Each four polycyclic aromatic hydrocarbons (PAHs) was reacted with OH radical at $1.5{\AA}$ distance by CAChe MOPAC 2000 program. These results were compared to those reported experimental results. Reaction positions of all four PAHs corresponded with predicted positions in which ${\Delta}$E(HOMO-LUMO) was approximately 4.7. Finally oxygen of OH radical combined with PAH and quinone form of products were produced. These results indicate that the proposed determining the ${\Delta}$E(HOMO-LUMO) can be effectively applied to predict reaction position of recalcitrant compounds such as dioxins, PCBs, POPs, and etc.
The intermediate product resulting from the radical degradation experiment of PCE and the atomic charge gained through Gaussian03W were compared against each other. The result was that the ratio of PCE radical degradation was almost 98% or higher after the 9 hr point in reaction time. The reaction speed constant was $0.16hr^{-1}$ and it followed the first reaction. We could see that at each location of the PCE molecule, dechlorination happened at a point where the negative atomic charge was the greatest. Moreover, the intermediate product of PCE radical degradation that was confirmed in the experiment and literature coincided exactly with the intermediate product in the atomic charge calculation. Therefore, when the atomic charge is calculated, the radical degradation pathway of the organic chlorine compound could be forecast.
HOMO(the highest occupied molecular orbital) and LUMO(the lowest unoccupied molecular orbital) of four recalcitrant polycyclic aromatic hydrocarbons (PAHs) were calculated by MOPAC program(CaChe Co). The previous papers which reported experimental results about radical reaction of PAHs were reviewed. The reported radical reaction positions of four PAHs corresponded with predicted positions in which ${\Delta}E$(HOMO-LUMO) was high. From these results, it appears that determining the ${\Delta}E$(HOMO-LUMO) of a PAH is a promising method for predicting the radical reaction position.
아세토니트릴 용매에 녹은 티안트렌 양이온 자유라디칼 과염소산염과 티오크잔틴을 반응시키면 티안트렌과 티오크잔틴 양이온 라디칼 대신에 티오크잔틸이움 이온이 생성된다. 이 혼합물에 아니솔, 아닐린, N,N-디에틸아닐린, 카테콜, 에틸벤젠 등을 가해 줌으로서 각각 9위치에 치환기를 가진 티오크잔틴을 얻었다. 디벤조-18-크라운-6-에테르, 디페닐수은과 삼페닐포스핀과의 반응에서도 같은 유형의 생성물이 얻어진다. 그러나 전자받게를 가진 방향족 화합물과의 반응은 너무 느리거나 반응이 일어나지 않았다.
The radical reaction position was calculated by varying the calculation level for ACEL and ANT, which are detected with the highest frequency and concentration in PAHs pollution sites. The results of each calculation level were compared and evaluated with the existing literature. HF, B3LYP, B3LYP-D, and MP2 were used as the method for each level used for calculation. Except for HF, the MK charge by B3LYP, B3LYP-D, and MP2 was consistent with the experimental results. It was found that the dispersion effect was negligible in the calculation of ACEL and ANT because the calculation results by the B3LYP and B3LYP-D methods were the same. In particular, it was found that the MK charge calculation result by MP2 agrees well with the product/PAH ratio obtained as a result of the experiment. Considering the calculation cost, it would be preferable to use B3LYP to predict the radical reaction site of ACEL and ANT. However, considering the product/PAH ratio, it takes more time to calculate, but it is judged that it is better to use the MP2.
The predictions of the radical reaction sites for phenol, 2-, 3- and 4-chlorophenols (CPs) and 4-chloronitrobenzene (CNB) were studied by atomic charge distribution calculations. The atomic charge distributions on each atom of these molecules were obtained using the CHelpG and MK (Merz-Kollman/Singh) methods with the optimized structural parameters determined by DFT calculation at the level of BLYP/6-311++G(d,p). By comparing the experimentally obtained hydroxyl addition site(s) and the calculated atomic charges on carbon atoms of phenol and CPs, we found that hydroxyl substitution by oxidation reaction mainly occurred to the carbon(s) with high atomic charges. With these results, we were easily able to predict the position(s) of the ·OH reaction site(s) of phenol, CPs and CNB through atomic charge distribution calculations.
