Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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2007.04a
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pp.7-8
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2007
Ti을 전극으로 한 RF plasma 를 사용한 표면 처리와 200 eV 이하의 저에너지 반응성 이온빔을 사용한 PI 표면 처리에 의해 초기 및 내열성이 우수한 COF 용 FCCL를 제작하였다. 임계 rf power 이상에서 새롭게 $TiO_2$층의 형성이 접착력 증대의 원인이었으며, Ni-Cr-Zn의 삼원계 접착층의 내열성 향상 특성 등을 연구하였다.
For further scaling down of the silicon devices, the application of low dielectric constant materials instead of silicon oxide has been considered to reduce power consumption, crosstalk, and interconnection delay. In this paper, the effect of $O_2/SF_6$ plasma chemistry on the etching characteristics of polyimide-one of the promising low-k interlayer dielectrics-has been studied. The etch rate of polyimide decreases with the addition of $SF_6$ gas due to formation of nonvolatile fluorine compounds inhibiting reaction between oxygen and hydrocarbon polymer, while applying substrate bias enhances etching process through physical attack. However, addition of small amount of $SF_6$ is desirable for etching topography. $SiO_2$ hard mask for polyimide etching is effective under $O_2$plasma etching(selectivity~30), while $O_2/SF_6$ chemistry degrades etching selectivity down to 4. Based on the above results, $1-2\mu\textrm{m}$ L&S PI2610 patterns were successfully etched.
This study represents the results of the peel strength and surface morphology according to the preprocessing times of polyimide (PI) in a Cu/Ni/PI structure flexible copper clad laminate production process based on the polyimide. Field emission scanning electron microscopy, X-ray diffraction, and X-ray photoelectron spectroscopy were used to analyze the surface morphology, crystal structure, and interface binding structure of sputtered Ni, Cu, and electrodeposited copper foil layers. The surface roughness of Ni, Cu deposition layers and the crystal structure of electrodeposited Cu layers were varied according to the preprocessing times. In the RF plasma times that were varied by 100-600 seconds in a preprocessing process, the preprocessing applied by about 300-400 seconds showed a homogeneous surface morphology in the metal layers and that also represented high peel strength for the polyimide. Considering the effect of peel strength on plastic deformation, preprocessing times can reasonably be at about 400 seconds.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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1998.02a
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pp.77-77
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1998
Present silicon dioxide (SiOz) 떠m as intennetal dielectridIMD) layers will result in high parasitic c capacitance and crosstalk interference in 비gh density devices. Low dielectric materials such as f f1uorina뼈 silicon oxide(SiOF) and f1uoropolymer IMD layers have been tried to s이ve this problem. I In the SiOF ftlm, as fluorine concentration increases the dielectric constant of t뼈 film decreases but i it becomes unstable and wa않r absorptivity increases. The dielectric constant above 3.0 is obtain어 i in these ftlms. Fluoropolymers such as polyte$\sigma$따luoroethylene(PTFE) are known as low dielectric c constant (>2.0) materials. However, their $\alpha$)Or thermal stability and low adhesive fa$\pi$e have h hindered 야1리ru뚱 as IMD ma따"ials. 1 The concept of a plasma processing a찌Jaratus with 비gh density plasma at low pressure has r received much attention for deposition because films made in these plasma reactors have many a advantages such as go여 film quality and gap filling profile. High ion flux with low ion energy in m the high density plasma make the low contamination and go어 $\sigma$'Oss피lked ftlm. Especially the h helicon plasma reactor have