• 대한전자공학회:학술대회논문집
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• 대한전자공학회 2003년도 하계종합학술대회 논문집 II
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• pp.899-902
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• 2003

Chip Pin Parasitic은 실제 Chip Pad에서부터 Bonding Wire를 통한 Package Lead Frame까지를 의미한다. 여기서, Lead Frame 및 Bonding Wire에서 Inductance 및 작은 저항이 보이고, Chip Pad에서의 Capacitance, 그리고 Pad 부터 Ground까지의 Return Path에서 발생하는 저항이 보인다. 이들을 모두 합하면 L, R, C의 Series로 나타낼 수 있다. 본 논문에서는 이런 Chip Pin Parasitic을 추출 하기 위해서 TDR(Time Domain Reflectometer)과 NA(Network Analyzer)를 사용하였는데, TDR의 경우 PCB를 제작하여 Chip을 Board위에 붙인 후 Time Domain에서 측정 하였고 NA의 경우 Pico Probe를 이용하여 Chip pin에 직접 Probing해서 Smith Chart를 통하여 Extraction 값을 추출했다. 이 경우, NA를 이용한 측정이 좀 더 정확한 Parasitic 값을 추출할 수 있으리라 예상되겠지만, 실제로 Chip이 구동하기 위해서는 Board위에 있을 때의 상황도 고려해야 하기 때문에 TDR 추출 값과 NA 추출 값을 모두 비교하였다.

• KIEE International Transactions on Electrophysics and Applications
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• 제5C권2호
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• pp.49-53
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• 2005

The current drive in a MOSFET is limited by the intrinsic channel resistance. All other parasitic elements in a device structure perform significant functions leading to degradation in the device performance. These other resistances must be less than 10$\%$-20$\%$ of the channel resistance. To meet the necessary requirements, the methodology of separation and quantification of those resistances should be investigated. In this paper, we developed an extraction method for the resistances using calibrated TCAD simulation. The resistance of the extension region is also partially determined by the formation of a surface accumulation region that gathers below the gate in the tail region of the extension profile. This resistance is strongly affected by the abruptness of the extension profile because the steeper the profile is, the shorter this accumulation region will be.

• 한국광학회:학술대회논문집
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• 한국광학회 2007년도 하계학술발표회 논문집
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• pp.289-290
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• 2007

We have theoretically derived a electrical model and extracted a parasitic parameters of leakage current in InGaN/GaN light emitting diodes (LEDs). The parasitic parameters of our LED are $R_p=10^{10}{\Omega}$, $I_{0,2}=10^{-17}A$ and $n_2=3.6$, which provide information of leakage current.

• JSTS:Journal of Semiconductor Technology and Science
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• 제12권1호
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• pp.46-52
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• 2012

Separate extraction of source ($R_S$) and drain ($R_D$) resistances caused by process, layout variations and long term degradation is very important in modeling and characterization of MOSFETs. In this work, we propose "Avalanche Hot-Source Method (AHSM)" for simple separated extraction of $R_S$ and $R_D$ in a single device. In AHSM, the high field region near the drain works as a new source for abundant carriers governing the current-voltage relationship in the MOSFET at high drain bias. We applied AHSM to n-channel MOSFETs as single-finger type with different channel width/length (W/L) combinations and verified its usefulness in the extraction of $R_S$ and $R_D$. We also confirmed that there is a negligible drift in the threshold voltage ($V_T$) and the subthreshold slope (SSW) even after application of the method to devices under practical conditions.

• 대한전기학회논문지:전기물성ㆍ응용부문C
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• 제52권3호
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• pp.116-122
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• 2003

This paper proposes an efficient method for computing the 3-dimensional capacitance of complex structures. The proposed method Is based on Finite Element Method(FEM) and expands the conventional FEM by adopting variable division. This method improves the extraction efficiency 50 times when compared to the conventional FEM with equal division. The proposed method can be used efficiently to extract electrical parameters of on/off-chip interconnects in VLSI systems.

