• 제목/요약/키워드: Micro/Nano Fabrication

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포토 리소그래피 공정을 이용한 DLC 마이크로 패턴 원통 금형 제작 (Fabrication of DLC Micro Pattern Roll Mold by Photolithography Process)

  • 하태규;김정완;이태동;윤수종;김태규
    • 열처리공학회지
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    • 제31권2호
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    • pp.63-67
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    • 2018
  • Recent mold industry uses many roll-to-roll processes that can produce high production speed and precision machining and automation process. In the circular cylinder mold, however, patterns of less than $10{\mu}m$ are difficult to manufacture and maintain. In this study, we fabricated a circular cylindrical mold with a DLC thin film which have high hardness, low coefficient of friction and high releasability by using lithography and lift-off process. The height, line width, and pitch of the fabricated DLC macro pattern are $3.1{\mu}m$, $9.1{\mu}m$ and $20.2{\mu}m$, respectively. The pattern size is finer than the current applied to the aluminum cylinder type, and this shows the possibility of practical use of DLC micro pattern roll mold.

MEMS 고체 추진제 추력기의 추진제실 설계와 구조체 가공 방법 (Design and Fabrication method of combustor for micro solid propellant thruster)

  • 이종광;권세진
    • 한국추진공학회:학술대회논문집
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    • 한국추진공학회 2006년도 제27회 추계학술대회논문집
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    • pp.251-254
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    • 2006
  • 마이크로 추력기는 마이크로/나노 위성체의 구현을 위한 핵심 기술이며 다양한 다이크로 추력기 중 마이크로 고체 추진제 추력기는 각광받고 있는 추력기중 하나이다. 마이크로 고체 추진제 추력기는 노즐, 점화기, 추진제실 그리고 추진제로 구성되어 있다. 본 논문에서는 다양한 마이크로 고체 추진제 추력기들을 조사하고, 1mNs의 임펄스를 구현할 수 있는 추력기 모델을 제시하고 연소실의 설계 및 제작 방법에 대한 결과를 보고하겠다.

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나노/마이크로 PDMS 채널 제작을 위한 마스크리스 실리콘 스템퍼 제작 및 레오로지 성형으로의 응용 (Maskless Fabrication of the Silicon Stamper for PDMS Nano/Micro Channel)

  • 윤성원;강충길
    • 소성∙가공
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    • 제13권4호
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    • pp.326-333
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    • 2004
  • The nanoprobe based on lithography, mainly represented by SPM based technologies, has been recognized as a potential application to fabricate the surface nanosctructures because of its operational versatility and simplicity. However, nanoprobe based on lithography itself is not suitable for mass production because it is time a consuming method and not economical for commercial applications. One solution is to fabricate a mold that will be used for mass production processes such as nanoimprint, PDMS casting, and others. The objective of this study is to fabricate the silicon stamper for PDMS casting process by a mastless fabrication technique using the combination of nano/micro machining by Nanoindenter XP and KOH wet etching. Effect of the Berkovich tip alignment on the deformation was investigated. Grooves were machined on a silicon surface, which has native oxide on it, by constant load scratch (CLS), and they were etched in KOH solutions to investigate chemical characteristics of the machined silicon surface. After the etching process, the convex structures was made because of the etch mask effect of the mechanically affected layer generated by nanoscratch. On the basis of this fact, some line patterns with convex structures were fabricated. Achieved groove and convex structures were used as a stamper for PDMS casting process.

MOVPE에 의한 GaN 피라미드 꼭지점 위의 반극성 나노/마이크로 크기의 GaN 성장 (Fabrication of semi-polar nano- and micro-scale GaN structures on the vertex of hexagonal GaN pyramids by MOVPE)

  • 조동완;옥진은;윤위일;전헌수;이강석;정세교;배선민;안형수;양민;이영철
    • 한국결정성장학회지
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    • 제21권3호
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    • pp.114-118
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    • 2011
  • 본 논문에서는 육각형 GaN 피라미드의 꼭지점 부분에만 나노 혹은 마이크로 크기의 GaN 구조를 선택적으로 성장시킬 수 있는 결정 성장 방볍에 대하여 연구하였다. 최적화된 포토리소그라피 공정을 이용하여 육각형 GaN 피라미드 구조의 꼭지점 부분의 $SiO_2$ 마스크 영역만을 제거할 수 있었으며, 이렇게 하여 노출된 육각형 GaN 피라미드의 꼭지점 부분에만 metal organic vapor phase epitaxy(MOVPE) 결정 성장방법을 사용하여 나노 및 마이크로 크기의 GaN 구조를 선택적으로 성장하였다. GaN 피라미드 꼭지점 부근에 형성된 나노 및 마이크로 G값J 구조는 semi-polar {1-101} 결정면으로 둘러싸인 육각 피라미드 형상을 하고 있으며 그들의 크기는 성장 시간에 의해 쉽게 조절할 수 있음을 확인하였다. TEM 관측 결과, 측면 방향으로 진행하는 관통전위들이 $SiO_2$ 마스크에 의해 효율적으로 차단되어 나노 및 마이크로 GaN 구조에서는 전위 밀도가 감소하는 것을 확인할 수 있었으나 $SiO_2$ 마스크의 끝부분의 매끄럽지 못한 부분에 의해 적층 결함이 발생함을 확인하였다.

