Orthorhombic DyMnO3 films are fabricated epitaxially on Nb-1.0 wt%-doped SrTiO3 single crystal substrates using pulsed laser deposition technique. The structure of the deposited DyMnO3 films is studied by X-ray diffraction, and the epitaxial relationship between the film and the substrate is determined. The electrical transport properties reveal the diodelike rectifying behaviors in the all-perovskite oxide junctions over a wide temperature range (100 ~ 340 K). The forward current is exponentially related to the forward bias voltage, and the extracted ideality factors show distinct transport mechanisms in high and low positive regions. The leakage current increases with increasing reverse bias voltage, and the breakdown voltage decreases with decrease temperature, a consequence of tunneling effects because the leakage current at low temperature is larger than that at high temperature. The determined built-in potentials are 0.37 V in the low bias region, and 0.11 V in the high bias region, respectively. The results show the importance of temperature and applied bias in determining the electrical transport characteristics of all-perovskite oxide heterostructures.
Kim, Jong Hun;Fu, Deyi;Kwon, Sangku;Wu, Junqiao;Park, Jeong Young
한국진공학회:학술대회논문집
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한국진공학회 2013년도 제45회 하계 정기학술대회 초록집
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pp.143.2-143.2
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2013
Nanomechanical and electrical properties of vanadium dioxide (VO2) thin films across thermal-driven phase transition are investigated with ultra-high vacuum atomic force microscopy. VO2 thin films have been deposited on the n-type heavily doped silicon wafer by pulsed laser deposition. X-ray diffraction reveals that it is textured polycrystalline with preferential orientation of (100) and (120) planes in monoclinic phase. As the temperature increases, the friction decreased at the temperature below the transition temperature, and then the friction increased as increasing temperature above the transition temperature. We attribute this observation to the combined effect of the thermal lubricity and electronic contribution in friction. Furthermore, the dependence of nanoscale conductance on the local pressure was indicated at the various temperatures, and the result was discussed in the view of pressure-induced metal-insulator transition.
Silver nanoparticles were formed on silica substrates through thin film dewetting at high temperature. The microstructural and morphological evolution of the particles were characterized as a function of processing variables such as initial film thickness, annealing time, and temperature. Silver thin films were deposited onto the silica using a pulsed laser deposition system and annealed in reducing atmosphere to induce agglomeration of the films. The film thicknesses before dewetting were in the range of 5 to 25 nm. A noticeable agglomeration occurs with annealing at temperatures higher than $300^{\circ}C$, and higher annealing temperature increases particle size uniformity for the same film thickness sample. Average particle size linearly correlates to the film thickness, but it does not strongly depend on annealing temperature and time, although threshold temperature for complete dewetting increases with an increase of film thickness. Lower annealing temperature develops faceted surface morphology of the silver particles by enhancing the growth of the low index crystal plane of the particles.
We investigated the structural suitability of GdFeO3 (GdFO) as a buffer layer for the GdBa2xCu3O7-x (GdBCO) superconducting films. GdFO films with different thicknesses and GdBCO thin films were all prepared by using a pulsed laser deposition technique. The analyses of X-ray diffraction and EXAFS data indicates that the c-axis parameter increases and the Fe-O bond length decreases with the GdFO thickness due to the compressive stain induced by the lattice mismatch between GdFO and STO substrate and as a result, the Debye-Waller factor, an index of disorder in the local structure near the Fe-O bond, increases with the GdFO thickness. However, for the GdBCO/GdFO bilayer structure, the Debye-Waller factor decreases as the GdFO thickness increases indicating a diminished disorder by the structural coupling between GdFO and GdBCO. These results indicate that an appropriate thickness of GdFO is required to be utilized as a magnetic buffer layer for the GdBCO superconducting films.
The effect of annealing step-edges of LaAlO$_3$ and MgO single crystal substrates on YBa$_2$Cu$_3$O$_{7}$ junction has been studied. The step-edge was fabricated by argon ion milling and was annealed at 105$0^{\circ}C$ in 1 attn oxygen pressure. We compared AFM image near step-edge of the substrates between before and after annealing process. And YBa$_2$Cu$_3$O$_{7}$ thin film was deposited on the step-edge by a standard pulsed laser deposition. The step-edge junctions were characterized by current-voltage curves at 77 K. The annealing of step-edges of MgO substrate improved the current-voltage characteristic of Josephson junction: double steps in the current-voltage characteristic disappeared. However the annealing for LaAlO$_3$ did not improve the junction property.rty.
