A method to measure the interfacial toughness of film/substrate by nanoindenter is proposed. As the thickness of the film decreases, the measurement of the interfacial toughness requires the more sophisticated equipment such as nanoindenter. In this study, the nanoindenter is applied to the substrate near the interface of film/substrate in the direction perpendicular to the normal of the interface, causing the cohesive fracture of the substrate, followed by the interfacial cracking. The specimen of Cu($0.56 {\mu}m$)/Si(530 ${\mu}$) are made by sputtering the copper onto the silicon wafer. By scratching the copper surface, we can make the easy interfacial cracking during the nanoindentation. It is found that the averaged values of the interfacial toughness of the Cu/Si is $0.664{\pm}0.3\;J/m^2$ . The phase angle of the specimen in this study is ${\psi}{\simeq}-36.8^{\circ}$, computed by the method of Suo and Hutchinson.[1]
In this paper, we propose the shape of extremely small thrust VCM for application of the Nanoindenter, which enables control of very small force and displacement. We performed optimization of the VCM shape using conjugated gradient method. And the purposes of optimization are the minimization of the permanent magnet size for the efficient systems, minimization of deviation of flux density from the air gap for operate on regular thrust and a linearization of thrust for a good control characteristic. The finite element method is used for characteristic analysis. The node moving method is used to redundant changes of design variables. As a result, the VCM produces a yew small force by the difference of flux density of lower part from higher one. Also, in a wide range of current (0[A]-1[A]), the VCM produces linear driving thrust by saturating the magnetic circuit path and operate on regular thrust by minimizing deviation of flux density of the air gap.
Propose of this paper is VCM (voice coil motor) design for application of Nanoindenter, which enable control of extremely small force and displacement. This paper present the VCM shape to produce a very small force by the difference of flux density of lower part from higher one. In wide range of current. VCM produces linear driving force and operate on regular thrust having maximum displacement(100um) was practiced.
The objective of this work is to suggest a mastless pattern fabrication technique using the combination of machining by Nanoindenter(equation omitted) XP and HF wet etching. Sample line patterns were machined on a borosilicate surface by constant load scratch (CLS) of the Nanoindenter(equation omitted) XP with a Berkovich diamond tip, and they were etched in HF solution to investigate chemical characteristics of the machined borosilicate surface. All morphological data of scratch traces were scanned using atomic force microscope (AFM).
The nanoprobe based on lithography, mainly represented by SPM based technologies, has been recognized as potential application to fabricate the surface nanostructures because of its operational versatility and simplicity. The objective of the work is to suggest new mastless pattern fabrication technique using the combination of machining by nanoindenter and KOH wet etching. The scratch option of the nanoindenter is a very promising method for obtaining nanometer scale features on a large size specimen because it has a very wide working area and load range. Sample line patterns were machined on a silicon surface, which has a native oxide on it, by constant load scratch (CLS) of the Nanoindenter with a Berkovich diamond tip, and they were etched in KOH solutions to investigate chemical characteristics of the machined silicon surface. After the etching process, the convex structure was made because of masking effect of the affected layer generated by nano-scratch. On the basis of this fact, some line patterns with convex structures were fabricated. Achieved patterns can be used as a mold that will be used for mass production processes such as nanoimprint or PDMS molding process. All morphological data of scratch traces were scanned using atomic force microscope (AFM).
나노 소재의 물성을 측정하기 위하여 대부분의 연구 그룹에서는 크게 두 가지 분석 기법인 분광학을 이용한 분석과 나노트라이볼로지를 이용한 분석을 사용하고 있다. 분광학을 이용한 분석에는 NMR (Nuclear Magnetic Resonance), IR (Infrared Spectroscopy), Raman 등이 대표적이라 할 수 있고, 나노트라이볼로지를 이용한 분석에는 AFM (Atomic Force Micro-Scope), EFM (Electrostatic Force Microscope), KFM (Kelvin Force Microscope), Nanoindenter 등의 탐침을 이용한 측정 기법이 대표적이다. Nanoindenter는 물질의 탄성 및 경도를 측정 할 수 있으며 이를 통해 물질의 특성을 연구 하는 데에 사용된다. 그러나 이런 Nanoindenter의 압입 실험에서 압입 조건 등의 통제 변수가 다르면 그 결과 값도 바뀌는 것을 볼 수 있는데 본 실험에서는 이런 압입 조건 중 Load - Hold - Unload force의 속도 및 시간을 변화시켜 물질의 탄성계수와 경도가 어떠한 차이를 가지는지 연구하였다.
In this study, the deformation behavior of semi-solid Al-Si alloy was investigated by nanoindenter as a part of the research on the surface crack behavior in thixoformed automobile component. The microstructure of semi-solid Al-Si alloy consists of primary and eutectic regions. In eutectic regions the crack initiation begins with initial fracture of the eutectic silicon particles and inside other intermetallic phases. Nano-deformation characteristics in the eutectic and primary phase of semi-solid aluminium alloy were investigated through the nano-indentation experiments and the AFM observation. In addition, mechanical properties of each region were investigated and compared with each other.
이 논문에서는 반도체의 기판으로 사용되는 Si(silicon)기판과 금속배선 물질인 Cu(copper)의 확산을 효과적으로 방지하기 위한 W(Tungsten)-C(Carbon)-N(Nitrogen) 확산방지막을 제시하였고, 시료 증착을 위하여 rf magnetron sputter를 사용하여 동일한 증착조건에서 질소(N)의 비율을 다르게 증착한 후 시료의 열적 안정성 측정을 위하여 상온에서 $800^{\circ}C$까지 각각 질소 분위기에서 30분간 열처리 과정을 실시하여 열적 손상을 인가하였다. 이후 Nanoindentation 기법을 이용하여 총 16 points에서 Elastic modulus와 Weibull distribution을 측정하였다. 그 결과 질화물질이 고온에서 물성변화가 적게 나타나는 것을 알 수 있었고, 온도변화에 따른 박막의 균일도와 결정성 또한 질화물질에서 더 안정적이었다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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