attractive features for ftlm deposition 야~au똥 of i앙 high density plasma p production compared with other conventional type plasma soun:es. I In this pa야Jr, we present the results on the low dielectric constant fluorocarbonated-SiOF film d밑JOsited on p-Si(loo) 5 inch silicon substrates with 00% of 0dFTES gas mixture and 20% of Ar g gas in a helicon plasma reactor. High density 띠asma is generated in the conventional helicon p plasma soun:e with Nagoya type ill antenna, 5-15 MHz and 1 kW RF power, 700 Gauss of m magnetic field, and 1.5 mTorr of pressure. The electron density and temperature of the 0dFTES d discharge are measUI벼 by Langmuir probe. The relative density of radicals are measured by optic허 e emission spe따'Oscopy(OES). Chemical bonding structure 3I피 atomic concentration 따'C characterized u using fourier transform infrared(FTIR) s야3띠"Oscopy and X -ray photonelectron spl:’따'Oscopy (XPS). D Dielectric constant is measured using a metal insulator semiconductor (MIS;AVO.4 $\mu$ m thick f fIlmlp-SD s$\sigma$ucture. A chemical stoichiome$\sigma$y of 야Ie fluorocarbina$textsc{k}$영-SiOF film 따~si야영 at room temperature, which t the flow rate of Oz and FTES gas is Isccm and 6sccm, res야~tvely, is form려 야Ie SiouFo.36Co.14. A d dielec$\sigma$ic constant of this fIlm is 2.8, but the s$\alpha$'!Cimen at annealed 5OOt: is obtain려 3.24, and the s stepcoverage in the 0.4 $\mu$ m and 0.5 $\mu$ m pattern 킹'C above 92% and 91% without void, res야~tively. res야~tively.
One of cell surface receptor proteins, human folate receptor (hFR) involves in the uptake of folates through cell membrane into cytoplasm, and is anchored to the plasma membrane by a fatty acid linkage, which has been identified in some cells as a glycosylphosphatidylinositol (GPI)-tailed protein with a molecular mass of about 40 kDa. The hFR is released by phosphatidylinositol phospholipase C (PI-PLC) because it contains fatty acids and inositol on the GPI tail. Caveolin decorates the cytoplasmic surface of caveolae and has been proposed to have a structural role in maintaining caveolae. It is unknown whether caveolin is involved in targeting, and is necessary for the function of GPI-tailed proteins. To compare the ability of folic acid binding, internalization and expression of hFR, and the effect of caveolin at the both apical and basolateral side of cell surfaces in Chinese hamster ovary (CHO) clone cells overexpressed the hFR and/or caveolin. Our present results suggest a possibility that the overexpression of caveolin does not be involved in expression of hFR, but plays a role as a factor in PI-PLC releasing kinetics, and for a regulation of formation, processing and function of hFR in CHO clone cells overexpressed cavcolin.
We constructed a wire-cylinder type pulsed corona discharge system for $NO_x$ removal, which was operated in room temperature. A emission spectrometer was built with a boxcar averager and monochrometer equipped with photo-multiplier tube detector. The sensitivity of the emission spectrometer was greatly improved by synchronizing the emission spectrometer with pulsed corona discharge system using a triggered spark-gap switch. $N_2$ spectrum($c^3{\Pi}_u{\rightarrow}X^1{\Sigma}_g{^+}$) was measured in the range of 300 - 450 nm and oxidizing OH radical emission($A^2{\Sigma}^+{\rightarrow}X^2{\Pi}$) was measured in case $N_2$ was supplied with water bubbling. As wet gas composition of inlet $N_2$ supplied in the discharge system increased, the intensity of OH emission was increased and saturated at wet gas composition 50%. We also investigated additive effect of $C_2H_4,\;H_2O,\;H_2O_2$ on the intensity of OR emission and $NO/NO_2/NO_x$ reduction and analysed the related reaction mechanism in corona discharge process. $H_2O_2$ additive increased the intensity of OH emission and $NO/NO_x$ reduction.
