Kim, Tae-Hoon;Kim, Sun-Young;Ko, Ji-Soo;Park, Hyun-Ho;Kim, Kwang-Ryul;Jo, Chang-Hyun;Shin, Sung-Wook;Choi, Byoung-Deog
한국신재생에너지학회:학술대회논문집
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2009.11a
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pp.364-364
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2009
The solar cell is in the spotlight as a future green energy source. In the solar cells based on silicon wafer, the improvement of efficiency is one of crucial issues. One of techniques for high efficiency is texturing on the surface of solar cells. We studied the laser texturing on the surface of multi-crystalline silicon solar cells. The laser texturing followed by chemical etching is adequate for the multi-crystalline structure which have random crystallographic directions. We used the fiber laser for texturing and the SiNx as a masking layer for etching process. We investigated the shapes of holes for texturing in the various laser power conditions and analyzed the holes after removal of thermal damages caused by laser ablation through a 3D profiler.
Multi-crystalline silicon surface etching without grain-boundary delineation is a challenging task for the fabrication of high efficiency solar cell. The use of sodium hydroxide - sodium hypochlorite (NaOH40% + NaOCl 12%) solution for texturing multi-crystalline silicon wafer surface in solar cell fabrication line is reported in this article. in light current-voltage results, the cells etched in NaOH 40% + NaOCl 12% = 1:2 exhibited higher short circuit current and open circuit voltage than those of the cells etched in NaOH 40% + NaOCl 12% = 1:1 solution. we have obtained 15.19% conversion efficiency in large area(156cm2) multi-Si solar cells etched in NaOH 40% + NaOCl 12% = 1:1 solution.
Surface Texturing is very important process for high cell efficiency in crystalline silicon solar cell. Anisotropic texturing with an alkali etchant was known not to be able to produce uniform surface morphology in multi-crystalline silicon (mc-Si), because of its different etching rate with random crystal orientation. In order to reduce surface reflectance of mc-Si wafer, the general etching tendency was studied with HF/HN$O_3$/De-ionized Water acidic solution. And the surface structures of textured mc-Si in various HF/HN$O_3$ ratios were compared. The surface morphology and reflectance of textured silicon wafers were measured by FE-SEM and UVvisible spectrophotometer, respectively. We obtained average reflectance of $16{\sim}19$% for wavelength between 400 nm and 900 nm depending on different etching conditions.
Park, Seok-Gi;Lee, Jeong In;Kang, Min Gu;Kang, Gi-Hwan;Song, Hee-eun;Chang, Hyo Sik
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.29
no.8
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pp.455-460
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2016
A textured front surface is required in high efficiency silicon solar cells to reduce reflectance and to improve light trapping. Wet etching with alkaline solution is usually applied for mono crystalline silicon solar cells. However, alkali texturing method is not appropriate for multi-crystalline silicon wafers due to grain boundary of random crystallographic orientation. Accordingly, acid texturing method is generally used for multi-crystalline silicon wafers to reduce the surface reflectance. To reduce reflectivity of multi-crystalline silicon wafers, double texturing method with combination of acid and reactive ion etching is an attractive technical solution. In this paper, we have studied to optimize RIE condition by different RF power condition (100, 150, 200, 250, 300 W).
Park, Seok-Gi;Do, Kyeom-Seon;Song, Hee-Eun;Kang, Gi-Hwan;Ahn, Hyung-Keun;Han, Deuk-Young
한국태양에너지학회:학술대회논문집
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2011.04a
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pp.111-115
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2011
Surface Texturing is an essential process for high efficiency in multi-crystalline silicon solar cell. In order to reduce the reflectivity, there are two major methods; proper surface texturing and anti-reflection coating. For texturization, wet chemical etching is a typical method for multi-crystalline silicon. The chemical solution for wet etching consists of HF, $NHO_3$, DI and $CH_3COOH$. We carried out texturization by the change of etching time like 15sec, 30sec, 45sec, 60sec and measured the reflectivity of textured wafers. As making the silicon solar cells, we obtained the conversion efficiency and relationship between texturing condition and solar cell characteristics. The reflectivity from 300nm to 1200nm was the lowest with 15 sec texturing time and 60 sec texturing time showed almost same reflectivity as bare one. The 45 sec texturing time showed the highest conversion efficiency.
