This paper suggests local voltage control method to achieve coordinative control between STATCOM and other reactive power resources, such as Shunt Capacitor/Reactors and OLTC. Voltage/Reactive power control has various difficult aspects to control because of analysis and system dynamics error. This control method suggests practical algorithm regarding system voltage and reactive power status which is easy to implement in substation basis. In normal status, STATCOM-Shunts-OOTC are in operation. In emergency status, OLTC is locked. This algorithm is tested and verified in EMTDC.
Due to the mismatched line impedance among distributed generation units (DGs) and uncontrolled harmonic current, the droop controller has a number of problems such as inaccurate reactive power sharing and voltage distortion at the point of common coupling (PCC). To solve these problems, this paper proposes a resistive-capacitive virtual impedance control method. The proposed control method modifies the DG output impedance at the fundamental and harmonic frequencies to compensate the mismatched line impedance among DGs and to regulate the harmonic current. Finally, reactive power sharing is accurately achieved, and the PCC voltage distortion is compensated. In addition, adaptively controlling the virtual impedance guarantees compensation performance in spite of load changes. The effectiveness of the proposed control method was verified by experimental results.
This study presents a method for reducing current distortion that occurs when a dual-buck inverter generates reactive power. Dual-buck inverters, which are only capable of unity power factor operation, can generate reactive power capabilities by modifying a modulation technique. However, under non-unity power factor conditions, current distortion occurs at zero-crossing points of grid voltage and output current. This distortion is caused by parasitic capacitors, dead-time, and discontinuous conduction mode operation. This study proposes a modified modulation method to alleviate the current distortion at zero-crossing point of the grid voltage. A repetitive controller is applied to reduce this distortion of the output current. A 1 kVA prototype is built and tested. Simulation and experimental results demonstrate the effectiveness of the proposed method.
This paper was developed a monitoring and control system to use reactive power control algorithm. This algorithm could be improved voltage stability in power system. This method was controlled the voltage for stability improvement, effective usage of reactive power, and the increase of the power quality. PMS(Power Management System) has been calculate voltage sensitivity, and control reactive power compensation device. The voltage control was used to the FACTS, MSC/MSR(Mechanically Switched Capacitors/Reactors), and tap of transformer in power system. The reactive power devices in power system were control by voltage sensitivity ranking of each bus. Also, to secure momentary reactive power, it had been controlled as the rest of reactive power in the each bus. In here, reactive power has been MSC/MSR. The simulation result, First control was voltage control as fast response control of FACTS. Second control was voltage control through the necessary reactive power calculation as slow response control of MSR/MSR. Third control was secured momentary reactive reserve power. This control was method by cooperative control between FACTS and MSR/MSC. Therefore, the proposed algorithm was had been secured the suitable reactive reserve power in power system.
분산 해쉬 테이블(DHT : Distributed Hash Table) 기반의 P2P는 기존 Unstructured P2P 방식의 단점을 보완하기 위한 방식이다. DHT 알고리즘을 사용하면 빠른 데이터 검색을 할 수 있고, 피어 개수에 무관하게 검색 효율을 유지할 수 있다. DHT 방식의 피어들은 카우팅 테이블을 최신으로 유지하기 위해 주기적으로 메시지를 보낸다. 모바일 환경의 경우, DHT 방식의 피어들은 라우팅 테이블을 최신으로 유지하고 요청 실패를 줄이기 위해서 빠른 주기로 메시지를 보내야 한다. 하지만 이로 인해, 전체 네트워크의 트래픽은 증가하게 된다. 본 논문에서는 리액티브 라우팅 테이블 업데이트 방식을 이용하여 기존 DHT에서의 라우팅 테이블 업데이트에 따른 부하를 줄이는 기법을 제안한다. 주기적으로 자신의 라우팅 테이블을 업 데이트하는 기존 방식(Proactive)과 달리, 제안된 방식에서는 데이터 요청이 들어 왔을 때만 라우팅 테이블을 업데이트하는 방식(Reactive)을 사용한다. 제안된 방식은 버클리 대학에서 만들어진 Chord 시뮬레이터(I3)를 이용하여 실험을 수행하였다. 실험을 통하여 제안된 방식이 기존 방식에 비해 성능이 향상되었음을 확인하였다.