We report a successful fabrication of $high-J_c\;NdBa_2Cu_3O_{7-{\delta}}$ (NdBCO) films on $SrTiO_3$(STO) (100) substrates by pulsed laser deposition (PLD) in a relatively wide processing window. Under various oxygen pressures controlled by either 1%$O_2$/Ar mixture gas or pure $O_2$ gas, strongly c-axis oriented NdBCO films were grown at the substrate temperature $(T_s)\;of\;800^{\circ}C$ in 800 mTorr with 1%$O_2$/Ar gas and also in 400 and 800 mTorr with pure $O_2$ gas. These samples exhibited $T_c$ values over 90K and $J_c$ values of $2.8-3.5MA/cm^2$ at 77K in self-field (77K, sf). On the other hand, $J_c$ values over $1A/cm^2$ were obtained at the temperature regions of $700-830^{\circ}C$ in 800 mTorr with 1%$O_2$/Ar gas at those of $750-830^{\circ}C$ in 800 mTorr with pure $O_2$ gas. Unlike previous reports, resent results support that the PLD processing window for high-Jc NdBCO films is not narrow.
Epitaxial yttrium-stabilized HfO$_2$ thin films were deposited on p-type (100) Si substrates by pulsed laser deposition at a relatively lower substrate temperature of 550. Transmission electron microscopy observation revealed a fixed orientation relationship between the epitaxial film and Si; that is, (100)Si.(100)HfO$_2$ and [001]Si/[001]HfO$_2$. The film/Si interface is not atomically flat, suggesting possible interfacial reaction and diffusion, X-ray photoelectron spectrum analysis also revealed the interfacial reaction and diffusion evidenced by Hf silicate and Hf-Si bond formation at the interface. The epitaxial growth of the yttrium stabilized HfO$_2$ thin film on bare Si is via a direct growth mechanism without involoving the reaction between Hf atoms and SiO$_2$ layer. High-frequency capacitance-voltage measurement on an as-grown 40-A yttrium-stabilized HfO$_2$ epitaxial film yielded an dielectric constant of about 14 and equivalent oxide thickness to SiO$_2$ of 12 A. The leakage current density is 7.0${\times}$ 10e-2 A/$\textrm{cm}^2$ at 1V gate bias voltage.
Kim, G.W.;Sung, C.H.;Seo, Y.J.;Park, K.Y.;Heo, S.N.;Lee, S.H.;Koo, B.H.
Journal of Ceramic Processing Research
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제13권spc2호
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pp.394-397
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2012
In this work, we studied the influence of the dopant elements concentration on the properties of SnO2 thin films deposited by pulsed laser deposition. X-ray diffraction (XRD), field emission scanning electron microscopy (FE-SEM), Hall effect measurement and UV-Vis studies were performed to characterize the deposited films. XRD results showed that the films had polycrystalline nature with tetragonal rutile structure. FE-SEM micrographs revealed that the as deposited films composed of dense microstructures with uniform grain size distribution. All the films show n-type conduction and the best transparent conductive oxide (TCO) performance was obtained on 6 wt% Sb2O5 doped SnO2 film prepared at pO2 of 60mtorr and Ts of 500 ℃. Its resitivity, optical transmittance, figure of merit are 7.8 × 10-4 Ω cm, 85% and 1.2 × 10-2 Ω-1, respectively.
