Etching characteristics of ZnS:Mn thin films using $BCl_3/Ar$ high density plasma
($BCl_3/Ar$ 고밀도 플라즈마를 이용한 ZnS:Mn 박막의 식각 특성)
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- Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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- 한국전기전자재료학회 2005년도 추계학술대회 논문집 Vol.18
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- pp.124-125
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- 2005