Remote PECVD (RPECVD) SiO$_2$ 막의 형성 및 특성
(Foramtion and Characterization of SiO$_2$ films made by Remote Plasma Enhanced Chemical vapour Deposition)
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- 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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- 한국전기전자재료학회 1994년도 추계학술대회 논문집
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- pp.171-174
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- 1994
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