• 제목/요약/키워드: M-ICP

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Silylation Photo resist 공정과 Enhanced-Inductively Coupled Plasma (E-ICP) (The Silylation Photo Resist Process and the Enhanced-Inductively Coupled Plasma (E-ICP))

  • 정재성;박세근;오범환
    • 대한전자공학회:학술대회논문집
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    • 대한전자공학회 1999년도 하계종합학술대회 논문집
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    • pp.922-925
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    • 1999
  • The Silylation photo-resist etch process was tested by Enhanced-ICP dry etcher. The comparison of the two process results of micro pattern etching with 0.25${\mu}{\textrm}{m}$ CD by E-ICP and ICP reveals that E-ICP has better quality than ICP The etch rate and the microloading effect was improved in E-ICP Especially, the problem of the lateral etch was improved in E-ICP.

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Newly Designed Ion Beam Etcher with High Etch Rate

  • Cheong, Hee-Woon
    • Journal of Magnetics
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    • 제20권4호
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    • pp.366-370
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    • 2015
  • New ion beam etcher (IBE) using a magnetized inductively coupled plasma (M-ICP) has been developed. The magnetic flux density distributions inside the upper chamber, where the plasma is generated by inductive coupling, were successfully optimized by arranging a pair of circular coils very carefully. More importantly, the proposed M-ICP IBE exhibits higher etch rate than ICP.

ICP와 헬리콘 플라즈마를 이용한 대면적 고밀도 플라즈마 소스 개발

  • 이진원;안상혁;유대호;장홍영
    • 한국진공학회:학술대회논문집
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    • 한국진공학회 2011년도 제41회 하계 정기 학술대회 초록집
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    • pp.340-340
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    • 2011
  • 플라즈마 공정에서의 생산률이 플라즈마의 밀도에 비례한다는 많은 연구가 이루어진 후, 초대면적 고밀도 플라즈마 소스의 개발은 플라즈마 소스 개발에서 중요한 부분을 차지하기 시작하였다. 이로 인해, 전자 공명 플라즈마, 유도 결합 플라즈마와 헬리콘 플라즈마 등 새로운 고밀도 플라즈마 개발 연구가 활발히 진행되고 있다. 최근에는 고밀도 플라즈마 개발과 더불어, 대면적 플라즈마 소스의 개발이 플라즈마 공정 기술의 중요한 이슈가 되고 있는데, 이는 450 mm 이상의 반도체, 2 m${\times}$2 m 이상의 8세대 평판 디스플레이와 1 m${\times}$1 m 태양광 전지 생산 공정에서 플라즈마의 기술이 요구되고 있기 때문이다. 대면적 공정영역의 이러한 경향은 균일한 대면적 고밀도 플라즈마 개발을 촉진시켜왔다. 밀도가 낮은 축전 결합 플라즈마를 제외한, 대면적 공정에 적합한 고밀도 플라즈마원으로 유도 결합 플라즈마와 헬리콘 플라즈마를 선택한 후, 병렬연결 시의 특성을 알기 위하여 ICP와 헬리콘의 단일 튜브와 다수 튜브의 플라즈마 내부, 외부 변수를 측정하여 조사하였다. 두 가지 플라즈마 소스의 비교 실험을 위하여, 자기장을 제외한 모든 조건을 동등하게 한 후 실험을 하였다. 단일 헬리콘 실험을 바탕으로, 대면적 실험에 가장 적합한 자기장의 세기, 자석의 위치 및 튜브의 치수를 정한 후, fractal 구조를 위한 16개 다수 방전을 ICP와 헬리콘을 비교하였다. 병렬연결 시, RF 플라즈마에서는 같은 전압을 가져도, 안테나 디자인을 고려하지 않으면 모든 튜브의 방전이 이루어 지지 않았다. 이를 컴퓨터 모의 전사를 통해 확인하고, 가장 최적화된 안테나를 설계하여 실험을 하였다. ICP에서는 모든 튜브가 방전에 성공한 반면, 헬리콘 플라즈마는 ICP에 10배에 달하는 높은 밀도를 냈으나, 오직 4개 튜브만이 켜지고 안정적으로 방전이 이루어 지지 않았다. ICP의 경우, RF 전송선의 디자인을 통해 파워의 균등 분배가 가능하지만, 헬리콘의 경우 자기장을 추가해서 고려해야 되는 것을 확인하였다. 모든 튜브에 비슷한 자기장을 형성하기 위해서는 자석의 크기가 커지는 문제점이 있으나, 매우 낮은 압력에서 방전이 가능하고, 같은 압력에서 ICP에 비해 10배 이상 달하는 장점이 있다. 실험 결과를 바탕으로, ICP와 헬리콘 플라즈마의 다수 방전에 대한 분류를 하였고, 바로 현장에 투입이 가능한 소스로 판단된다.

