습식 식각에 의한 실리콘 웨이퍼의 표면 및 전기적 특성변화(1) - 불산 농도에 따른 표면형상 변화 - (Change of Surface and Electrical Characteristics of Silicon Wafer by Wet Etching(1) - Surface Morphology Changes as a Function of HF Concentration -)
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- 한국재료학회지
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- 제23권6호
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- pp.316-321
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- 2013