Kim, Kyoung-Ho;Lee, Hyouk;Jeong, Jin-Wook;Kim, Ju-Hyung;Choa, Sung-Hoon
Journal of the Microelectronics and Packaging Society
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v.19
no.2
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pp.7-15
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2012
Semiconductor packages are increasingly moving toward miniaturization, lighter and multi-functions for mobile application, which requires highly integrated multi-stack package. To meet the industrial demand, the package and silicon chip become thinner, and ultra-thin packages will show serious reliability problems such as warpage, crack and other failures. These problems are mainly caused by the mismatch of various package materials and geometric dimensions. In this study we perform the numerical analysis of the warpage deformation and thermal stress of 4-layer stacked FBGA package after EMC molding and reflow process, respectively. After EMC molding and reflow process, the package exhibits the different warpage characteristics due to the temperature-dependent material properties. Key material properties which affect the warpage of package are investigated such as the elastic moduli and CTEs of EMC and PCB. It is found that CTE of EMC material is the dominant factor which controls the warpage. The results of RSM optimization of the material properties demonstrate that warpage can be reduced by $28{\mu}m$. As the silicon die becomes thinner, the maximum stress of each die is increased. In particular, the stress of the top die is substantially increased at the outer edge of the die. This stress concentration will lead to the failure of the package. Therefore, proper selection of package material and structural design are essential for the ultra-thin die packages.
Journal of the Korean institute of surface engineering
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v.56
no.1
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pp.77-83
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2023
The reliability of leadframe-based semiconductor package depends on the adhesion between metal and epoxy molding compound (EMC). In this study, the Ag surface was electrochemically treated in a solution containing silanes in order to improve the adhesion between Ag and epoxy substrate. After electrochemical treatment, the thin silane layer was deposited on the Ag surface, whereby the peel strength between Ag and epoxy substrate was clearly improved. The improvement of peel strength depended on the functional group of silane, implying the chemical linkage between Ag and epoxy.
Journal of Korean Society of Occupational and Environmental Hygiene
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v.24
no.3
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pp.272-280
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2014
Objectives: The purpose of this study was to evaluate the characteristics of worker exposure to hazardous chemical substances and propose the direction of work environment management for protecting worker's health in the semiconductor assembly process. Methods: Four assembly lines at two semiconductor manufacturing companies were selected for this study. We investigated the types of chemicals that were used and generated during the assembly process, and evaluated the workers' exposure levels to hazardous chemicals such as benzene and formaldehyde and the current work environment management in the semiconductor assembly process. Results: Most of the chemicals used at the assembly process are complex mixtures with high molecular weight such as adhesives and epoxy molding compounds(EMCs). These complex mixtures are stable when they are used at room temperature. However workers can be exposed to volatile organic compounds(VOCs) such as benzene and formaldehyde when they are used at high temperature over $100^{\circ}C$. The concentration levels of benzene and formaldehyde in chip molding process were higher than other processes. The reason was that by-products were generated during the mold process due to thermal decomposition of EMC and machine cleaner at the process temperature($180^{\circ}C$). Conclusions: Most of the employees working at semiconductor assembly process are exposed directly or indirectly to various chemicals. Although the concentration levels are very lower than occupational exposure limits, workers can be exposed to carcinogens such as benzene and formaldehyde. Therefore, workers employed in the semiconductor assembly process should be informed of these exposure characteristics.
Recently, fan out wafer level packaging, which enables high integration, miniaturization, and low cost, is being rapidly applied in the semiconductor industry. In particular, FOWLP is attracting attention in the mobile and Internet of Things fields, and is recognized as a core technology that will lead to technological advancements such as 5G, self-driving cars, and artificial intelligence in the future. However, as chip density and package size within the package increase, FOWLP warpage is emerging as a major problem. These problems have a direct impact on the reliability and electrical performance of semiconductor products, and in particular, cause defects such as vacuum leakage in the manufacturing process or lack of focus in the photolithography process, so technical demands for solving them are increasing. In this paper, warpage simulation according to the thickness of FOWLP material was performed using finite element analysis. The thickness range was based on the history of similar packages, and as a factor causing warpage, the curing temperature of the materials undergoing the curing process was applied and the difference in deformation due to the difference in thermal expansion coefficient between materials was used. At this time, the stacking order was reflected to reproduce warpage behavior similar to reality. After performing finite element analysis, the influence of each variable on causing warpage was defined, and based on this, it was confirmed that warpage was controlled as intended through design modifications.
Kwak, Daehwan;Park, Dong Min;Oh, Eunbin;Kim, Chang Uk
Journal of the Korea Academia-Industrial cooperation Society
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v.21
no.8
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pp.235-240
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2020
This study evaluated the improvements for circuits of a combat vehicle distribution box to reduce the noise generated in electromagnetic compatibility (EMC) testing. An analysis of the distribution boxes that failed the standard revealed the conducted noise generated from the converter and semiconductor switching elements on the circuit board. The distribution box transfers power from the generator and battery to the cooling system of a combat vehicle to keep turning the air conditioner on and off. Two methods were proposed to overcome this problem: a passive filter was added to the circuit board for the first method, and the converter and switching elements were replaced with the relays for the second method. Both methods were effective in reducing noise, but a greater improvement was obtained from the second method. The second method was applied to a combat vehicle system and was found to be suitable according to the EMC standards.
