Physical properties and electrical characteristic analysis of silicon nitride deposited by PECVD using $N_2$ and $SiH_4$ gases
($N_2$ 와 $SiH_4$ 가스를 사용하여 PECVD로 증착된 Silicon Nitride의 물성적 특성과 전기적 특성에 관한 연구)
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- Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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- 2002.05c
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- pp.83-87
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- 2002