$O_{2}$ re-annealing에 의한 식각된 PZT 박막의 식각 damage 개선
(Recovery of Etching Damage of the etched PZT Thin Films With $O_{2}$ Re-Annealing.)
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- 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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- 한국전기전자재료학회 2001년도 춘계학술대회 논문집 반도체재료
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- pp.8-11
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- 2001