• 대한전자공학회논문지SD
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• 제37권12호
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• pp.1-9
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• 2000

미세구조 N-채널 MOSFET의 게이트-소스 전압에 의존하는 유효 채널 캐리어 이동도와 소스 및 드레인 기생저항의 정확한 분리 추출을 위해서 새로운 ERM-방법을 제안하였다. ERM-방법은 선형영역에서 동작하는 게이트 길이가 다른 두개의 소자($W_m/L_m=30{\mu}m/0.6{\mu}m, 30{\mu}m/1{mu}m$)에 적용되었고 유효 채널 캐리어 이동도를 모델링하고 추출하는 과정에서 게이트-소스 전압에 의존하는 소스 및 드레인 기생저항의 영향을 고려하였다. ERM-방법으로 추출된 특성변수들을 사용한 해석적 모델식과 소자의 측정데이터를 비교해본 결과 오차가 거의 없이 일치하는 것을 확인하였다. 따라서, ERM-방법을 사용하면 대칭구조 및 비대칭구조 소자의 유효 채널 캐리어 이동도, 소스 및 드레인 기생저항과 다른 특성변수들을 정확하고 효율적으로 추출할 수 있을 것으로 기대된다.

• 전자공학회논문지D
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• 제36D2호
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• pp.1-10
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• 1999

FET 소신호 모델의 직접추출법은 기생소자값을 구하기 위해 주로 순방향 소동(cold) FET 조건을 이용하고 있다. 본 논문은 수동 FET 조건에서 해석적 채널모델을 유도하고, 정상수동 소자 조건에서도 순방향 수동 FET 조건과 동일 한 정보를 얻을 수 이Tdmadmff 보인다. 이와 함께 수동 FET 조건에 의해 제한되는 능동 FET 소신호 모델의 오차를 추적하여 수동 FET 방법을 이용한 직접 추출 모델의 오차 한계를 살피고, 오차 최소점의 유무를 통해 수동 FET 기생저항값의 유효성을 검토한다.

• 대한전자공학회논문지
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• 제25권1호
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• pp.101-107
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• 1988

This paper proposes a circuit extractor which extracts a netlist from the CIF input file cntaining the layout mask artwork informations. The circuit extractor extracts transistors and their interconnections, and calculates circuit parameter such as parasitic resistance and parasitic capacitance from the mask informations. When calculating the parasitic resistance, we consider the current flow path to reduce the errors caused by the resistance approximation. Similarly, we consider the coupling capacitance which has an effect on the circuit characteristics, when the parasitic capacitances are calculated. Therefore, using these parameter values as an input to circuit simulation, the circuit characteristics such as delay time can be estimated accurately. The presented circuit extraction algorithm uses a multiple storage quad tree as a data sturucture for storing and searching the 2-dimensional geometric data of mask artwork. Also, the proposed algorithm is technologically independent to work across a wide range of MOS technologies without any change in the algorihm.

• 한국전자파학회논문지
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• 제7권5호
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• pp.395-407
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• 1996

In this paper, we describe the crossover of the parasitic capacitance at the interconnections for the system miniature, analyse ground capacitance and mutual capacitance due to actually coupled line in the ICs or MCMs. From the results of deviding interconnection line with infinite parts, using Green's function with image charge method and moments, we could obtain 70% decrease of system runtime parasitic inductance because of simplicity of transforming formular.

• 대한전자공학회:학술대회논문집
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• 대한전자공학회 1999년도 추계종합학술대회 논문집
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• pp.181-184
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• 1999

This paper presents the accurate deembeding method for pad and parasitics of MOSFET device. rad effects are deembedded using THRU LINE, which is much simpler method without laborious fitting procedure compared with conventional OPEN and SHORT pad modeling. Parasitic resistance extraction uses the algebraic relation between increments of inversion layer charge and oxide capacitance. It is especially adequate for insulating gate junction device. Extracted parasitics are verified through comparing modeled and measured S parameters.