Atomic layer deposition of high-k dielectric lanthanum oxide($La_{2}O_{3}$ ) thin films on $SiO_2/Si(100)$ Substrate
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- 한국진공학회:학술대회논문집
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- 한국진공학회 2004년도 제27회 학술발표회 초록집
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- pp.162-162
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- 2004