• 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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• 한국전기전자재료학회 2004년도 하계학술대회 논문집 Vol.5 No.1
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• pp.243-246
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• 2004

W CMP 공정에서 abrasive 의 size 및 shape 에 따른 CMP 거동에 대해 관찰하였으며, 주요 제거 막질인 W 막질과 stopping layer 로 사용되는 Oxide 막질에 대한 압력(P)과 상대 속도(V) 영향성을 관찰하였다. CMP 제거량이 입자의 size 변화에 의존한다는 기존의 이론과는 달리 응집도(aggregate ratio) 변화가 주요 변수임을 밝혀 내었다. 한편, 각 막질에 대한 P,V 영향성 평가를 통해, 변형된 Prestonian equation 이 abrasive size 및 shape 에 상관없이 W 막질의 제거 거동을 설명하는데 중요한 역할을 수행함을 보였다. 그렇지만, W CMP 공정에서 stopping layer 로 사용되는 oxide 막질의 거동을 설명하는 데에는 어려움이 있었으며, 특히 P,V 에 의한 비선형적 removal rate(RR) 거동발생으로 인해 기존의 이론치와는 많은 차이를 나타내었다. 또한, abrasive size 와 shape 에 따라서도 복잡한 거동을 나타낸다.

• 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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• 한국정보디스플레이학회 2008년도 International Meeting on Information Display
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• pp.689-691
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• 2008

We present a novel power estimation technique for LCD panels. Our method considers the power consumed by each pixel as well as the inter-pixel power effect of the neighboring pixels. We implemented our method based on the table lookup model and its accuracy is about 98% compared to the actual measurements.

• Journal of Electrochemical Science and Technology
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• 제5권2호
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• pp.53-57
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• 2014

With the use of diffusion-limited aggregation modeling, we have investigated the effect of particle drift for dendritic growth. It is found that the morphology of dendritic growth is sensitive to the particle drift, i.e., the larger drift effect results in the denser growth of dendrite. From the analysis using the correlation function, we found the fractional dimension of each dendrite increases as the particles drift increases. Furthermore, we showed the height of dendrite significantly decrease for the slight change of particles drift. Finally, we discussed the strategy to reduce dendritic growth by modifying the transport properties of electrolytes.

• 한국통신학회논문지
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• 제42권1호
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• pp.153-156
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• 2017

본 논문은 TCP 수정 없이 상향링크 혼잡 상황에서 확인응답 지연시간 개선을 통해 하향링크 TCP 성능을 향상시킬 수 있는 새로운 상향링크 혼잡 제어 기술을 제안한다. 제안한 방법으로 하향링크 TCP 성능이 향상됨을 실험을 통해 확인한다.

• 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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• 한국전기전자재료학회 2008년도 하계학술대회 논문집 Vol.9
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• pp.527-527
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• 2008

전자 기기의 고기능화 고집적화에 따른 배선 패턴의 미세화가 요구되어지고 있다. 이로 인해 미세한 배선을 형성하고자 하는 많은 연구가 진행되고 있다. 본 연구에서는 금속 나노 잉크를 사용하여 금속 배선 패턴을 형성할 때 배선을 보다 미세하게 만들기 위한 기판의 표면처리에 관한 것이다. 미세 배선을 형성하기 위한 기판 표면처리법은 보통 발수 처리법을 많이 사용하는데 이는 미세 배선을 형성하는 데에는 효과적이지만 잉크와 기판과의 접착력을 저하시켜 인쇄 후 기판으로부터 배선이 잘 떨어져 나가는 문제가 있다. 본 연구에서는 배선과 기판의 접착력은 저하시키지 않으면서 미세배선을 형성할 수 있는 기판의 효과적인 표면처리법을 개발하고자 하였다.

• 한국정밀공학회:학술대회논문집
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• 한국정밀공학회 2005년도 추계학술대회 논문집
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• pp.689-693
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• 2005

Inkjet printing is a non-contact and direct writing associated with a computer. In the industrial field, there have been many efforts to utilize the inkjet printing as a new way of manufacturing, especially for electronic devices. For the application of inkjet printing to electronic field, one of the key factors is exact realization of designed images into printed patterns. In this work, micro patterning for conducting line has been studied using the piezoelectric print head and silver nano ink. Dimensions of printed images have been predicted in terms of print resolution and diameter of a single dot. The predicted and the measured values showed consistent results. Using the results, the design capability for industrial inkjet printing could be achieved.