Objective The pathophysiology of social anxiety disorder (SAD) is not yet well understood, but previous research has suggested that oxytocin is associated with social behavior and may play a role in human anxiety states and anxiety-related traits. The aim of this study was to investigate the possible relationship between social anxiety symptoms and plasma oxytocin levels. Methods Twenty-three male patients with SAD and 28 healthy male controls participated in this study. All participants were assessed using the Mini International Neuropsychiatric Interview (MINI) and the Liebowitz Social Anxiety Scale (LSAS). Multivariate regression analysis was performed to identify associations between plasma oxytocin levels and SAD. Results In multiple regression models, after controlling for age and years of education, we found that higher oxytocin levels were significantly associated with higher total LSAS scores ($R^2=0.157$, coefficient=0.145, 95% CI=-0.0005-0.291, p=0.051) and fear subscale scores ($R^2=0.134$, coefficient=0.083, 95% CI=0.007-0.159, p=0.034) in the SAD group. Conclusion In this study, increased plasma oxytocin levels were associated with higher social anxiety symptoms among SAD patients, but not among controls. This might be because among SAD patients, higher oxytocin (OT) secretion is an insufficient compensatory attempt to reduce social anxiety symptoms.
Shape changes of hard mask play a key role in the aspect ratio dependent etch (ARDE). For etch process using high density and energy ions, deformation of hard mask shape becomes more severe, and high aspect ratio (HAR) etch profile is distorted. In this study, polygonal geometric model for shape-deformation of amorphous carbon layered hard mask is suggested to control etch profile during the process. Mask shape is modeled with polygonal geometry consisting of trapezoids and rectangles, and it provides dynamic information about angles of facets and etched width and height of remained mask shape, providing important features for real-time HAR etch profiling.
Nam, Hajin;Hwang, In Koo;Jung, Harry;Kwon, Seung-Hae;Park, Ok Kyu;Suh, Jun Gyo
Journal of Life Science
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v.23
no.9
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pp.1163-1169
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2013
Insulin induces glucose transporter 4 (GLUT4) translocation to the muscle cell surface. As fagopyritol has insulin-like effects, the effects of fagopyritol on GLUT4 translocation and filamentous (F) actin remodeling in L6-GLUT4myc skeletal muscle cells were investigated. Fagopyritol significantly increased plasma membrane GLUT4 levels compared with the basal control in L6-GLUT4myc myoblast cells. Phosphatidylinositol (PI) 3-kinase inhibitor (LY294002) treatment prevented GLUT4 translocation to the plasma membrane in the myoblasts. Fagopyritol treatment apparently stimulates F-actin remodeling in myoblasts. In addition, fagopyritol treatment induced GLUT4 translocation and F-actin remodeling in myotubes. Taken together, these results suggest that fagopyritol promotes GLUT4 translocation and F-actin remodeling by activating the PI 3-kinase-dependent signaling pathway.
Objectives : The purpose of this study was to analyze the trend of clinical research on quantitative indicators of Mibyeong in traditional chinese medicine(TCM). Method : The journal search was performed using china national knowledge infrastructure(CNKI) database. Our inclusion criteria were as following: TCM clinical researches for quantitative indicators of Mibyeong. Exclusion criteria were as following: non-TCM clinical researches, used intervention methods. Results : Eleven clinical researches were analyzed in this study. Four of these researches classify the Mibyeong as a type of pattern identification(PI) and studied the characteristics of the PI quantitative indicators. Mibyeong diagnosis was done through guidelines and questionnaires, each was used at a similar rate. Quantitative indicators mentioned in the selected researches were blood indices, nailfold capillary, complexion, color of tongue substance and coating, pulse wave diagrams and heart rate variability. Among them, seven researches related to blood indices were the most. Blood indicators include whole-blood viscosity, plasma viscosity, fibrinogen, packed cell volume(Hct), triglycerides, total cholesterol, HDL-C, LDL-C, glucose, BUN/CREA, luteinzing hormone, estradiol, follicle stimulating hormone, IgA, IgG, etc. Conclusions : Based on this results, in combination with western medicine, it seems necessary to try to interpret the Mibyeong in more various ways. Even if the same Mibyeong, it is necessary to identify the index which changes according to the PI or chief complaint, and to set the Mibyeong standard corresponding thereto.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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