PECVD에 의하여 제조된 Phosphorus-Doped ${\mu}c$ -Si:H 박막의 특성
(Properties of Phosphorus Doped ${\mu}c$ -Si:H Thin Films Prepared by PECVD)
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- 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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- 한국전기전자재료학회 1992년도 추계학술대회 논문집
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- pp.22-27
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- 1992