• 전력전자학회논문지
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• 제24권5호
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• pp.311-318
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• 2019

In general wireless power transfer systems (WPTSs), power transfer is controlled by the wireless communication between a transmitter (Tx) and a receiver (Rx). However, WPTS is difficult to apply in electronic products that do not have batteries, such as TVs. A WPTS with resonators based on a transformer of LLC series resonant converter is proposed in this study to eliminate wireless communication units between a Tx and an Rx. The proposed system operates at the boundary of the resonance frequency, and the required power can be stably supplied to authorized devices even though some misalignment occurs. Moreover, standby power standards for the electronic product can be satisfied.

• 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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• 한국전기전자재료학회 2006년도 추계학술대회 논문집 Vol.19
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• pp.51-52
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• 2006

FFL의 내구성 및 신뢰성 확보를 위해 Lamp 상태에서 원하는 부위에 $-15^{\circ}C$를 유지하기 위한 Cold Spot을 부착하여 Lamp안의 Hg이 완전히 포집되도록 한다. 이후 이 Cold Spot을 제거하여 Hg peak과 Ne Peak의 Ratio의 변화를 관찰하며 Hg이 이동하는 것을 관잘 하여 Lamp 내에서 이동 속도와 Lamp 간에 이동 속도를 확인 할 수 있다. Lamp 내에서는 80분이 경과한 후에 Hg 이동이 Saturation되는 것을 확인 할 수 있고, Lamp 간에는 100시간이 경과후에 Saturation 되는 것을 확인 할 수 있었고, Ratio는 Channel내는 70 ~ 150, Channel간에는 6~10 정도임을 확인하여 Hg이 이동되는 속도와 회복되는 수준을 알 수 있었다.

• 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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• 한국전기전자재료학회 2004년도 추계학술대회 논문집 Vol.17
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• pp.666-670
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• 2004

VLSI 소자에서 design rule(D/R)이 작아져 각 단위 Pattern의 size가 작아짐에 따라 aspect ratio가 커지게 되었다. 산화막 contact etch를 하는데 있어 산화막 측벽을 보호하는데, 이러한 보호막은 주로 fluoro-carbon 계열의 polymer precursor들이 사용된다. Aspect ratio(A/R)가 5 이하일 때에는 측벽의 보호막에 의한 바닥 변형이 문제가 되지 않으나, 10 이상의 A/R를 가진 contact에서는 크기가 줄고, 모양이 불균형하게 변하는 바닥 변형을 쉴게 관찰할 수 있다. 이러한 바닥 변형이 커지면 contact 저항이 높아지는 것은 물론이고, 심하게는 하부 pattern과 overlap 불량을 유발할 수 있다. 본 논문에서는 바닥변형을 일으키는 원인을 분석하고 fluoro-carbon 계열의 polymer precursor의 종류$(C_4_F6\;vs.\;C_3F_8)$에 따른 polymer증착 상태 확인 및 pattern비대칭에 따른 바닥 변형의 고찰과 plasma etching 시 H/W 변형을 통해 바닥 변형이 거의 없는 조건을 찾아낼 수 있었다.

• 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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• 한국전기전자재료학회 2008년도 추계학술대회 논문집 Vol.21
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• pp.413-413
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• 2008

최근 잉크젯, 스크린, 그라비아 등 기존의 인쇄 방식과 인쇄 기술을 이용하여 저가의 전자회로 혹은 전자 소자를 제조하고자 프린팅 소재 및 공정 개발에 대한 산업계의 관심이 증가하고 있다. 특히 PCB, RFID, 디스플레이, 태양전지 분야의 전극재료의 개발에 많은 연구가 진행 중에 있으며, 다양한 인쇄 방법 중 미세회로의 구현이 가능한 잉크젯 프린팅을 통한 전극 형성방법에 주목하고 있다. 본 연구는 잉크젯 프린팅 방식을 통해 배선을 형성하고자 이에 적합한 다양한 농도의 잉크를 배합하여 평가하였으며, 첨가제 및 소결, 건조 조건의 변화를 통해 기재와의 부착력, 배선의 크랙을 조절하였다.