• 제목/요약/키워드: PLASMA SURFACE TREATMENT

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고휘도 유기발광소자 제작 및 특성 (Characteristics and fabrications of high brightness organic light emitting diode(OLED))

  • 장윤기;이준호;남효덕;박진호
    • 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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    • 한국전기전자재료학회 2001년도 추계학술대회 논문집
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    • pp.316-319
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    • 2001
  • Organic light emitting diodes(OLEDs) with a hole injection layer inserted between Indium-Tin-Oxide(ITO) anode and hole transport layer were fabricated. The effect of plasma treatment on the surface properties of Indium-Tin-Oxide(ITO) anode were studied. The electrical and optical characteristics of the fabricated organic light emitting diodes(OLEDs) were also studied. The diode including of plasma treated ITO substrate and the hole injection layer, which showed the luminance of 5280 cd/㎡ at 8 V

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Improvement of dyeability of cotton with natural cationic dye by plasma grafting

  • Haji, Aminoddin;Barani, Hossein
    • 한국염색가공학회:학술대회논문집
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    • 한국염색가공학회 2010년도 제3회 국제학회
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    • pp.29-30
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    • 2010
  • Cotton fabric is usually dyed with anionic dyes such as direct and reactive dyes. Naturally, there is no affinity for basic dyes to cotton fiber. In this study, to improve the dyeability of cotton fiber with cationic dyes, the fabric was pretreated with air plasma and grafted with acrylic acid to create acidic groups on the surface of cotton fibers. The grafted samples were dyed with natural cationic dye extracted from roots of berberis vulgaris. The effect of plasma treatment and grafting of acrylic acid on the color strength of cotton fabric was studied.

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O2 plasma를 이용한 Flexible ZnO nanogenerator 특성 향상 연구

  • 강물결;박성확;주병권;이철승
    • 한국진공학회:학술대회논문집
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    • 한국진공학회 2013년도 제45회 하계 정기학술대회 초록집
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    • pp.283.1-283.1
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    • 2013
  • ZnO nanowire를 기반으로 하는 nanogenerator는 미세한 움직임을 전기 에너지로 변환 시키는 압전 에너지 하베스팅 기술로 기존 에너지 하베스터와 비교하여 사용환경의 제약이 적고, 소형화가 가능한 장점으로 주목을 받고 있다. 특히 혈류, 심장박동, 호흡 등 인체 활동 에너지를 이용한 발전 소자 등의 활용이 가능하여 활발한 연구가 진행되고 있다. 하지만, 최근 발표된 film like Vertical 구조의 nanogenerator는 nanowire의 구조 취약성으로 인해 내구성이 좋지 못한 단점이 있다. 또한 ZnO nanowire의 내부 O2 결함 및 표면 OH-기의 흡착에 의한 특성 저하가 나타난다. 본 연구에서는 nanogenerator의 내구성을 향상시키기 위해 capping layer로 실리콘 계 유무기 하이브리드를 적용하여 코팅 물질 및 코팅 방법을 최적화 하였으며 상부 전극을 CNT-Ag nanowire 소재로 대체하여 유연기판에 대응코자 하였다. 또한 APP(Atmosphere Pressure Plasma)와 ICP(Inductively Coupled Plasma)장비를 사용하여 ZnO nanowire를 표면처리하였고, 각각의 플라즈마 표면처리의 영향에 대해 조사하였다. XPS를 통하여 OH-기의 제거 유무를 확인하였으며, 소자의 발전 특성의 향상을 확인 하였다.

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Cu(Mg) alloy 금속배선에 의한 TiN 확산방지막의 특성개선 (A study on the improvement of TiN diffusion barrier properties using Cu(Mg) alloy)

  • 박상기;조범석;조흥렬;양희정;이원희;이재갑
    • 한국진공학회지
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    • 제10권2호
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    • pp.234-240
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    • 2001
  • 본 연구에서는 Mg을 첨가한 Cu-alloy에 의해 TiN의 확산방지능력을 향상시키고자 하였다. Cu(Mg) 박막은 대기노출시킨 TiN박막위에 증착되었으며 열처리시 Cu 박막내의 Mg은 TiN의 표면에 있는 산소와 반응하여 매우 얇은(~100 $\AA$) MgO를 형성하게되고 MgO에 의해 TiN의 확산방지능력은 Cu(4.5 at.%Mg)의 경우 $800^{\circ}C$까지 향상됨을 알 수 있었다. 그러나 Cu(Mg) a]toy는 TiN위에서 접착특성이 좋지 않기 때문에 TiN을 $O_2$plasma 처리하였으며 $O_2$ plasma 처리후 $300^{\circ}C$ 진공열처리를 통해 접착력이 크게 향상되는 것을 알 수 있었다. 이는 $O_2$ plasma 처리에 의해 TiN표면에 Mg과 반응할 수 있는 산소의 양이 증가하는 데 기인하며 이에 따라 Mg의 계면이동이 크게 증가되어 치밀한 MgO가 형성됨을 확인하였다. 그리고 $O_2$ plasma 처리시 RF power를 증가시키면 계면으로 이동하는 Mg의 양이 오히려 감소하였고 이것은 TiN의 표면이 $TiO_2$로 변하여 Mg과 결합할 수 있는 산소의 양이 상대적으로 감소하였기 때문인 것으로 생각된다. 또한 접착층으로서 Si을 50$\AA$ 증착하여 접착력을 크게 향상시켰으며 Si 증착에 의한 TiN의 확산방지능력은 감소되지 않는 것을 알 수 있었다.

