$Cl_2$ -ICP를 이용한 Doped GaN 식각의 공정변수적 연구
(Parametric Study of Dry Etching of Doped GaN in Chlorine-Based Inductively Coupled Plasmas)
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- 한국재료학회:학술대회논문집
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- 한국재료학회 1999년도 추계학술발표강연 및 논문개요집
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- pp.70-70
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- 1999