Byeongjun Seok;Youngdo Kim;Donghan Kim;Jongho Park;Changyoung Kim
한국초전도ㆍ저온공학회논문지
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제25권2호
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pp.10-13
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2023
본 연구에서는 현재까지 연구된 HTSC와 다른 새로운 HTSC 물질군으로 제시된 LSMIO에 대한 합성 및 박막 성장과 물성 측정을 진행하였다. LSMIO는 기존의 HTSC 물질들과 비교하여 초전도처럼 보이는 현상의 기작이 상이한 것으로 예상되어 초전도 현상에 대한 이해의 폭을 넓히는데 도움이 될 것으로 기대되는 물질이다. 박막 성장을 위해 고상 합성법을 적용하여 La0.7Sr0.3Mn1-xIrxO3 세라믹 타겟을 합성하였으며, XRD 패턴 분석 결과 La0.7Sr0.3Mn0.88Ir0.12O3 샘플을 1200℃에서 2회 소결하는 것이 최적의 합성 조건임을 찾아내었다. 해당 조성의 LSMIO 세라믹 타겟을 사용하여 레이저 강도를 0.4 J/cm2에서 1.2 J/cm2까지 조절하며 PLD를 사용해 박막을 증착 하였다. 모든 LSMIO 박막은 동일한 단결정 LSAT 기판 위에 같은 두께로 성장하여 기판과 시료 두께에 의한 효과는 배제하였다. RHEED 패턴과 박막 XRD 측정 결과 성장된 박막들은 epitaxial하게 100 UC로 성장되었음을 확인할 수 있었으며, 각 박막들은 저항 측정 결과 모체 화합물인 LSMO와 비슷한 저항 특성을 보이며, 레이저 강도가 강할수록 Curie 온도가 낮아지는 결과가 나타났다. LSMIO와 LSMO가 유사한 전기적 특성을 가지는 것을 볼 때, Curie 온도의 하락은 박막의 Sr 치환 비율의 감소에 의한 것으로 사료된다. 본 연구에서는 HTSC의 후보군인 LSMO에 Ir을 치환하여 결정 및 전자 구조의 다양한 변화 시도하고 그 특성을 관찰하였다. LSMIO 페로브스카이트 시스템에서는 자기 양자불안정 (magnetic quantum instability) 상태 부근에서 강자성요동 (ferromagnetic fluctuation)에 의해 초전도가 발현될 수 있다고 보고되었지만, [5, 14] 본 연구에서 성장된 LSMIO 박막은 일반적인 강자성 특성을 보이며 초전도 현상은 관찰되지 않았다. 차후, 아직은 시작 단계인 LSMIO 소재에 관한 연구 저변을 확대하고 다양한 조성비의 박막을 성장하여 물리적 특성과 근원에 대한 연구가 필요할 것으로 사료된다. 비록 초전도는 발현되지 않았지만 manganite 페로브스카이트 시스템에서 전이금속 원소의 치환 및 세라믹 타겟 합성, 그리고 박막 성장과 특성 분석에 걸친 전과정에 대한 연구를 진행하였다. 이를 바탕으로 차후 다양한 HTSC 소재의 합성 및 박막화와 그 특성을 평가하는 연구에 대한 통찰을 제공하기를 기대한다.
We have fabricated good quality superconducting $YBa_2Cu_3O_{7-{\delta}}$ thin films on Hastelloy(Ni-Cr-Mo alloys) with $CeO_2$ buffer layers by in-situ pulsed laser deposition in a multi-target processing chamber. Using one of electrical properties of YBCO superconducting which the resistance approaches to zero dramatically on transition temperature, we have researched to make power transmission line, we have deposited YBCO thin film on flexible metallic substrate. However, it is difficult to make films on flexible metallic substrates due to both interdiffusion problem between metallic substrate and superconducting layer and non-crystallization of YBCO on amorphous substrate. From early research, two ways-using textured metallic substrate and buffer layer-were proposed to overcome theses difficulties. We have chosen $CeO_2$ as a buffer layer which has cubic structure of $5.41{\AA}$ lattice parameter and only 0.2% of lattice mismatch with $3.82{\AA}$ of a-axis lattice parameter of YBCO on (110) direction of $CeO_2$. In order to enhance the crystallization of YBCO films on metallic substrates we deposited $CeO_2$ buffer layers at varying temperature $700^{\circ}C$ to $800^{\circ}C$ and $O_2$ pressure. By X-ray diffraction, we found that each domination of (200) and (111) orientations were strongly relied upon the deposition temperature in $CeO_2$ layer and the change of the domination of orientation affects the crystallization of YBCO upper layer.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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