The Electron/Hole Pair is generated when the Activation Energy produces by Ultraviolet Ray illumination to the Semiconductor. And $OH^-$ ion produces by Water Photo-Cleavage reacts with Positive Hole. As a result, OH Radical acting as strong oxidant is generated and then Photocatalytic Oxidation Reaction occurs. The Photocatalytic Oxidation can oxidize the chlorophenol to Chloride and Carbon Dioxide easier, safer and shorter than conventional Water Treatment Process With the same degree of chlorination, the $Cl^-$ ion at para (C4) position is most easily replaced by the OH radical. And then, the blocking effect of $OH^-$ ion between the $Cl^-$ ions and $Cl^-$ ions at symmetrical location is easily replaced by the OH radical. For mono-, di-, tri-chlorophenols, there is no obvious difference in decomposition rate, decomposition efficiency and completeness of the decomposition reaction except for 2,3-dichloropheno, 2,4,5-, 2,3,4-trichlorophenol. The decomposition efficiency is higher than 75% and completeness of the decomposition reaction is higher than 70%. Therefore, continuous flow photocatalytic reactor is promising process to remove the chlorinated aromatic compounds which is more toxic than non-chlorinated aromatic compound.
Searching for new molecular radicals which are believed to play an important role as reaction intermediates in aromatic chain reactions, we have applied the technique of corona excited supersonic expansion employing a pinhole-type glass nozzle to obtain the vibronic spectrum from the corona discharge of precursor 3,5-difluorotoluene with a large amount of inert carrier gas helium. An analysis of the observed spectrum revealed that many vibronic bands are from other isomeric difluorobenzyl radicals generated in the jet by migration of the fluorine atom or methylene group to the adjacent position in the 3,5-difluorobenzyl radical. A possible mechanism was proposed for the formation of other isomers by using a bridged cyclic intermediate structure.
We have calculated the ${\pi}$-electron density, atom self-polarizability, and free valence on each atom of N-(2-chlorobenzyl)-pyridinium, N-(benzyl)-2-chloropyridinium, and N-(2-chlorobenzyl)-2-chloropyridinium salts using a simple Huckel method in order to discuss their intramolecular photocyclization reaction in a qualitative method. Our calculation qualitatively predicts that photocyclization occurs through forming radicals as a reaction intermediate by breaking a C-Cl bond after photoexcitation into a triplet state via intersystem crossing from an initially excited singlet state. We noticed that this C-Cl bond breaking is aided by ${\pi}$-complex formation between a chlorine atom and the ${\pi}$ -electrons of the neighboring ring in the triplet state and a stronger ${\pi}$-complex bond makes C-Cl bond breaking, i.e., radical formation, much easier. A chlorine atom will form a stronger ${\pi}$ -complex bond to a benzyl ring of N-(benzyl)-2-chloropyridinium than a pyridinium ring of N-(2-chlorobenzyl)-pyridinium because the former can donate its ${\pi}$-electron more easily than the latter. The chlorine at position 15 of N-(2-chlorobenzyl)-2-chloropyridinium salt in the excited state also provides its ${\pi}$-electron to the benzyl ring. So this ${\pi}$-electron can increase the bond strength of the $\pi-complex.$ Therefore, the strength of ${\pi}$-complex follows the order of N-(2-chlorobenzyl)-2-chloropyridinium, N-(benzyl)-2-chloropyridinium, and N-(2-chlorobenzyl)-pyridinium salts and thus the radical formation rate. This provides us with an intramolecular photocyclization reaction rate of the same order as given above.
유기고분자에 대한 건식 식각공정으로 remote 플라즈마를 이용하여 유리 표면에 도포된 PMMA의 식각공정에 관한 연구로 플라즈마 출력, 반응가스, 플라즈마 발생원과의 거리에 대한 식각특성을 측정하였다. 플라즈마 발생원으로부터 멀어질수록 플라즈마에 의해 발생된 라디칼 밀도로 인해 PMMA 식각속도가 감소하였다. 플라즈마 내에서 발생된 라디칼에 의해 PMMA가 제거되며, 플라즈마 출력이 증가할수록 PMMA 표면과 반응하는 라디칼 증가로 식각속도는 선형적으로 증가하였다. 식각 기체에서 산소의 양이 증가함에 따라 식각속도 증가와 더불어 식각표면의 거칠기도 증가함을 알 수 있었다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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