The ignition characteristics of a reactive solid with rough surface by constant heat flux were studied. The geometry of surface was represented by a set of identical protrusions having a shape of wedge based on the block of reactive solid. Several regimes of ignition were found, depending on the ratio of the protrusion length and the depth of the heated layer, formed in course of ignition process: 1) when the substance is ignited as the massive block, and the effect of roughness is not pronounced; 2) when ignited are the individual protrusions; and 3) in the intermediate region between the first two. Critical ignition conditions: ignition time and ignition criterion, are determined for the three regimes. The results are compared with the results for the one-dimensional ignition of the semi-infinite body. It is shown, that the effect of geometry on ignition results in the considerable reduction of ignition delay, and the amount of energy required for the successful ignition is less compared to the one- dimensional case.
This paper is the follow-on of a previous paper by the author where it was pointed out that the forthcoming, manned exploration missions to Mars, by means of complex geometry spacecraft, involve the study of phenomena like shock wave-boundary layer interaction and shock wave-shock wave interaction also along the entry path in Mars atmosphere. The present paper focuses the chemical effects both in the shock layer and on the surface of a test body along the Mars orbital entry and compares these effects with those along the Earth orbital re-entry. As well known, the Mars atmosphere is almost made up of Carbon dioxide whose dissociation energy is even lower than that of Oxygen. Therefore, although the Mars entry is less energized than the Earth re-entry, one can expect that the effects of chemistry on aerodynamic quantities, both in the shock layer and on a test body surface, are different from those along the Earth re-entry. The study has been carried out computationally by means of a direct simulation Monte Carlo code, simulating the nose of an aero-space-plane and using, as free stream parameters, those along the Mars entry and Earth re-entry trajectories in the altitude interval 60-90 km. At each altitude, three chemical conditions have been considered: 1) gas non reactive and non-catalytic surface, 2) gas reactive and non-catalytic surface, 3) gas reactive and fully-catalytic surface. The results showed that the number of reactions, both in the flow and on the nose surface, is higher for Earth and, correspondingly, also the effects on the aerodynamic quantities.
In nitride and oxide film deposition, sputtered metals react with nitrogen or oxygen gas in a vacuum chamber to form metal nitride or oxide films on a substrate. The physical properties of sputtered films (metals, oxides, and nitrides) are strongly influenced by magnetron plasma density during the deposition process. Typical target power densities on the magnetron during the deposition process are ~ (5-30) W/cm2, which gives a relatively low plasma density. The main challenge in reactive sputtering is the ability to generate a stable, arc free discharge at high plasma densities. Arcs occur due to formation of an insulating layer on the target surface caused by the re-deposition effect. One current method of generating an arc free discharge is to use the commercially available Pinnacle Plus+ Pulsed DC plasma generator manufactured by Advanced Energy Inc. This plasma generator uses a positive voltage pulse between negative pulses to attract electrons and discharge the target surface, thus preventing arc formation. However, this method can only generate low density plasma and therefore cannot allow full control of film properties. Also, after long runs ~ (1-3) hours, depends on duty cycle the stability of the reactive process is reduced due to increased probability of arc formation. Between 1995 and 1999, a new way of magnetron sputtering called HIPIMS (highly ionized pulse impulse magnetron sputtering) was developed. The main idea of this approach is to apply short ${\sim}(50-100){\mu}s$ high power pulses with a target power densities during the pulse between ~ (1-3) kW/cm2. These high power pulses generate high-density magnetron plasma that can significantly improve and control film properties. From the beginning, HIPIMS method has been applied to reactive sputtering processes for deposition of conductive and nonconductive films. However, commercially available HIPIMS plasma generators have not been able to create a stable, arc-free discharge in most reactive magnetron sputtering processes. HIPIMS plasma generators have been successfully used in reactive sputtering of nitrides for hard coating applications and for Al2O3 films. But until now there has been no HIPIMS data presented on reactive sputtering in cluster tools for semiconductors and MEMs applications. In this presentation, a new method of generating an arc free discharge for reactive HIPIMS using the new Cyprium plasma generator from Zpulser LLC will be introduced. Data (or evidence) will be presented showing that arc formation in reactive HIPIMS can be controlled without applying a positive voltage pulse between high power pulses. Arc-free reactive HIPIMS processes for sputtering AlN, TiO2, TiN and Si3N4 on the Applied Materials ENDURA 200 mm cluster tool will be presented. A direct comparison of the properties of films sputtered with the Advanced Energy Pinnacle Plus + plasma generator and the Zpulser Cyprium plasma generator will be presented.