The major problem encountered in satellite design is EMI (Electro-Magnetic Interference) and EMC (Electro-Magnetic Compatibility). Here, our focus is on the effects of protons on the electronic system. The SEU (Single Event Upset) results from the level change of stored information due to photon radiation and temperature in the space and the nuclear power plant environment. The impact of SEU on PLD (Programmable Logic Devices) technology is most apparent in ROM/SRAM/DRAM devices wherein the state of storage cell can be upset. In this paper, a simple and powerful test techniques is suggested, and the results are presented for the analysis and future reference. The test results are compared with that of JPL test report. In our experiment, the proton radiation facility available at KIRAMS (Korea Institute of Radiological Medical Sciences) has been applied on a commercially available SRAM manufactured by Hynix Semiconductor Company.
International Journal of Aeronautical and Space Sciences
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v.5
no.2
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pp.28-34
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2004
One of the major problem encountered in nuclear plants and satellites design isEMI (Electro-Magnetic Interference) and EMC (Electro-Magnetic Compatibility).Here, our focus is to implement the test board for checking SEU (Single EventUpsets); the effects of protons on the electronic system. The SEU results from thelevel change of stored information due to photon radiation and temperature in thespace environment. The impact of SEU on PLD (Programmable Logic Devices)technology is most apparent in ROM/SRAM/DRAM devices wherein the state ofstorage cell can be upset. In this paper, a simple and powerful test techniques issuggested, and the results are presented for the analysis and future reference. In ourexperiment, the proton radiation facilitv (having the energy of 50 MeV with a beamcurrent of 60 uA of cyclotron) available at KIRAMS (Korea Institute of RadiologicalMedical Sciences) has been applied on a commercially available SRAM manufacturedby Hynix Semiconductor Company.
Mechanochemical effects that occurred in the fine grinding process of quartz particles using planetary ball mill was investigated. Quartz particles have been frequently utilized for optical materials, semiconductor molding materials. We determined that grinding for a long time can be create amorphous structures from the crystalline quartz by Mechanochemical effects. But, to be produced nano-composite particles that the critical grinding time reached for composite materials in a short time. Henceforth, a qualitative estimation must be conducted on the filler for EMC(Epoxy molding compound) materials. It can be produced mechanochemically treated composite materials and also an integrated grinding efficiency considering of the nano-composite amorphous structured particles. The mechanochemical characteristics were evaluated based on particle morphology, size distribution, specific surface area, density and the amount of amorphous phase materials into the particle surface. The grinding operation in the planetary ball mill can be classified into three stages. During the first stage, initial particle size was reduced for the increase of specific surface area. In the second stage, the specific surface areas increased in spite of the increase in particle size. The final stage as a critical grinding stage, the ground quartz was considered mechanochemically treated particles as a nano- composite amorphous structured particles. The development of amorphous phase on the particle surface was evaluated by X-ray diffractometry, thermal gravity analysis and IR spectrometer. The amount of amorphous phase of particles ground for 2048 minutes was 85.3% and 88.2% by X-ray analysis and thermal gravity analysis, respectively.
So for the quartz-glassy crucible wastes which was used for pulling up silicon-single-crystal ingot have simply reused for refractory raw-materials, or exhausted. This study is concerned on the advanced recycling-technology that is obtained by the proper micro-particle preparation process in order to fabricate fine amorphous silica filler for EMC (Epoxy Molding Compound). Therefore, this paper will deal with the physical, chemical and thermal pre-treatment process for efficient impurity removal and with the proper micro-particle process for producing the amorphous silicafiller. In view of the results, if the chemical, physical and thermal pre-treatment process for efficient elimination of impurity was passed, the purity of wasted fused glassy crucible is almost equal to the its of first anhydrous quartz glass. Thus, it was understood that this wasted fused glassy crucible was sufficient value of recycling, though it was damaged. When the ingot was fabricated, Phase transformation of crystallization by heat treatment (heat hysteresis phenomenon) was not changed. So, it was understood that as fused silica in the amorphous state, as It is, recycling possibility was very high
In the present study, an EMC (Electromagnetic Casting) process, using a segmented Cu cold crucible under a high frequency alternating magnetic field of 20 kHz, was practiced for the fabrication of poly-crystalline Si ingot of 50 mm diameter. The effects of Joule heating and electromagnetic pressure in molten Si were systematically investigated with various processing parameters such as electric current and crucible configuration. A preliminary experimental work was initiated with the pure Al system for the establishment of a stabilized non-contact working condition, and further adapted to the semiconductor-off-grade Si system. A commercialized software such as Opera-3D was utilized in order to simulate electromagnetic pressure and Joule heating. In order to evaluate the meniscus shape of the molten melts, shape parameter was used throughout the research. A segmented graphite crucible, which was attached at the upper part of the cold crucible, was introduced to enhance significantly the heating efficiency of Si melt keeping non-contact condition during continuous melting and casting processes.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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