본 논문에서는 동적 움직임을 갖는 장애물이 위치한 주행환경에서 이동로봇의 충돌회피 기능을 포함하는 효율적인 반응경로계획 기법을 제안하고자 한다. 로봇의 동적 장애물과의 충돌회피 기능을 위해서 반응경로계획기법을 기반으로 키넥트센서를 이용한 센서융합기법의 보완을 통해서 자율주행의 강건성을 증대시키고자 하였다. 반응경로기법에서 사용된 접근방식은 동적장애물을 가상좌표평면에서 지역관측기개념을 이용하여 정적장애물로 좌표변환을 가능하게하며, 생성된 가상평면에서의 로봇과 장애물의 충돌 발생 가능한 속도와 경로의 운동학적 정보추출이 가능하게 된다. 또한 키넥트 센서 정보를 융합하여 장애물의 방향과 위치 정보를 추정하여 동적 환경에서의 주행성능의 정미도를 증대시키고자 하였다. 본 연구에서 제안 기술의 성능을 검증하기 위해서 임베디드 로봇플랫폼과 여러 개의 동적 장애물을 이용하여 시뮬레이션 해석 및 실험을 수행하였다.
This paper describes the method of operating the phase controlled rectifier by controlling the firing angle in III, IV quadrant to absorb the lrading reactive power and of improving the waveform of ac current by driving dual converter. The system is intended to compensate the reactive power for any lagging load. Also, by the above method this paper enables us to improve the power factor and waveform referred to the source current and the dc output voltage in the converter.
In nitride and oxide film deposition, sputtered metals react with nitrogen or oxygen gas in a vacuum chamber to form metal nitride or oxide films on a substrate. The physical properties of sputtered films (metals, oxides, and nitrides) are strongly influenced by magnetron plasma density during the deposition process. Typical target power densities on the magnetron during the deposition process are ~ (5-30) W/cm2, which gives a relatively low plasma density. The main challenge in reactive sputtering is the ability to generate a stable, arc free discharge at high plasma densities. Arcs occur due to formation of an insulating layer on the target surface caused by the re-deposition effect. One current method of generating an arc free discharge is to use the commercially available Pinnacle Plus+ Pulsed DC plasma generator manufactured by Advanced Energy Inc. This plasma generator uses a positive voltage pulse between negative pulses to attract electrons and discharge the target surface, thus preventing arc formation. However, this method can only generate low density plasma and therefore cannot allow full control of film properties. Also, after long runs ~ (1-3) hours, depends on duty cycle the stability of the reactive process is reduced due to increased probability of arc formation. Between 1995 and 1999, a new way of magnetron sputtering called HIPIMS (highly ionized pulse impulse magnetron sputtering) was developed. The main idea of this approach is to apply short ${\sim}(50-100){\mu}s$ high power pulses with a target power densities during the pulse between ~ (1-3) kW/cm2. These high power pulses generate high-density magnetron plasma that can significantly improve and control film properties. From the beginning, HIPIMS method has been applied to reactive sputtering processes for deposition of conductive and nonconductive films. However, commercially available HIPIMS plasma generators have not been able to create a stable, arc-free discharge in most reactive magnetron sputtering processes. HIPIMS plasma generators have been successfully used in reactive sputtering of nitrides for hard coating applications and for Al2O3 films. But until now there has been no HIPIMS data presented on reactive sputtering in cluster tools for semiconductors and MEMs applications. In this presentation, a new method of generating an arc free discharge for reactive HIPIMS using the new Cyprium plasma generator from Zpulser LLC will be introduced. Data (or evidence) will be presented showing that arc formation in reactive HIPIMS can be controlled without applying a positive voltage pulse between high power pulses. Arc-free reactive HIPIMS processes for sputtering AlN, TiO2, TiN and Si3N4 on the Applied Materials ENDURA 200 mm cluster tool will be presented. A direct comparison of the properties of films sputtered with the Advanced Energy Pinnacle Plus + plasma generator and the Zpulser Cyprium plasma generator will be presented.
As one of ancillary services, voltage support and reactive power service should be compensed properly for its contribution. In this paper, a cost-based reactive power planning is presented. which minimizes the total cost of reactive power support of generators and VAR compensation facility installation. Reactive power support of generator is evaluated by the opportunity costs of reduced energy sale considering the varying SMP(system marginal price) in power market, Gradient projection method is applied to solve this reactive power planning using IEEE14 bus system.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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