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선형가열기를 이용한 SillSiO2/Si3N4llSi 이종기판쌍의 직접접합 (Direct Bonding of SillSiO2/Si3N4llSi Wafer Fairs with a Fast Linear Annealing)

  • 이상현;이상돈;송오성
    • 한국전기전자재료학회논문지
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    • 제15권4호
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    • pp.301-307
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    • 2002
  • Direct bonded SOI wafer pairs with $Si ll SiO_2/Si_3N_4 ll Si$ the heterogeneous insulating layers of SiO$_2$-Si$_3$N$_4$are able to apply to the micropumps and MEMS applications. Direct bonding should be executed at low temperature to avoid the warpage of the wafer pairs and inter-diffusion of materials at the interface. 10 cm diameter 2000 ${\AA}-SiO_2/Si(100}$ and 560 $\AA$- ${\AA}-Si_3N_4/Si(100}$ wafers were prepared, and wet cleaned to activate the surface as hydrophilic and hydrophobic states, respectively. Cleaned wafers were pre- mated with facing the mirror planes by a specially designed aligner in class-100 clean room immediately. We employed a heat treatment equipment so called fast linear annealing(FLA) with a halogen lamp to enhance the bonding of pre mated wafers We kept the scan velocity of 0.08 mm/sec, which implied bonding process time of 125 sec/wafer pairs, by varying the heat input at the range of 320~550 W. We measured the bonding area by using the infrared camera and the bonding strength by the razor blade clack opening method, respective1y. It was confirmed that the bonding area was between 80% and to 95% as FLA heat input increased. The bonding strength became the equal of $1000^{\circ}C$ heat treated $Si ll SiO_2/Si_3N_4 ll Si$ pair by an electric furnace. Bonding strength increased to 2500 mJ/$\textrm{m}^2$as heat input increased, which is identical value of annealing at $1000^{\circ}C$-2 hr with an electric furnace. Our results implies that we obtained the enough bonding strength using the FLA, in less process time of 125 seconds and at lowed annealing temperature of $400^{\circ}C$, comparing with the conventional electric furnace annealing.

SiTEC의 STiLL관련 음성 코퍼스의 구축 현황 (Creation of Speech Corpora for STiLL at SiTEC)

  • 김영일;김봉완;최대림;이광현;정은순;이용주
    • 대한음성학회:학술대회논문집
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    • 대한음성학회 2005년도 추계 학술대회 발표논문집
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    • pp.13-16
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    • 2005
  • As language learning that utilizes speech and information processing technology is getting popular. Speech Information Technology & Promotion Center(SiTEC) has created and is distributing speech corpora for STiLL in order to support basic research and development of products. We will introduce the corpus for Korean and those for English which we have created and are distributing.

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${\ll}$천금요방(千金要方)${\gg}$${\ll}$천금익방(千金翼方)${\gg}$ 에 기재(記載)된 부인과학설(婦人科學說)에 관(關)한 연구(硏究) (A Study of Gynecology Theory in Qian-Jin-Yao-Fang and Qian-Jin-Yi-Fang)

  • 김은하;김기욱;박현국;이병욱
    • 대한한방부인과학회지
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    • 제15권4호
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    • pp.98-110
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    • 2002
  • $Sun{\sim}Si{\sim}Miao$(孫思邈) is known to everybody as a great medical doctor. He has written two famus books. Those are the $Qian{\sim}Jin{\sim}Yao{\sim}Fang$(${\ll}$千金要方${\gg}$) and the $Qian{\sim}Jin{\sim}Yi{\sim}Fang$(${\ll}$千金翼方${\gg}$). He said that woman's disease differ from man's disease, we must care of woman carefully. And he has written seven parts of the books on gynecology. He has introduced reason of woman' disease and method of medical treatment variously. Also he has introduced a method of making cosmetics and beauty treatment. So We summarized pediatrics theory in two books and decomposed reason of disease and method of medical treatment. Also I compared with $Xiao{\sim}Pin{\sim}Fang$(${\ll}$小品方${\gg}$) In conclusion, I have known that $Sun{\sim}Si{\sim}Miao's$ gynecology is consist of useful and various substance.