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침전법과 ICP-AES법에 의한 철강 시료 중 Boron의 분석 (Determination of Boron in Steels by Precipitation Method and ICP-AES)

  • 임헌성;이석근
    • 분석과학
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    • 제15권2호
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    • pp.180-183
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    • 2002
  • The new useful method for the direct determination of trace boron in iron matrix was studied by applying the precipitation of $Fe(OH)_3$ and ICP-AES. Optimum pH range was 11 ~ 12.5. Linear concentration range of boron was $0.01{\sim}1.0{\mu}g/m{\ell}$ in $5000 {\mu}g/m{\ell}$ solution as iron.

Enhanced-Inductively Coupled Plasma (E-ICP)를 이용한 Silylated photoresist 식각공정개발 (The Development of Silylated Photoresist Etch Process by Enhanced- Inductively Coupled Plasma)

  • 조수범;김진우;정재성;오범환;박세근;이종근
    • 한국전기전자재료학회논문지
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    • 제15권3호
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    • pp.227-232
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    • 2002
  • The silylated photoresist etch process was tested by enhanced-ICP. The comparison of the two process results of micro pattern etching with $0.35\mu\textrm{m}$ CD by E-ICP and ICP reveals that I-ICP has bettor quality than ICP. The etch rate and the RIE lag effect was improved in E-ICP. Especially, the problem of the lateral etch was improved in E-ICP.

Magnetic Flux Density Distributions and Discharge Characteristics of a Newly Designed Magnetized Inductively Coupled Plasma

  • Cheong, Hee-Woon
    • Journal of Magnetics
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    • 제20권4호
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    • pp.360-365
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    • 2015
  • Spatial distributions of magnetic flux density in a newly designed magnetized inductively coupled plasma (M-ICP) etcher were investigated. Radial and axial magnetic flux densities as well as the magnetic flux density on the center of the substrate holder were controllable by placing multiple circular coils around the etcher properly. The plasma density non-uniformity in M-ICP (25 Gauss) can be reduced (1.4%) compared to that in ICP (16.7%) when the neutral gas pressure was 0.67 Pa and a right-hand circularly polarized wave (R-wave) can be propagated in to the etcher by making magnetic flux density increases both radially and axially from the center of the substrate holder.

ICP를 이용한 불화 유기 박막의 특성 평가 (Characteristics of ICP Fluorocarbon Thin Films)

  • 차남구;박진구
    • 한국재료학회:학술대회논문집
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    • 한국재료학회 2003년도 추계학술발표강연 및 논문개요집
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    • pp.72-72
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    • 2003
  • 반점착막으로 활용되고 있는 불화유기박막의 형성을 ICP를 이용하여 나노미터로 성장시키고 이를 기계적/화학적 관점에서 특성평가를 수행했다. 증착된 불차유기 박막은 알루미늄 시편위에서 110도 근처를 나타냈으며 30도 근처의 낮은 히스테리시스를 보이는 안정한 박막이 형성되었다. 극성과 비극성 용액을 사용하여 표면에너지를 검사한 결과 약 20 mN/m 이하의 낮은 표면에너지를 얻을 수 있었다. AFM을 이용한 실험결과 표면의 점착력이 약 4nN으로 매우 낮은 점착력을 가짐을 확인 할 수 있었다. FTIR 실험결과 표면에 CF$_2$ 와 같은 불화유기 그룹이 발견되었다.

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점군데이터 정합 방법에 따른 정확도 평가 (Accuracy Evaluation by Point Cloud Data Registration Method)

