In RF plasma processing, when the plasma is generated, there is the difference of impedance between RF generator and plasma source. Its difference is normally reduced by using the matcher and the RF power is transferred efficiently from the power generator to the plasma source. The generated plasma has source impedance that it can be changed during processing by pressure, frequency, density and so on. If the range of source impedance excesses the matching range of the matcher, it cannot match all value of the impedance. In this research, we studied the elevation mechanism of the RF power delivery efficiency between RF generator to the plasma source by using the transmission line and impedance tuning of the plasma source. We focus on two plasma sources (capacitive coupled plasma (CCP), inductive coupled plasma (ICP)) which is most widely used in industry recently.
In this paper, we focus our attention on the improvement of locking time and jitter parameter and propose the new structure of PLL which combined with the FVC, FOVI Matcher(FVC-Output and VCO-input Matching Circuit), Control Circuit and the conventional charge pump PLL. Using fast operation characteristics of the FVC, the circuit matching FVC-Output and VCO-input (FOVI Matcher) made to synchronize very fast. Fast locking time is usually required for application where the PLL has to settle rapidly if they switch from an idle mode to a normal mode and to track high-frequency data bit rate in data recovery systems. After a fast acqusition is achieved by the using the FVC, the conventional PLL operates for removing the phase error between the reference signal and the feedback signal. Therefore this structure can improve the trade-off between acquisition behavior and locked behavior.
This letter proposes a memory-based parallel string matching engine using the compressed state transitions. In the finite-state machines of each string matcher, the pointers for representing the existence of state transitions are compressed. In addition, the bit fields for storing state transitions can be shared. Therefore, the total memory requirement can be minimized by reducing the memory size for storing state transitions.
본 연구에서는 RF 전력을 사용하는 플라즈마 식각/증착 장비에서의 플라즈마 챔버 내의 임피던스를 정확하게 측정하기 위한 Adaptor를 개발하였다. 개발된 Adaptor는 RF Matcher와 결합되며 RS-232 통신포트를 통하여 PC와 연결하여 챔버내의 임피던스 변화를 스미스 차트로 표시하여 실시간 관측이 가능하다. 이러한 Tool을 이용하여 수집된 데이터는 최적의 공정조건 구축에 활용이 가능하며 반도체 생산 라인에서의 생산성 향상에 기여할 수 있다.
데이터마이닝과 바이오인식 분야의 판별모델의 성능평가 방법을 이종의 공간 데이터 셋의 매칭에 적용함으로써 좋은 매칭결과를 보이는 판별모델을 도출하고자 한다. 이를 위하여 매칭 기준별 매칭 후보객체 쌍의 거리 값을 구하고, 이들 거리 값을 Min-Max 방법과 Tanh 방법으로 정규화하여 유사도를 산출한다. 산출된 유사도를 CRITIC 방법, Matcher Weighting 방법 그리고 Simple Sum 방법으로 결합하여 형상유사도를 도출하는 판별모델을 적용하였다. 각 판별모델을 PR곡선과 AUC-PR로 평가한 결과, Tanh 정규화와 Simple Sum 방법을 적용한 판별모델의 AUC-PR이 0.893으로 가장 높게 나타났다. 따라서 이종의 공간 데이터 셋의 매칭을 위해서는 Tanh 정규화를 이용하여 각 매칭기준별 유사도를 산출하고 Simple Sum 방법으로 형상유사도를 구하는 판별모델이 적합한 것으로 사료된다.
서로 다른 정보자원 간의 연결을 의미하는 참조연계 서비스를 위해서는 참고문헌 데이터베이스 구축과 식별자 매칭 작업이 필요하다. CrossRef, PubMed, Web Of Science 등의 많은 해외 기관들은 Inera의 eXstyles, Parity Computings의 Reference Extractor 등의 자동화 도구들을 이용하여 DOI, PMID 등의 식별자를 기반으로 하는 참조연계 체제를 구축하였다. 국내에서도 한국과학기술정보연구원, 한국연구재단 등의 여러 기관에서 참고문헌 데이터베이스를 구축하고 있다. 그러나 각 단체별로 채택하고 있는 다양한 참고문헌 기술 형식 때문에 망라적인 데이터베이스 구축은 많은 어려움에 직면해 있다. 이에 참고문헌을 자동으로 파싱하여 메타데이터를 추출하고, DOI, PMID, KOI의 식별자를 매칭하는 Citation Matcher 시스템을 개발하여 참고문헌 데이터베이스 구축의 효율성을 향상시키고자 한다.