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플라즈마 후처리 시간에 따른 저유전율 SiOF 박막의 특성 (Characteristics of Low Dielectric Constant SiOF Thin Films with Post Plasma Treatment Time)

  • 이석형;박종완
    • 한국진공학회지
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    • 제7권3호
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    • pp.267-267
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    • 1998
  • ECR plasma CVD를 이용한 SiOF박막은 낮은 유전상수를 가지고 있으며, 기존의 공정과의 정합성이 우수해 다층배선 공정에 채용이 유망한 재료이지만 수분의 흡수로 인한 유전율의 상승과 후속공정의 안정성이 문제점으로 부각되고 있다. 따라서 본 연구에서는 SiOF박막의 내흡습성과 후속공정에서의 안정성을 향상시키기 위하여 SiOF박막을 증착한 후 후속 산소 플라즈마 처리를 행하였다. SiOF박막은 산소 플라즈마 처리를 수행함으로써 SiOF박막의 밀도가 증가하고, 수분과의 친화력이 강한 Si-F 결합이 감소하는 것이 주요한 원인으로 사료된다. 하지만 플라즈마 처리 시간이 5분 이상으로 증가하면 유전율의 증가가 일어난다. 따라서 본 실험에서는 산소 플라즈마 처리조건이 마이크로파 전력이 700W, 공정 압력이 3mTorr, 기판온도가 300℃일 경우 플라즈마 처리시간은 3분이 적당한 것으로 생각 된다.봉?향상시키기 위하여 SiOF박막을 증착한 후 후속 산소 플라즈마 처리를 행하였다. SiOF박막은 산소 플라즈마 처리를 수행함으로써 SiOF박막의 밀도가 증가하고, 수분과의 친화력이 강한 Si-F 결합이 감소하는 것이 주요한 원인으로 사료된다. 하지만 플라즈마 처리 시간이 5분 이상으로 증가하면 유전율의 증가가 일어난다. 따라서 본 실험에서는 산소 플라즈마 처리조건이 마이크로파 전력이 700W, 공정 압력이 3mTorr, 기판온도가 300℃일 경우 플라즈마 처리시간은 3분이 적당한 것으로 생각된다.

글로우방전을 이용한 폴리에스테르섬유의 발수가공 (Water Repellent Finishes of Polyester Fiber Using Glow Discharge)

  • Mo, Sang Young;Kim, Gi Lyong;Kim, Tae Nyun;Chun, Tae Il
    • 한국염색가공학회지
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    • 제5권4호
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    • pp.29-41
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    • 1993
  • In order to surface Hydrophobilization of Poly(ethylene terephthalate) (PET) fiber samples were treated in the atmosphere of CF$_{4}$ or $C_{2}$F$_{6}$glow discharge. The sample used in this study was PET film which is 75$\mu$m thick made by Teijin, O-Type(Japan). The cleaned samples were placed in plasma reactor made of pyrex glass cylinder, and plasma processing was carried out by glow discharge of CF$_{4}$ or $C_{2}$F$_{6}$ gas, being continuously fed by gas flow and continuously pumped out by a vacuum system. Electric power source for generate plasma state was sustained alternating current(60Hz) and voltage was sustained 600 volt. The duration of plasma treatment varied from 15 to 120 seconds except special case, the monomer gase pressure varied from 0.02 to 0.3 Torr and power range was 10 to 90 watts. The hydrophobic features of changed PET surface were evaluated by contact angle measurement and surface chemical characteristics were analyzed by ESCA. Results can be summerized as follows. 1. The most favorable setting position of substrate was the center area between the two electrodes. 2. $C_{2}$F$_{6}$ discharge current was lower than that of CF$_{4}$ when same voltage was sustained. Treated efficiency between CF$_{4}$ and $C_{2}$F$_{6}$ did not revealed significant differences under same electric power(wattage). 3. When monomer pressure is very low below 0.02 torr, as though substrate is exposed to CF$_{4}$ or $C_{2}$F$_{6}$ plasma, it tend to be hydrophilic through a little of fluorine bond and a great deal of oxidizing reaction. 4. There brought good hydrophobilization when monomer pressure was more 0.1 torr and duration of glow discharge treatment was over 45 seconds. When monomer pressure was too high, discharge current became low. Although prolong the duration, there was no more high hydrophobilization. 5. According to ESCA analysis, there were a little CF bond and a prevailing CF$_{2}$ bond in CF$_{4}$-treated substrate. There were CF$_{3}$, a little CF and a prevailing CF$_{2}$ bond in $C_{2}$F$_{6}$-treated substrate.d substrate.