  • 박준규;엄대용
    • 한국측량학회지
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    • 제38권1호
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    • pp.35-41
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    • 2020
  • 3D 레이저 스캐너는 대상물에 대한 많은 양의 데이터를 빠른 시간 내에 취득할 수 있는 효과적인 방법으로 최근 측량, 변위측정, 대상물의 3차원 데이터 생성, 실내공간정보 구축, BIM (Building Information Model) 등 다양한 분야에 활용되고 있다. 3D 레이저 스캐너를 통해 취득되는 점군데이터의 활용을 위해서는 정합과정을 거쳐 많은 측점에서 취득한 데이터를 통일된 좌표체계를 가진 하나의 데이터로 만드는 과정이 필요하다. 따라서 정합 방법에 따른 점군데이터의 정확도에 대한 분석적 연구가 필요하다 이에 본 연구에서는 3D 레이저 스캐너를 통해 취득되는 점군데이터의 정합방법에 따른 정확도를 분석하고자 하였다. 3D 레이저 스캐너를 통해 연구대상지의 점군데이터를 취득하고, 자료처리를 통해 ICP (Iterative Closest Point) 와 형상정합 방법에 의해 점군데이터를 정합하였으며, 토털스테이션 측량성과와 비교하여 정확도를 분석하였다. 정확도 평가 결과 ICP와 형상정합 방법은 각각 토털스테이션 성과와 0.002~0.005m, 0.002~0.009m의 차이를 나타내었다. 각각의 정합 방법은 실험결과 모두 0.01m 미만의 편차를 나타내어 1:1,000 수치지형도의 허용정확도를 만족하였으며, ICP 및 형상정합을 이용한 점군데이터의 정합이 공간정보 구축에 충분히 활용 가능함을 제시하였다. 향후 형상정합 방법에 의한 점군데이터의 정합은 3D 레이저 스캐너를 활용한 공간정보 구축 과정에서 타겟의 설치를 줄임으로써 생산성 향상에 기여할 것이다.

플라즈마 식각을 이용한 초전도 자속 흐름 트랜지스터 제작 (Fabrication of Superconducting Flux Flow Transistor using Plasma etching)

  • 강형곤;임성훈;고석철;한윤봉;한병성
    • 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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    • 한국전기전자재료학회 2002년도 하계학술대회 논문집
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    • pp.74-77
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    • 2002
  • The channel of the superconducting Flux Flow Transistor has been fabricated with plasma etching method using ICP. The ICP conditions were 700 W of ICP power, 150 W of rf chuck power, 5 mTorr of the pressure in chamber and 1:1 of Ar : Cl$_2$, respectively. The channel etched by plasma gas showed superconducting characteristics of over 77 K and superior surface morphology. The critical current of SFFT was altered by varying the external applied current. As the external applied current increased from 0 to 12 mA, the critical current decreased from 28 to 22 mA. Then the obtained r$\sub$m/ values were smaller than 0.1Ω at a bias current of 40 mA. The current gain was about 0.5. Output resistance was below 0.2 Ω.

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시판 인스턴트 커피에서 추출한 다당류의 화학적 특성 및 면역활성 (Chemical Characteristics and Immunostimulating Activity of Crude Polysaccharide Isolated from Commercial Instant Coffee)

  • 곽봉신;신광순
    • 한국식품과학회지
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    • 제48권3호
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    • pp.289-295
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    • 2016
  • 국내 시판중인 인스턴트 커피에서 다당류를 추출하여 새로운 면역 활성 물질을 확인하고자 하였다. 시판중인 인스턴트 커피를 구입하여 냉수추출 후, 에탄올 침전과 투석을 통하여 약 24%의 높은 수율로 다당류(ICP-0)를 얻을 수 있었다. ICP-0은 중성당 89.9%, 산성당 10.1%로 이루어진 다당체로써, 구성 성분으로는 갈락토스 55.5%, 만노스 25.7%와 소량의 아라비노스, 람노스 등으로 이루어진 것을 확인하였으며, 갈락토만난(galactomannan)이나 팩틴 다당류(pectic polysaccharide)가 혼합된 구조일 것이라고 추정되었다. 인스턴트 커피 유래 ICP-0에 대하여 대식세포 자극에 대한 세포증식능을 확인한 결과, NC 대비 유의적으로 높은 증식활성을 보였으며, IL-6, IL-12 및 TNF-${\alpha}$의 경우, $10{\mu}g/mL$에서도 NC 대비 우수한 사이토카인 분비 유도능을 보임이 확인되었다. 또한 NO, ROS를 분석한 결과에서도 NO의 경우 $10{\mu}g/mL$ 이상에서 NC 대비 양호한 활성을 보여 주었다. ICP-0에 대하여 2차 면역기관 중 하나인 비장세포상의 증식능을 확인한 결과, NC 대비 115% 정도 증식하는 것이 확인되어 면역세포를 직접 증진시키는 마이토겐 활성이 있음을 나타내었다. 인스턴트 커피 유래 ICP-0가 장관 내 분포되어 있는 Peyer's patch를 경유하여 장관면역에 공헌할 수 있는지 여부를 확인한 결과, NC 대비 유의적으로 골수세포의 증식능을 확인하였으며 GM-CSF와 같은 관련 사이토카인의 분비 유도가 확인되었다. 이상의 결과는 시판 인스턴트 커피로부터 분리한 다당류가 대식세포의 기능과 장관면역계를 증진시킬 수 있는 가능성을 제시한다.