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C49 $TiSi_2$상의 에피구조 및 상안정성 (Phase stability and epitaxy of C49 $TiSi_2$ on Si(111))

  • 전형탁
    • 한국재료학회지
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    • 제4권2호
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    • pp.136-142
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    • 1994
  • 초청장 Si(111)기탄상에 초고진공 챔버에서 Ti을 증착하여 $TiSi_{2}$를 에피층으로 성장시켰다. 재구성된 (reconstructed) Di(111)표면에 상온에서 50$\AA$ 두께의 Ti을 증착한 후 $100^{\circ}C$간격으로 $800^{\circ}C$까지 열처리 하였다. $TiSi_{2}$박막의 구조는 전자회절 패턴 분석을 통하여 준안정상인 C49상임을 확인하였다. SEM 사진은 세가지 형태의 island를 보이고 있다. 각 island 는 단결정이며 그 구조는 서로 다른 결정학적 방향을 갖는 에피구조이다. 이러한 TiSi$_{2}$ island[112]C49 TiSi$_{2}$/[110]Si, (021) C49 $TiSi_{2}$/(111)Si의 방향관계를 가지고 있다.

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레이저 유도 원자층 도핑(Ll-ALD)법으로 성장시킨 SiGe 소스/드레인 얕은 접합 형성 (Ultra-shallow Junction with Elevated SiCe Source/ Drain fabricated by Laser Induced Atomic Layer Doping)

  • 장원수;정은식;배지철;이용재
    • 대한전자공학회:학술대회논문집
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    • 대한전자공학회 2002년도 하계종합학술대회 논문집(2)
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    • pp.29-32
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    • 2002
  • This paper describes a novel structure of NMOSFET with elevated SiGe source/drain region and ultra-shallow source/drain extension(SDE)region. A new ultra-shallow junction formation technology. Which is based on damage-free process for rcplacing of low energy ion implantation, is realized using ultra-high vacuum chemical vapor deposition(UHVCVD) and excimer laser annealing(ELA).

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Rheed 반점강도의 변화를 이용한 Si(111)-Ad 표면조사 (The study of Si(111)Au surface by variation of RHEED spot intensity)

  • 곽호원;이의완;이상윤
    • 한국재료학회지
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    • 제4권6호
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    • pp.638-643
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    • 1994
  • Si(111)표면위에 Au의 증착량과 기판온도에 따른 표면구조의 변화를 RHEED(Reflection High Energy Electron Diffraction)상(pattern)과 RHEED상의 회절반점(spot)강도변화를 이용하여 조사하였다. Si(111) $7\times7$구조를 Au 를 0.1ML-0.4ML증착후에 기판을 $350^{\circ}C$-$750^{\circ}C$로 수초간 가열하면 $7\times7$구조에서 $7\times7$ + $5\times2$의 혼합 구조로 변화하였으며 증착량 0.4ML-1.0ML에서는 RHEED상이 기판온도와 증착량에 따라 $5\times2,\alpha- \sqrt{3} \times \sqrt{3},\beta- \sqrt{3} \times \sqrt{3}$의 구조들이 관찰되었다. $6\times6$구조는 기판온도 $270^{\circ}C$-$370^{\circ}C$에서 증착량 0.8ML에서부터 형성되기 시작하여 1ML에서 완성되었다. AES(Auger Electron Spectroscopy)를 이용한 $\alpha- \sqrt{3} \times \sqrt{3},5 \times 2$구조에서의 Au원자의 이탈과정 조사에서 이탈 에너지는 각각 79kcal/mol, 82kcal/mol로 조사되었다.

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Micrococcus sp. LL3가 생성하는 intracellular aminopeptidase의 특성 및 정제 (Purification and partial characteristics of intracellular aminopeptidase from micrococcus sp. LL3)

  • 이시경;주현규
    • Applied Biological Chemistry
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    • 제36권6호
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    • pp.539-546
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    • 1993
  • 본 연구에서는 Cheddar 치즈의 숙성기간을 단축시키고 flavor를 증진시키기 위하여 Micrococcus sp. LL3를 치즈 제조시에 첨가할 목적으로 본 균주가 생성하는 aminopeptidase의 특성을 조사하였으며, 또한 본 효소를 정제하였다. L-Leucine-p-nitroanilide를 기질로 사용 하였을 때 본 효소의 최적온도와 pH는 각각 $30^{\circ}C$ 및 7.0이었다. 본 효소는 $50^{\circ}C$까지의 온도에서 10분간 방치하였을 경우에도 안정하였다. $Mg^{++}$ ion에 의해 본 효소의 활성이 촉진되었으나 $Hg^{++}$ ion과 EDTA나 1,10-phenanthroline에 의해서 효소활성이 거의 실활되어 metallopeptidase인 것으로 추정되었다. 본 효소의 기실 특이성은 광범위 하였으나, N-terminal amino acid로서 arginine을 함유한 peptide는 분해하지 못했다. 본 균주가 생성하는 aminopeptidase의 정제를 위하여 DEAE-Sephacel ion chromatography및 gel filtration을 실시하였으며, 이때 분자량 46,500의 효소를 얻을 수 있었다.

