• 한국세라믹학회지
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• 제23권4호
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• pp.69-77
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• 1986

Single crystals of zinc tungstates were grown by the Czochralski method. To obtain the seed crystals various methods were employed including 4 points platinum wirse which dipped the melt and the capillary action from the melt led the 3 differently oriented seeds such as [100], [010] and [001] directions. Optimum growing conditions were observed as neck diameter 2mm rotation speed 50-60 rpm maximum diameter 15mm and pulling rate 0-10 mm/hr. Dendrites covered on the olidified surface in a platinum crucible were turned out to be [001] direction because obviously this crystal has the strong [001] preferential growth habit. The (100) and (010) planes of single crystals showed the slip planes and the (010) plane showed the perfect cleavage surface.

• 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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• 한국전기전자재료학회 1998년도 춘계학술대회 논문집
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• pp.367-370
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• 1998

In this paper, based on the research of high temperature YBCO superconductor, using the Yb instead of Y, with the YbBCO superconductor powder which was combined by means of conventional solid reaction, textured directional crystal was prepared by MCP method and the character was analyzed. Mixing the starting elements and calcining at 890$^{\circ}C$, 900$^{\circ}C$, 910$^{\circ}C$, single phase YbBCO, Yb$_2$BaCuO$\sub$5/ and BaCuO$\sub$2/ were certified. And from the powder which was calcined at 900$^{\circ}C$ the, sample which became texture-growth by MCP method was well oriented. The result of DTA measurement, the fusing point of YbBCO superconductor and it\`s critical current was measured to be 979$^{\circ}C$, 87K respectively. The critical current density was obtained at the value of 700A/$\textrm{cm}^2$(77K. 0H) calculated by Bean's Model using the measured hysteresis curve of VSM.

• 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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• 한국전기전자재료학회 2004년도 추계학술대회 논문집 Vol.17
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• pp.671-674
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• 2004

BSCCO thin films have been fabricated by epitaxy growth at an ultra-low growth rate. The growth rates of the films was set in the region from 0.17 to 0.27 nm/min. MgO(100) was used as a substrate. In order to appreciate stable existing region of Bi 2212 phase with temperature and ozone pressure, the substrate temperature was varied between 655 and 820 $^{\circ}C$ and the highly condensed ozone gas pressure(PO3) in vacuum chamber was varied between $2.0{\times}10^{-6}$ and $2.3{\times}10^{-5}$ Torr. Bi 2212 phase appeared in the temperature range of 750 and 795 $^{\circ}C$ and single phase of Bi 2201 existed in the lower region than $785\;^{\circ}C$. Whereas, $PO_3$ dependance on structural formation was scarcely observed regardless of the pressure variation. And high quality of c-axis oriented Bi 2212 thin film with $T_c$(onset) of about 90 K and $T_c$(zero) of about 45 K is obtained. Only a small amount of CuO in some films was observed as impurity, and no impurity phase such as $CaCuO_2$ was observed in all of the obtained films.

• 한국결정성장학회지
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• 제10권1호
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• pp.5-12
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• 2000

Silicon carbide(SiC)는 뛰어난 전기적, 열적, 물리적 특성 때문에 내환경 전자소자용 반도체 재료로 널리 연구되고 있다. 본 연구에서는 화학기상증착법으로 단결정 6H-SiC 동종박막을 성장시키고 이의 성장 특성을 조사하였다. 특히, 몰리브덴 (Mo)-plate를 이용하여 SiC를 코팅하지 않은 graphite susceptor를 사용한 6H-SiC 동종박막 성장조건을 성공적으로 얻었다. 대기압 상태의 RF-유도가열식 챔버에서 CVD성장을 수행하였고, <1120> 방향으로 $3.5^{\circ}$off-axis된 기판을 사용하였다. 성장 박막의 결정성을 평가하기 위하여 Nomarski 관찰, 투과율 측정 , 라만 분광, XRD, 광발광(PL) 분광, 투과전자현미경(TEM) 측 정 등의 방법을 이용하였다. 이상과 같은 실험을 통하여, 본 연구에서는 성장온도 $1500^{\circ}C$, C/Si flow ratio ($C_3H_8$ 0.2 sccm, $SiH_4$ 0.3 sccm)인 성장조건에서 결정성이 가장 좋은 6H-SiC 동종박막을 얻을 수 있었다.

• 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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• 한국전기전자재료학회 1997년도 춘계학술대회 논문집
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• pp.49-53
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• 1997

In this paper, YbBa$_{2}$Cu$_{3}$O$_{x}$ superconductor was sintered by means of conventional solid reaction and the textured YbBa$_{2}$Cu$_{3}$O$_{x}$ was prepared by the Melted-Condensed Process in which SmBa$_{2}$Cu$_{3}$O$_{x}$ crystal was used as seed crystal to introduce the YbBa$_{2}$Cu$_{3}$O$_{x}$ crystal growth. The texture of YbBa$_{2}$Cu$_{3}$O$_{x}$ was examined by X-ray diffraction, and the fracture of YbBa$_{2}$Cu$_{3}$O$_{x}$ sample was observed by SEM, which proved the sample was well oriented. After oxygen absorption of the textured YbBa$_{2}$Cu$_{3}$O$_{x}$ sample, it's critical temperature was measureed to be 86K.eed to be 86K.

