The Journal of Korea Institute of Information, Electronics, and Communication Technology
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v.14
no.2
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pp.122-127
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2021
This paper produces CdS thin film using ITO glass as substrates. The MDS (Multiplex Deposition Sputter System) was used to produce devices by changing RF power and deposition time. The manufactured specimen was analyzed for its optical properties. The purpose of this paper is to find the fabrication conditions that can be applied to the photo-absorbing layer of solar cells. When RF power was 50W and deposition time was 10 minutes, the thickness was measured at 64Å. At 100W, the thickness was measured at 406Å and at 150 W, the thickness was measured at 889Å. Thin films were found to increase in thickness as RF power increased. As a result of the light transmittance measurement, 550-850nm was observed to have a transmittance of approximately 70% or more when the RF power was 50W, 100W, and 150W. Increasing RF power increased thickness and increased particle size, resulting in increased thin film density, resulting in reduced light transmittance. When RF power was 100W and deposition time was 15 minutes, the band gap was calculated at 3.998eV. When deposition time is 20 minutes, it is 3.987eV, 150W is 3.965eV at 15 minutes, and 3.831eV at 20 minutes. It was measured that the band gap decreased as the RF power increased. At XRD analysis, diffraction peaks at 2Θ=26.44 could be observed regardless of changes in RF power and deposition time. The FWHM was shown to decrease with increasing deposition time. And it was measured that the particle size increased as RF power was constant and deposition time was increased.
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.28
no.11
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pp.694-697
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2015
We investigated the characterizations of carbon films fabricated by dual magnetron sputtering under various RF powers for the improvement of physical properties in carbon fiber (CF). All sputtered carbon films exhibited amorphous structure, regardless of RF powers, resulting in uniform and smooth surfaces. The hardness and elastic modulus are increased with the increase of RF power, and the adhesion and friction properties of carbon films were improved with the increase of RF power. In the results, The increase of RF power in the sputtering method improved tribological properties of the carbon films, and these attributes can be expected to improve the physical properties of the carbon fiber reinforcement plastics.
Kim, Yun-Gi;Wi, Sung-Suk;Kim, Tae-Hwan;Kim, Dong-Hyun;Lee, Hae-June;Lee, Ho-Jun
Proceedings of the KIEE Conference
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2011.07a
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pp.1528-1529
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2011
플라즈마 변수를 측정하기 위한 가장 일반적인 방법은 정전탐침(Langmuir Probe)을 이용하는 것이다. 정전탐침은 RF 플라즈마 내에 삽입될 경우 탐침의 전위가 플라즈마 전위에 의해 진동하여 탐침전류의 왜곡이 발생하여 정확한 플라즈마 변수 측정이 어렵다. 탐침 전위의 변동을 최소화하기 위해 임피던스가 큰 인덕터를 탐침 회로 내에 삽입한다. 본 연구에서는 자기 공명 주파수가 13.56MHz 근방의 인덕터 3종류를 선정하여 간단한 RF 보상 정전탐침을 제작하여 유도결합형 플라즈마의 특성을 측정하였다. RF 보상 정전탐침에 의해 구해진 플라즈마의 전자 온도 및 플라즈마 전위는 감소하며, 플라즈마의 전자 밀도는 증가함을 알 수 있었다.
Park, Dong-Hoon;Kim, Gui-Sung;Lim, Eun-Cheon;Park, Hye-Mi;Lee, Moon-Que
Proceedings of the KIEE Conference
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2011.07a
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pp.1648-1649
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2011
본 논문에서는 무선 전력 전송을 위한 10W RF Power Source를 설계 및 제작, 측정 하였다. 제작된 RF Power Source는 9~11MHz의 신호 생성을 위한 DDS와 전력 증폭을 위한 전력 증폭기로 구성되어 있다. 근거리 무선 전력 전송은 전자기 유도 또는 전자기 공진 형태의 무선으로 전력을 전달하게 되므로 전력 증폭기의 부하단의 임피던스가 변하게 되어 전력 증폭기의 특성의 변화가 생기는 단점을 가지고 있다. 이러한 단점을 극복하기 위해 본 논문에서는 부하단의 임피던스 변화에 둔감하도록 평형(Balanced)구조를 이용하여 전력 증폭기를 설계하였다. 제작된 RF Power Source는 입력 전원 DC 24V, 소모 전류 1.5A, 사용가능 주파수범위는 9~11MHz, 최대 출력 전력 10W의 특성을 보였다.