현재 반도체 및 디스플레이 장비들이 공정 매개변수 및 플라즈마 변수를 독립적으로 제어하기 위하여 전원 주파수를 다양하게 사용된다. 플라즈마의 상태나 에너지 전달 효율은 반도체 및 디스플레이 공정에 중요한 요소이다. 따라서 플라즈마 발생장치의 전원 주파수를 바꾸었을 때의 플라즈마 밀도와 에너지 전달 효율에 관하여 연구하였다. 공정용 유도 결합 플라즈마(ICP)를 발생시키기 위하여 신호 발생기에서 전력 증폭기와 임피던스 정합회로(Matcher)를 거쳐 반응 용기에서 플라즈마를 발생시켰다. 6 mTorr의 압력에서 주파수는 13.56 MHz에서부터 80 MHz까지, 15~60 W의 전력을 인가하였다. 플라즈마의 에너지 효율을 측정은 제작한 로고스키코일(Rogowski Coil)을 이용하여 시스템 전반을 등가회로로 계산하였으며, 플라즈마 밀도는 반응용기 중앙에서 부유 탐침법을 적용하여 도출하였다. 같은 전력 조건에서 주파수가 증가함에 따라 플라즈마 밀도가 증가함을 볼 수 있었다. 그러나 플라즈마 에너지 효율은 주파수가 높아짐에 따라 점점 커지다 작아지는 경향을 볼 수 있었다. 에너지 전달 효율의 변화는 정합회로의 표피효과(Skin effect)에 기인하며 플라즈마 밀도의 변화는 이온의 에너지 손실에 기인한다.
유도결합 플라즈마 방전 시 사용되는 L형 임피던스 정합기(impedance matcher)의 경우 일반적으로 직렬 및 병렬 콘데서가 연결되어있으며, 임피던스 정합조건이 되었을때 전원과 안테나 사이에 있는 임피던스 정합기의 소자값이 특정 값을 가지게 된다. 유도결합 플라즈마를 진단하기 위한 여러 방법들이 연구되어 왔지만, 이러한 임피던스 정합조건과 플라즈마 내부 변수들의 상관 관계에 대한 연구는 보고된 바 없다. 본 연구에서는 유도결합 플라즈마의 임피던스 정합조건과 유도결합 플라즈마의 변압기 회로모델를 이용하여 플라즈마 저항 및 플라즈마 인덕턴스를 구하기 위한 관계식을 도출하고 임피던스 정합기의 직렬 및 병렬 콘덴서 용량값 측정하여 플라즈마 저항 및 플라즈마 인덕턴스값을 계산하였다. 결과 검증을 위해 다양한 압력 및 전력 조건에서 부유랑뮤어 탐침법을 이용하여 플라즈마 밀도를 측정해 비교해 보았으며, 두 결과의 경향성은 잘 일치함을 확인하였다.
본 논문에서는 400kHz 10kW RF Source와 최대전력전달을 하기 위해 가변임피던스 정합기를 이용하여 파워 소스를 준비하였고, 송수신코일은 EE71형태의 페라이트코어에 테프론 와이어를 결선하여 구성하였다. 본 연구에서는 MF대역의 주파수를 이용하므로 자기유도방식을 채택하였다. 무선전력전송에서는 최대로 전력이 전달하기 위하여 송수신 코일과 부하간에 임피던스 매칭이 필수적으로 필요하다. 매칭이 원할하지 않을 경우 RF Source에 반사전력이 반사되어 심각한 손상을 발생할 수 있으며, 수신부 코일의 부하단에 최대로 전력이 전달되지 않을 뿐만 아니라 전체 시스템 효율이 나빠지게 된다 본 연구에서는 임피던스 정합기를 이용하여 자기유도방식에서 최적의 송수신 전송 조건을 도출하였다.
최근 반도체 제조공정에서 핵심기술의 국산화에 대한 관심이 증가하고 있다. 따라서 제조공정의 하나인 에칭공정의 핵심기술인 RF플라즈마 기술에대한 관심또한 증가하고 있다. 본 논문에서는 그중에서도 RF플라즈마에 사용되는 임피던스 정합기에 사용되는 가변커패시터에 대한 새로운 구조를 제안한다. 최근까지 임피던스 정합기는 기계식으로 가변하는 가변커패시터(Vacuum Variable Capacitor, 이하 VVC)를 주로 사용했다. 하지만 기계식으로 커패시턴스를 가변하기 때문에 공정시간의 상당부분을 정합시간에 소모하게 된다. 따라서 최근에 정합시간을 줄이기 위해 전력전자 기술을 사용하여 전기적으로 커패시턴스를 가변하는 가변 커패시터 (Electrical Variable Capacitor, 이하 EVC)가 개발되고 있다. 그러나 EVC는 부피가 크고 커패시턴스의 해상도가 적다는 문제를 갖는다. 그러므로 본 논문에서는 VVC와 EVC의 장점을 결합하여 새로운 구조의 가변 커패시터인 하이브리드 가변 커패시터 (Hybrid Variable Capacitor, 이하 HVC)를 제안한다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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