• 한국결정성장학회지
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• 제6권3호
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• pp.431-438
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• 1996

투과전자현미경을 이용하여 고온가압소결된 $TiB_{2}$의 미세구조를 분석하였다. Ionbeam thinning에 의해서 준비된 박편시편은 육방정계 $TiB_{2}$의 결정학적 이방성에 기인한 특징을 보여주었다. 이들 시편에서 철분 불순물은 결정입 3중점, 결정입계 그리고 결정내에 2차상을 형성하는 것으로 확인되었고, 결정입 3중점이나 결정입계 혹은 matrix에서 유리하게 배향된 결정입에 coherence or semi-coherence한 특징을 나타내었다.

• 한국재료학회지
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• 제16권8호
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• pp.479-484
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• 2006

Highly c-axis oriented poly-crystalline GaN with a dimension of $1{\sim}3\;{\mu}m$ was deposited on $c-Al_2O_3$ substrate by vapor transport epitaxy (VTE) method at the temperature range of $900{\sim}1150^{\circ}C$. XRD intensities from (00'2) plane of grown GaNs were increased with reaction conditions which indicate the improvement of the crystal quality. In the PL spectra measured at 10 K, the spectrum composed with the neutral-donor bound exciton-related emission at 3.47 eV, crystal defect-related emission band at 3.42 eV and with its phonon replicas. The fact that intensity of $I_2$ were increased and FWHM were decreased with growth conditions means that the quality of GaN crystals were improved. With this simple VTE technology, we confirm that the GaNs were simply deposited on sapphire substrate and crystal quality related to optical properties of GaN grown by VTE were relatively good. PL emission without deep level emission in spite of polycrystalline structure can be applicable to the fabrication of large area and low cost optical devices using poly-GaN grown by VTE.

• 한국결정성장학회지
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• 제30권6호
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• pp.264-270
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• 2020

사용자 중심의 서비스디자인 방법론을 통한 디자인개발을 진행하고 시제품 제작 시 소재 선정 기준에 대해 조사분석하여 선정된 소재인 CFRP(Carbon Fiber Reinforced Plastics) CNT(Carbon Nano Tube)를 동물용 X-ray 디텍터 패널부분에 적용하여 제품디자인 및 시제품 개발을 진행하고 CFRP CNT 패널을 적용하여 완성된 시제품을 Drop 테스트, 전면 외압 강도 시험, 방진/방수 성능 시험을 진행하여 야외환경에서 사용하는 휴대가능한 동물용 X-ray 디텍터로 활용이 가능한 제품임을 확인하였다.

• 한국결정성장학회지
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• 제7권3호
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• pp.449-455
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• 1997

KOH 용액을 이용한 단결정 실리콘의 이방성 식각 특성을 조사하였다. n형 (100) 단결정 실리콘 웨이퍼를 시료로 사용하였으며, 식각 비율이 월등히 작은 $SiO_2$층을 실리콘 식각의 마스크로 사용하였다. 실리콘의 식각속도와 식각상태는 KOH 용액의 농도와 온도조건 뿐만 아니라 용액의 균일도, 용액의 교반속도와 교반방향 등에 따라 큰 차이가 발생하였다. 실리콘의 식각 속도는 KOH 농도가 낮아질수록 증가하며, 온도는 높아질수록 증가하는 경향을 보였으며, 20 wt%~50 wt%의 농도 범위와 $50^{\circ}C~105^{\circ}C$의 온도 범위에서 식각속도는 $10\mu \textrm{m}/hr~250\mu\textrm{m}/hr$로서 큰 폭으로 변화하였다. 식각된 표면의 거칠기중 hillock의 발생은 (100)면과 (111)면의 식각 속도 비율이 커질수록 증가함을 알 수 있었다.

• 한국결정성장학회지
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• 제25권3호
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• pp.111-115
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• 2015

$Er^{3+}$ 이온이 5, 7.3, 8, 10 at.% 치환된 $Y_3Al_5O_{12}$ 단결정을 Czochralski법으로 질소 분위기에서 성장시켰다. 1.0 mm/h의 인상속도와 10 rpm의 회전 속도로 50 mm의 결정 직경을 가진 <111> 방향의 $Er:Y_3Al_5O_{12}$ 단결정을 얻었다. 두꺼운 직경의 core 영역은 주로 결정 성장 중 직경 변화가 있는 영역에서 발생되었다. 결정 내에서 $Er^{3+}$의 농도는 융액 내의 농도와 같았다. Core 영역의 $Er^{3+}$ 농도는 core가 없는 영역보다 다소 높게 검출되었다. $Er^{3+}$ 이온의 도핑 농도가 증가함에 따라 형광 수명은 포화되었다.