Growth of $In_{0.53}Ga_{0.47}As$ Iattice matched to Inp substrate by low pressure metalorganic chemical vapor deposition
(저압 유기금속 화학증착법을 이용한 InP 기판에 격자 일치된 $In_{0.53}Ga_{0.47}As$ 에피층의 성장)
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- Journal of the Korean Vacuum Society
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- v.5 no.3
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- pp.206-212
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- 1996