800^{\circ}C$로 열처리된 박막은 UV차단성 투명전도막 및 렌즈 등의 광학소자에 실질적인 응용이 기대 된다.

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