FIB milling을 이용한 고정밀 다이아몬드공구 제작과 공정에 관한 연구 (A study on the fabrication and processing of ultra-precision diamond tools using FIB milling)

  • 위은찬;정성택;김현정;송기형;최영재;이주형;백승엽
    • Design & Manufacturing
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    • 제14권2호
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    • pp.56-61
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    • 2020
  • Recently, research for machining next-generation micro semiconductor processes and micro patterns has been actively conducted. In particular, it is applied to various industrial fields depending on the machining method in the case of FIB (Focused ion beam) milling. In this study, intends to deal with FIB milling machining technology for ultra-precision diamond tool fabrication technology. Ultra-precision diamond tools require nano-scale precision, and FIB milling is a useful method for nano-scale precision machining. However, FIB milling has a problem of Gaussian characteristics that are differently formed according to the beam current due to the input of an ion beam source, and there are process conditions to be considered, such as a side clearance angle problem of a diamond tool that is differently formed according to the tilting angle. A series of process steps for fabrication a ultra-precision diamond tool were studied and analyzed for each process. It was confirmed that the effect on the fabrication process was large depending on the spot size of the beam and the current of the beam as a result of the experimental analysis.

MEMS 공정을 이용한 32x32 실리콘 캔틸레버 어레이 제작 및 특성 평가 (Fabrication and Characterization of 32x32 Silicon Cantilever Array using MEMS Process)

  • 김영식;나기열;신윤수;박근형;김영석
    • 한국전기전자재료학회논문지
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    • 제19권10호
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    • pp.894-900
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    • 2006
  • This paper reports the fabrication and characterization of $32{\times}32$ thermal cantilever array for nano-scaled memory device applications. The $32{\times}32$ thermal cantilever array with integrated tip heater has been fabricated with micro-electro-mechanical systems(MEMS) technology on silicon on insulator(SOI) wafer using 9 photo masking steps. All of single-level cantilevers(1,024 bits) have a p-n junction diode in order to eliminate any electrical cross-talk between adjacent cantilevers. Nonlinear electrical characteristic of fabricated thermal cantilever shows its own thermal heating mechanism. In addition, n-channel high-voltage MOSFET device is integrated on a wafer for embedding driver circuitry.

마이크로 프로브 기반 열전 센서 제작 기술 (Fabrication of a Micro-thermoelectric Probe)

  • 장원석;최태열
    • 대한기계학회논문집B
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    • 제35권11호
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    • pp.1133-1137
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    • 2011
  • 마이크로 수준에서의 온도측정을 위하여 유리 피펫 기반의 프로브형 온도센서를 제작하였다. 이를 이용하여 정밀도 ${\pm}$ 0.1 K 를 가지는 온도측정 보정 실험을 수행하였다. 본 연구에서 제작한 방식은 저온의 용융점을 갖는 솔더합금(Sn)을 피펫에 내부에 주입하고 외부에 니켈(Ni) 코팅을 하여 열전대를제작함으로써 저비용의 프로브형 온도센서를 구현하였다. 제작된 센서 팁 끝단의 지름은 5 Am 에서 30 Am 로 피펫을 가열하여 당기는 방식으로 프로브 끝단의 크기를 조절하였다. 제작된 온도센서는 챔버내에서 정밀하게 제어된 온도 조절기를 사용하여 보정하였으며, 이를 통하여 얻어진 열전계수의 범위는 8.46 에서 $8.86{\mu}V$/K 의 값을 얻었다. 이를 이용하면 MEMS 소자, 세포, 티슈 등의 바이오 소재의 온도 및 열특성 측정용 프로브로 활용할 수 있을 것으로 생각된다.

프린팅 방법을 통한 Micro-Nano 시스템을 위한 all polymer flexible cuircuit 개발 (Development of all-polymer flexible circuit for micro-nano system using printing method)

  • 이정훈;황교일;신창용;류경주;김훈모
    • 한국정밀공학회:학술대회논문집
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    • 한국정밀공학회 2002년도 추계학술대회 논문집
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    • pp.750-753
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    • 2002
  • At present, almost circuits are wired using copper in flexible circuits. But, these circuit have limit to flexibility so it occurs fracture about cyclic bending and, thermal load of bending stress occur a circuit trouble. a study of all-polymer flexible circuits get over that problem. Established fabrication method of all-polymer circuits is photolithograph. This method can not have mass production, so this method wastes time and human effort. In this study, all polymer flexible circuits are fabricated using the inkjet process.

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적층 유기기판 내에 내장된 소형 LC 다이플렉서의 설계 및 제작 (Design and Fabrication of Miniaturized LC Diplexer Embedded into Organic Substrate)

  • 이환희;박재영;이한성
    • 대한전기학회:학술대회논문집
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    • 대한전기학회 2007년도 제38회 하계학술대회
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    • pp.262-263
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    • 2007
  • In this paper, fully embedded and miniaturized diplexer has been designed, fabricated, and characterized for dual-band/mode CDMA handset applications. The size of the embedded diplexer is significantly reduced by embedding high Q circular spiral inductors and high DK MIM capacitors into low cost organic package substrate. The fabricated diplexer has insertion losses and isolations of -0.5 and -23dB at 824-894MHz and -0.7 and -22dB at 1850-1990MHz, respectively. Its size is 3.9mm$\times$3.9mm$\times$ 0.77mm (height). The fabricated diplexer is the smallest one which is fully embedded into low cost organic package substrate.

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