The Transactions of the Korean Institute of Electrical Engineers C
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v.52
no.11
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pp.496-500
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2003
A low-cost, large area, random, maskless texturing scheme independent of crystal orientation is expected to significantly impact terrestrial photovoltaic technology. We investigated silicon surface microstructures formed by reactive ion etching (RIE) in Multi-Hollow cathode system. Desirable texturing effect has been achieved when radio-frequency (rf) power of about 20 Watt per one hollow cathode glow is applied for our RF Multi-Hollow cathode system. The black silicon etched surface shows almost zero reflectance in the visible region as well as in near IR region. The etched silicon surface is covered by columnar microstructures with diameters from 50 to 100 nm and depth of about 500 nm. We have successfully achieved 11.7% efficiency of mono-crystalline silicon solar cell and 10.2% multi-crystalline silicon solar cell.
In this study, the texturing and the emitter formation processes were carried out with the wafer adhesion method to increase the productivity and reduce the production cost of the multi-crystalline silicon solar cell. After fabricating $156{\times}156mm$ solar cell according to the wafer adhesion method, the operation characteristics were analyzed and compared with those of the solar cell fabricated by the standard process method. In the case of a solar cell formed by the wafer adhesion method, it showed Jsc of $32.87mA/cm^2$, Voc of 0.612V, FF of 78.04% and efficiency of 15.71% respectively. The efficiency of the solar cell formed by the wafer adhesion method was 0.1% higher than that of the solar cell formed by the standard method. In addition, the productivity of the texturing and the emitter formation processes is expected to be approximately doubled. Therefore, it is expected that the manufacturing cost of the multi-crystalline solar cell can be reduced due to the improved productivity compared with the standard process.
Transactions of the Korean Society of Mechanical Engineers A
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v.24
no.7
s.178
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pp.1703-1711
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2000
Microstructural morphology of molded composites of thermotropic liquid crystalline polymer(LCP) and polyamide 6 (PA6) has been studied as a function of epoxy fraction. Injection-moulding of a thin composite plaque at a temperature below the melting point of the LCP fibrils by suing the extruded LCP/PA6 pellets produced multi-layered structures: 1) the surface skin layer with thickness of 65-120 ym exhibiting a transverse orientation, 2) the sub-skin layer with an orientation perpendicular to the surface skin, i.e. in the flow direction, 3) the core layer with arc-curved flow patterns. Similar microstructural orientations were observed in the respective layers for the composite plaques with different fractions of epoxy.
Journal of the Korean Crystal Growth and Crystal Technology
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v.24
no.2
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pp.47-53
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2014
Three kinds of crystalline silicon have been used for the solar cell grade. First of all, single crystalline silicon is the main subject to enhance the production yield. Most of the efforts are focused on the control of the melt-crystal interface shape affected by the crystal-crucible rotation rate. The main subject in the multi-crystalline silicon ingot is the contamination control. Faster Ar gas flow above the melt surface will lower the carbon contamination in the crystal. And also, twin boundary electrically inactive is found to be more effective than grain boundary for the improvement of the MCLT. In the case of mono-like silicon material, propagation of the multi-crystalline silicon growing from the inner side crucible is the problem lowering the portion of the single crystalline part at the center of the ingot. Crystal growing apparatus giving higher cooling rate at the bottom and lower cooling rate at the side crucible was suggested as the optimum solution obtaining higher quality of the mono-like silicon ingot. Proper application of the seeds at the bottom of the crucible would be one of the solutions.
This paper proposes a MATLAB Simulink simulator for photovoltaic (PV) systems. The main contribution of this work is the utilization of a two-diode model to represent a PV cell. This model is known to have better accuracy at low irradiance levels which allows for a more accurate prediction of PV system performance. To reduce computational time, the input parameters are reduced to four and the values of $R_p$ and $R_s$ are estimated by an efficient iteration method. Furthermore, all of the inputs to the simulator are information available on a standard PV module datasheet. The simulator supports large array simulations that can be interfaced with MPPT algorithms and power electronic converters. The accuracy of the simulator is verified by applying the model to five PV modules of different types (multi-crystalline, mono-crystalline, and thin-film) from various manufacturers. It is envisaged that the proposed work can be very useful for PV professionals who require a simple, fast and accurate PV simulator to design their systems.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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