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고려시대(高麗時代) 간행(刊行)의 불경판화(佛經版畵) 연구(硏究) (A Study on the Buddhist scripture published in the Goryeo Dynasty)

  • 석혜영
    • 한국도서관정보학회지
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    • 제49권4호
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    • pp.373-404
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    • 2018
  • 본 연구는 고려시대 제작된 불교 경전에 포함된 판화와 관련된 개괄적인 현황을 살펴보기 위함이다. 고려시대 간행된 판화본 중 해인사 소장 대장경에 포함된 것은 ${\ll}$화엄경(華嚴經)${\gg}$ 주본(周本) 80점(5점 중복), 진본(晉本) 12점을 비롯하여 ${\ll}$예수경(豫修經)${\gg}$ 3종 44점과 송광사에 ${\ll}$천태은사한산습득시집(天台隱士寒山拾得詩集)${\gg}$의 판화 1점이 현전한다. 또한 초조대장경 중 현재 일본 남선사에는 소장된 ${\ll}$어제비장전(御製秘藏詮)${\gg}$ 권1-10까지에는 50개의 판화가 현전하며, 이것은 권11-20까지 중복해서 사용 되었으며, 권21에는 불전도(佛傳圖) 형식의 판화가 3점 포함되어 있다. 이 외에 본고에 다룬 고려시대 간행된 불경 판화는 12종 19점으로, 중국에서 유입된 불경 판화의 모티브를 차용하면서도 고려인들만의 관점에서 재해석하여 독창적인 도상을 만들어 내었다는 점과, 특히 조선 초기 제작된 다양한 불경 판화의 원형을 제공해주고 있어 그 시원을 가늠할 수 있게 해준다는 점에서도 중요한 의미를 지닌다.

열처리에 따른 W 박막과 6H-SiC의 계면반응에 관한 연구 (Interfacial Reactions between W Thin Film and 6H-SiC during Heat Treatments)

  • 신양수;이병택
    • 한국재료학회지
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    • 제8권6호
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    • pp.545-550
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    • 1998
  • 6H-SiC와 W의 계면에서 열처리에 따라 일어나는 반응을 X-선 회절분석 및 투과전자현미경을 이용하여 분석하였다. 연구결과 $900^{\circ}C$까지 새로운 상의 형성은 없었고, $1100^{\circ}C$$1300^{\circ}C$에서 $W_5Si_3$$W_2C$가 형성되어 서로 혼재되어 있으며 반응하지 않은 W은 없음을 관찰하였다. 이는 이미 보고된 W/$\beta$-SiC의 경우와 일치하는 결과로서 이 온도영역에서 $W_5Si_3$$W_2C$가 안정상임을 시사하고 있다.

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《서방자명당구경(西方子明堂灸經)》에 관(關)한 연구(硏究) (A Study on 《XiFangZiMingTangJiuJing(西方子明堂灸經)》)

  • 김재철;김기욱;박현국;황민섭;윤종화;김갑성
    • Journal of Acupuncture Research
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    • 제20권6호
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    • pp.103-119
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    • 2003
  • Below are the reports arranged from the research of ${\ll}$XiFangZiMingTangJiuJing(西方子明堂灸經)${\gg}$, which appears in the research of the main issue. ${\ll}$XiFangZiMingTangJiuJing${\gg}$ was written during the Nan-song period, approximately between 1142~1194, and was probably completed between 1142~1148. This book is the very first book specific on the moxibustion theory which exists these days and also thoroughly contains the moxibustion theory. So it contains many documents of the moxibustion theory which are missing these days. Also it's possible that the illustration presented in this book followed ${\ll}$MingTangJing(明堂經)${\gg}$ of SunSiMiao(孫思邈). The way of arranging the GuiJing(歸經) of YuZue(兪穴) and deciding the location of acupuncturing(穴位) differs from reports given by other documents. As seen above, ${\ll}$XiFangZiMingTangJiuJing${\gg}$ has a consulting value on the moxibustion theroy(灸法), both in clinic and the research of documents. So we are looking forward that there would be a more profound research continuing in the future.

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