Magnesium oxide is thermodynamically very stable, has a low dielectric constant and a low refractive index, and has been widely used as substrate for growing various thin film materials, particulary oxides of the perovskite structure. There has been a considerable interest in integrating the physical properties of these oxides with semiconductor materials such as GaAs and Si. In this regard, it is considered very important to be able to grow MgO buffer layers epitaxially on the semiconductors. Various oxide films can then be grown on such buffer layers eliminating the need for using MgO single crystal substrates. Vapor phase epitaxy of magnesium oxide has been accomplished on Si(001) substrates in a high vacuum chamber using the single precursor methylmagnesium tert-butoxide in the temperature range 750-80$0^{\circ}C$. For the epitaxy of the MgO films, SiC buffer layers had to be grown on Si(001). The films were characterized by reflection high energy electron diffraction (RHEED) in situ in the growth chamber, and x-ray diffraction (XRD), x-ray pole figure analysis, scanning electron microscopy (SEM), and x-ray photoelectron spectroscopy (XPS) after the growth.
MgO thin films were deposited on soda lime glass substrates by rf magnetron sputtering using a MgO target at various oxygen flow ratios in order to probe the relationship between MgO film properties and discharge characteristics. MgO films have a tendency to form microstructures with a preferred growth orientation of (200) with increasing oxygen flo ration up to 0.1 $O_2$/(Ar+$O_2$). MgO film obtained at 0.1[$O_2$/(Ar+$O_2$)] was found to be fully stoichiometric. The stoichiometric MgO film was observed to have relatively very clean surface and grains of large size and contain almost no hydroxyl group. The AC PDP with fully stoichiometric MgO film showed lower firing and sustain voltages than those with magnesium-rich or oxygen-rich MgO films, being largely attributed to the larger grain size and the minimized hydroxyl group.
Magnesium oxide has become focus for research activities due to its use in magnetic tunnel junctions and for understanding of do ferromagnetism. Theoretical investigations on such type of system indicate that the presence of defects greater than a threshold value is responsible for the magnetic behaviour. It has also been shown experimentally that by decreasing the film thickness and size of nanoparticles, enhancement/increase in magnetization can be achieved. Apart from the change in dimension, swift heavy ions (SHI) are well known for creating defects and modifying the properties of the materials. In the present work, we have studied the irradiation induced effects in magnesium oxide thin film deposited on quartz substrate via X-ray absorption spectroscopy (XAS). Magnesium oxide thin films of thickness 50nm were deposited on quartz substrate by using e-beam evaporation method. These films were irradiated by 200 MeV Ag15+ ion beam at fluence of $1{\times}10^{11}$, $5{\times}10^{11}$, $1{\times}10^{12}$, $3{\times}10^{12}$ and $5{\times}10^{12}ions/cm^2$ at Nuclear Science Centre, IUAC, New Delhi (India). The grain size was observed (as studied by AFM) to be decreased from 37 nm (pristine film) to 23 nm ($1{\times}10^{12}ions/cm^2$) and thereafter it increases upto a fluence of $5{\times}10^{12}ions/cm^2$. The electronic structure of the system has been investigated by X-ray absorption spectroscopy (XAS) measurements performed at the high energy spherical grating monochromator 20A1 XAS (HSGM) beamline in the National Synchrotron Radiation Research Center (NSRRC), Taiwan. Oxides of light elements like MgO/ZnO possess many unique physical properties with potentials for novel application in various fields. These irradiated thin films are also studied with different polarization (left and right circularly polarized) of incident x-ray beam at 05B3 EPU- Soft x-ray scattering beamline of NSRRC. The detailed analysis of observed results in the wake of existing theories is discussed.
Thin films of magnesium oxide(MgO) were deposited on glass substrates by RF magnetron sputtering method. The characteristics of MgO thin films were analyzed as a function of various deposition conditions such as substrate temperature, substrate self-bias, input power and pressure. As the substrate temperature and bias voltage were increased, the grain size of MgO thin film increased. XRD peaks of (111) and (222) direction became dominant, as the substrate bias voltage increases and temperature decreases.