Proceedings of the Korea Contents Association Conference
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2008.05a
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pp.595-597
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2008
Zinc Oxide(ZnO) thin films on Si (100) substrate were deposited by RF magnetron sputter with changing sputtering conditions such as argon/oxygen gas ratios, RF power, and substrate temperature, chamber pressure and target-substrate distance. To analyze a crystallographic properties of the films, ${\Theta}/2{\Theta}$ mode X-ray diffraction, SEM analyses. C-axis preferred orientation highly depended on RF power.
System을 통해 출력되는 신호를 측정할 때 정확한 측정을 방해하는 요소로 잡음이 있다. 이런 신호 측정의 방해 요소인 잡음을 제거 하는 방법 중의 하나로 Lock-in Amp(LIA)가 사용되고 있다. 본 논문에서는 잡음 신호의 제거를 위해 사용 하는 LIA를 제작 하고 특성을 파악 하였으며 RF통신을 이용하여 무선 형태로 제작 하였다. 현재 상용화된 LIA는 프로브를 통한 유선으로 측정신호의 입력을 받게 되지만 본 논문에서 제작된 LIA는 무선신호 형태로 입력 하게 된다. RF통신의 케리어 주파수는 447.9[MHz]로 Digital GMSK 변복조방식을 이용하였다. LIA의 제작은 Dual Phase Sensitive Detecter을 사용하였으며, 주요 구성 요소인 Phase Locked Loop, Phase Shifter, Phase Sensitive Detector, Low Pass Filter등의 구조와 특성을 조사하였다.
Lee Yoon-Do;Kim Yeong-Jun;Lee Sang-Won;Lee Yong-Gi;Jeong Eum-Min;Park Yeong-Ho;Cheon Chang-Yul
한국정보통신설비학회:학술대회논문집
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2002.08a
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pp.17-20
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2002
본 논문에서는 세라믹 칩 안테나를 LTCC로 구현하여 다중 대역 특성을 얻는 방법을 제안하고 있다. 휴대용 단말기에 칩 안테나를 내장함으로 물리적 손상을 피하고 위치추적 시스템(GPS) 대역과 단말기 송수신용 대역, 즉 두 대역 이상 사용 가능하고 ${\varepsilon}_r=7.8$인 세라믹 칩 안테나를 LTCC(Low Temperature Co-fired Ceramic)공정을 이용하여 세라믹 칩 내부에 정합 회로를 구현하여 이중 대역 특성을 갖는 구조에 대해 논의하고 있다. 안테나의 전체 크기는 $16mm{\times}4mm{\times}2mm$ 이며 대역폭은 삽입손실 -10dB 기준 대략 1560MHz에서 2160MHz까지 약 600MHz정도이다. 측정은 접지면의 넓이가50mmx50mm이고 두께=0.7874mm, ${\varepsilon}_r=4.6$인 FR4 기판을 이용하여 측정한다.
Journal of the Korea Institute of Information and Communication Engineering
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v.15
no.8
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pp.1813-1819
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2011
In this research, the location positioning system supposed is concerned with range recognition technology using phase and magnitude of radio wave and adding technology of image histogram by vision. By the proposed technology, we design the radio transmitter and receiver and realize the measurement system, and save the data in disk that is earned from 900Mhz RF signal, middle frequency 450Khz of analog signal. Range information is earned the data through digital signal processing of IF signal. For the estimation of range measured, we analyze the difference between real range and measurement range, and also suggest the method to improve the measurement error using average processing and amplitude properties.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2010.06a
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pp.300-300
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2010
Ceramic capacitor의 에너지내량을 향상시켜 제품의 신뢰성을 높이고자 RF Sputtering을 이용하여 외부전극을 형성하였다. 본 연구에서는 Target의 종류, 증착 시간 및 열처리 유/무에 따른 Ceramic capacitor의 전기적 특성 및 미세구조를 분석하여 최적조건을 확립하였으며, 최적 증착 조건으로 제작한 Ceramic capacitor의 에너지내량을 측정하였다. Target은 Ni target과 Cu target을 사용하였으며, Sputtering 시간은 10, 30, 60분으로 하였다. Sputtering 시간에 따른 Ceramic capacitor의 용량 특성과 손실은 큰 차이가 없었지만, Wire 연결시 Sputtering 시간에 따라 납땜성의 차이가 나타났으며, 증착 시간과 열처리 유/무에 따른 에너지내량의 변화를 확인하였다.
The green emitting phosphor, BnGa$_2$O$_4$:Mn thin films with spinel structure were deposited by rf magnetron sputtering at various Ar/O$_2$ ratios. Thin film phosphors were heat-treated in air and $N_2$+vacuum atmosphere, respectively. Effects of Ar/O$_2$ ratios and annealing conditions on the structural and photoluminescence (PL) and cathodeluminescence (CL) properties were investigated. Luminous properties were more improved by inhibiting the films from contacting with oxygen during heat treatment.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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