$CH_4/H_2$ 유도결합 플라즈마를 이용한 InP의 건식 식각에 관한 연구
(Reactive Ion Etching of InP Using $CH_4/H_2$ Inductively Coupled Plasma)
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- 한국진공학회지
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- 제7권2호
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- pp.161-168
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- 1998