(100-x)Zn xMg alloy films are prepared onto cold-rolled steel substrates; where x ranged from 0 to about 38 atomic %. The alloy films show microcrystalline and grain structures respectively, according to preparation conditions such as composition ratio of zinc and magnesium or gas pressures etc.. And X-ray diffraction analysis indicates not only the presence of Zn-Mg thin films with forced solid solution but also the one of $MgZn_2$ alloy films partly. In addition the influence of Mg/Zn composition ratio and morphology of the Zn-Mg alloy films on corrosion behavior is evaluated by electro-chemical anodic polarization tests in deaerated 3% NaCl solution. From this experimental results, all the prepared Zn-Mg alloy films showed obviously good corrosion resistance to compare with 99.99% Zn and 99.99% Mg Ingots for evaporation metal. It is thought that the Zn-Mg films with effective forced solid solution prepared by plasma enhanced PVD method, produces smaller and denser grain structure so that may improve the formation of homogeneous passive layer in corrosion environment.
Magnesium thin films were prepared on cold-rolled steel substrates by RF(Radio Frequency) magnetron sputtering technique.$^{1)}$ The crystal orientation and monitoring of the deposited films were investigated by using XRD(X-ray Diffraction) and EIS(Electrochemical Impedance Spectroscopy), respectively. The corrosion rates of Mg thin films deposited with different argon gas pressure and substrate bias voltage were monitored by AC impedance method under a cyclic wet-dry condition, which was conducted by exposure to alternate conditions of 1h immersion in 3%NaCl solution and 5h drying at 60% RH and 25$^{\circ}C$. The result of corrosion rate of Mg thin films deposited at various Ar gas pressures and substrate bias voltage under wet-dry cyclic exposure in chloride-containing solutions was showed the following conclusions. At the region I during the onset of the wet cycle, corrosion rate showed relatively low value. The increase in the Corrosion rate of region II is due to the increase in the chloride concentration. Corrosion rate of region III during the onset of the cycle zero and salt crystals remain on the metal surface.$^{2)}$
The films formed on AZ31B magnesium alloy were prepared from alkaline solution composed of potassium permanganate and sodium hydroxide. The immersion tests were carried out at the different concentration of sodium hydroxide and pre-treatment method in 5 minute. The morphology and the phase composition of the film were characterized by scanning electron microscopy (SEM) and X-ray diffraction (XRD). The corrosion behavior of the film in 5.0% NaCl solution was evaluated using potentiodyanmic polarization. Open circuit potential in developing film was examined with time. The thin and transparent film was mainly composed of MgO and $Mg(OH)_2$. The film with the best corrosion resistance was obtained at $70^{\circ}C$ bath temperature, 1.6 M concentration of sodium hydroxide and chemical pre-treatment.
The passivation of AZ91D Mg alloys through plasma anodization depends on several process parameters, such as power mode and electrolyte composition. In this work, we study the dependence of the thickness, composition, pore formation, surface roughness, and corrosion resistance of formed films on the electrolyte temperature at which anodization is performed. The higher the electrolyte temperature, the lower is the surface roughness, the smaller is the oxide thickness, and the better is the corrosion resistance. More specifically, as the electrolyte temperature increases from 10 to $50^{\circ}C$, the surface roughness (Ra) decreases from 0.7 to $0.15{\mu}m$ and the corrosion resistance increases from 3.5 to 9 in terms of rating number in a salt spray test. The temperature increase from 10 to $50^{\circ}C$ also causes an increase in magnesium content in the film from 25 to 63 wt% and a decrease in oxygen from 66 to 21 wt%, indicating dehydration of the film.
In this work, a CPW resonator was designed and fabricated to investigate the basic microwave properties, such as effective dielectric constant, of BST thin films. Their properties were used as basic data to simulate and design CPW tunable bandpass filter. We also report on gold/$Ba_{0.5}Sr_{0.5}TiO_3$(BST) ferroelectric thin film C-band tunable bandpass filters(BPFs) designed and fabricated on magnesium oxide substrates using CPW structure. The 2 pole filter was designed for a center frequency of 5.88 GHz with a bandwidth of 9 %. The BST based CPW filter offers a high sensitivity parameter as well as a low loss parameter. The tuning range for the bandpass filter with CPW structure was determined to be 170 MHz.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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