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코로나방전플라즈마제트를 이용한 생식용 곡류의 미생물 저감 (Microbial Inactivation of Grains Used in Saengshik by Corona Discharge Plasma Jet)

  • 윤금아;목철균
    • 한국식품과학회지
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    • 제47권1호
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    • pp.70-74
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    • 2015
  • 생식제조에 사용되는 곡류의 미생물 오염을 저감하기 위하여 코로나방전플라즈마제트(CDPJ)를 사용하여 곡류 표면의 미생물을 살균을 시도하고, CDPJ 처리에 따른 곡류 품질변화 여부를 조사하였다. 곡류의 초기 오염도는 $1.7{\times}10^3-9.9{\times}10^5CFU/g$ 정도를 보였다. 곡류에 대한 CDPJ의 살균력은 1-1.5 A 범위에서 전류세기에 따라 증가하였으며, 토출거리 25 mm에서 가장 양호한 살균 효과를 나타냈다. 곡류 미생물의 CDPJ 살균패턴은 의사 1차반응 모델인 Singh-Heldman 모델에 부합하였고, 세균이 진균에 비해 더 민감한 살균효과를 보였다. 곡류별로는 백미가 가장 잘 살균되었고, 압맥, 현미 순으로 살균효과가 낮아졌다. 처리시간 10분 이하의 처리는 곡류의 TBA가에 영향을 주지 않아 CDPJ 처리는 생식제조용 곡류의 지방특성을 변화시키지 않고 미생물을 저감함으로써 생식의 위생 향상에 활용될 수 있을 것으로 기대된다.

산소플라즈마와 급속열처리에 의해 제조된 티타니아 박막의 휴믹산 제거 (Removal of Humic Acid Using Titania Film with Oxygen Plasma and Rapid Thermal Annealing)

  • 장준원;박재우
    • 한국지하수토양환경학회지:지하수토양환경
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    • 제12권3호
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    • pp.29-35
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    • 2007
  • 본 연구에서는 산소플라즈마로 티타늄을 산화하고 급속열처리하여 티타니아 광촉매 박막을 제조하고 휴믹산 제거실험을 수행하였다. 플라즈마 화학기상증착장치에서의 산소플라즈마는 티타늄 표면을 산화시킴으로써 광촉매 피막을 생성하게 된다. 증착조건에서 RF power는 최대 500 W 이하에서 100 W, 150 W, 300 W, 처리시간은 5분, 10분에서 조절되었다. 박막의 특성은 XPS와 XRD로 측정하였다. 실험으로서 우리는 박막이 높은 성능을 나타내는 최적을 조건을 찾았다. 또한 제조된 박막의 경우 기존 Thermal spray Titania film에 비해 2배정도 우수하였고 분말만큼 광촉매 성능을 갖는다.

플라즈마 이온 확산법에 의해 타이타늄 합금 표면층에 형성된 TiC층에 관한 연구 (Surface Characteristics of TiC Layer Formed on Ti Alloys by Plasma Ion Carburizing)

  • 이도재;최답천;양현삼;정현영;배대성;이경구
    • 한국주조공학회지
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    • 제27권4호
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    • pp.179-183
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    • 2007
  • The TiC layer was formed on Ti and Ti alloys by plasma carburizing method. The main experimental parameters for plasma car boozing were temperature and time. XRD, EDX, hardness test and corrosion test were employed to analyze the evolution and material properties of the layer. The preferred orientation of TiC layers is (220) at treated temperature of $700^{\circ}C\;and\;880^{\circ}C$ However, it is changed to (200) at temperature of $800^{\circ}C$ The thickness of carbide layer increase with increasing carburizing temperature. Highest hardness of hardened layer formed on CP-Ti was obtained at the carburizing condition of processing temperature $880^{\circ}C$ and processing time 1080min. The corrosion potential of carburizing specimen was higher than untreated CP-titanium, and corrosion potential increased as carburizing temperature and time increased. Thus the corrosion resistance of CP-Ti was greatly enhanced after plasma carburizing treatment.

표면처리된 알루미늄/CFRP 복합재의 전단특성에 관한 연구 (A Study of Shear Properties of Surface Treated Aluminum/CFRP Composites)

  • 양준호;지창헌;윤창선;이경엽
    • 한국복합재료학회:학술대회논문집
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    • 한국복합재료학회 2000년도 추계학술발표대회 논문집
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    • pp.75-78
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    • 2000
  • This study investigates the effect of surface treatment on the shear strength between aluminum panel and composite plate. The aluminum panel was surface-treated by DC Plasma and the composite Plate was surface-treated by ion beam. Lap shear test and T-peel test were performed to determine the shear strength and T-peel strength. Results showed that the shear strength of surface-treated case was 2.5 times higher than that of untreated case. The T-peel strength of treated case was more than 5 times higher than that of untreated case. SEM examination showed that the strength increase of surface-treated case was due to the more spread of epoxy to the panel.

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