Hyperthermal ion/surface collisions of bromotoluene radical cations were studied using perfluorinated (F-SAM) and hydroxyl-terminated (OH-SAM) self-assembled monolayer surfaces in a tandem mass spectrometer with BEEQ geometry. The isomers were differentiated by ion abundance ratios taken from surface-induced dissociation (SID). The dissociation rate followed the order of ortho > meta > para isomers. The peak abundance ratio of m/z 51 to m/z 65 showed the best result to discern the isomers. A dissociation channel leading to tolylium ion was suggested to be responsible for the pronounced isomeric differences. The capability of SID to provide high-energy activation with narrow internal energy distribution may have channeled the reaction into the specific dissociation pathway, also facilitating small differences in reaction rates to be effective in the spectral time window of this experiment. All of the molecular ions experiencing reactive collisions with the F-SAM surface undergo transhalogenation, in which a fluorine atom on the surface replaces the bromine in the incoming ions. This reactive collision was dependent on the laboratory collision energy occurring in ca. 40.75 eV range.
Thermal reactive diffusion coating of vanadium carbide on DIN 2714 steel substrate was performed in a molten borax bath at $950-1050^{\circ}C$. The coating formed on the surface of the substrate had uniform thickness ($1-12{\mu}m$) all over the surface and the coating layer was hard (2430-2700 HV), dense, smooth and compact. The influence of the kinetics parameters, temperature and time, has been investigated. Vanadium carbide coating was characterized by scanning electron microscopy (SEM), energy dispersive X-ray spectrometry (EDX) and X-ray diffraction analysis (XRD). The corrosion resistance of the coating was evaluated by potentiodynamic polarization in 3.5% NaCl solution. The results obtained showed that decrease of coating microhardness following increasing time and temperature is owing to the coarsening of carbides and coating grain size.
A low-cost, large area, random, maskless texturing scheme independent of crystal orientation is expected to significantly impact terrestrial photovoltaic technology. We investigated silicon surface microstructures formed by reactive ion etching (RIE) in Multi-Hollow cathode system. Desirable texturing effect has been achieved when radio-frequency (rf) power of about 20 Watt per one hollow cathode glow is applied for our RF Multi-Hollow cathode system. The black silicon etched surface shows almost zero reflectance in the visible region as well as in near IR region. The etched silicon surface is covered by columnar microstructures with diameters from 50 to 100 nm and depth of about 500 nm. We have successfully achieved 11.7% efficiency of mono-crystalline silicon solar cell and 10.2% multi-crystalline silicon solar cell.
In this study, it has been tried to make the single Mo-Cu alloying targets with the Cu showing the best surface hardness that was determined by investigation on the coatings with the double target process. The single alloying targets were prepared by powder metallurgy methods such as mechanical alloying and spark plasma sintering. The nanocomposite coatings were prepared by reactive magnetron sputtering process with the single alloying targets in $Ar+N_2$ atmosphere. The microstructure changes of the Mo-Cu-N coatings with diverse Cu contents were investigated by using XRD, SEM and EDS. The mechanical properties of the coatings were evaluated by using nano-indentor, scratch test, and ball on disc methods. Especially, the coated samples were tested by using various lubricating oil to compare the property of anti wear-resistance. In this study, the nano-composite MoN-Cu coatings prepared using an alloying target was eventually compared with the coatings from the multiple targets.
We examined ammonia diffusion on the surface of amorphous ice film through the measurement of decreasing residual quantity of $NH_3$ molecules compared to $H_2O$. The populations of $NH_3$ molecules on the surface of amorphous ice were monitored by using the techniques of temperature programmed reactive ion scattering (TPRIS) method. The ratio of intensity between ammonia and water was examined as a function of time at controlled temperature. When ammonia molecules were externally added onto an ice film at a temperature of 80 K, ammonia coverage with regard to ice was 0.12-0.16 ML. The intensity of ammonia molecules on the surface of ice decreased as time increased and the extent of decreased intensity of ammonia increased as controlled temperature increased. Moreover, energy barrier was estimated to be $51kJmol^{-1}$ on amorphous ice film. The results of the experiment indicate that ammonia molecules have a property of vertical diffusion into amorphous ice and the energy barrier of ammonia diffusion into bulk of ice is higher than that of hydrogen bonding.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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