• 공업화학
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• 제8권3호
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• pp.389-394
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• 1997

경각형 결정화에 의하여 벤젠-사이클로헥산 혼합물로부터 벤젠의 결정화에서 결정에 내포된 불순물(사이클로헥산)의 분포가 조사되었다. 결정의 순도에 미치는 결정성장속도의 영향을 파악하였으며 모든 실험결과는 Wintermantel 모델에 의해 도시될 수 있었다. 결정의 순도는 과냉각 정도가 클수록, 주입조성이 낮을 수록, 결정성장속도가 클 수록 낮았으며 결정성장속도는 불순물의 내포를 지배하는 가장 중요한 변수이다. 결정화 초기에 형성된 결정은 불순물을 많이 내포하고 있으며 결정의 두께가 증가함에 따라 불순물은 잔여용융액쪽으로 이동되어 배제됨을 알 수 있었다. 경막결정화에서 결정에 내포된 불순물은 일정두께의 결정층에 온도구배를 이용하여 결정을 부분용해시키면 불순물의 확산에 의하여 제거될 수 있음을 알 수 있었다.

• 폴리머
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• 제36권4호
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• pp.461-469
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• 2012

아르곤(Ar) 플라즈마 처리된 폴리프로필렌 복합소재의 표면 개질 및 특성 변화를 X-선 광전자 분광 분석(XPS), 적외선 분광 분석(FTIR), 주사 전자 현미경 분석(SEM) 및 접촉각 측정 등을 이용하여 조사하였다. Ar 플라즈마 처리 시간의 증가는 폴리프로필렌 복합소재 표면의 젖음성, 극성 관능기를 갖는 산소 성분, 탈크 함량 및 표면조도의 증가를 초래하였다. 주사 전자 현미경 분석을 통한 자세한 관찰은 폴리프로필렌 성분으로 구성된 표면층(skin layer)이 존재함을 확인하였다. 폴리프로필렌과 고무 입자간의 점도차는 표면층의 생성을 촉진시켰다. 하지만 Ar 플라즈마 처리시간의 증가는 표면층의 두께를 감소시키는 것을 확인하였다. 사출성형 공정 동안, 표면층을 제거할 수 있는 추가적인 방법론에 대해서도 토의하였다. Ar 플라즈마 처리에 의한 표면 개질 및 모폴로지의 변화는 폴리프로필렌 복합소재 표면 상에 친수화 상태를 부여하고, 이에 따라 젖음성 향상을 유도하였다.

• Restorative Dentistry and Endodontics
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• 제49권2호
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• pp.12.1-12.10
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• 2024

Objectives: This study evaluated the impact of different methods of irrigant agitation on smear layer removal in the apical third of curved mesial canals of 3 dimensionally (D) printed mandibular molars. Materials and Methods: Sixty 3D-printed mandibular second molars were used, presenting a 70° curvature and a Vertucci type II configuration in the mesial root. A round cavity was cut 2 mm from the apex using a trephine of 2 mm in diameter, 60 bovine dentin disks were made, and a smear layer was formed. The dentin disks had the adaptation checked in the apical third of the teeth with wax. The dentin disks were evaluated in environmental scanning electron microscope before and after the following irrigant agitation methods: G1(PIK Ultrasonic Tip), G2 (Passive Ultrasonic Irrigation with Irrisonic- PUI), G3 (Easy Clean), G4 (HBW Ultrasonic Tip), G5 (Ultramint X Ultrasonic tip), and G6 (conventional irrigation-CI) (n = 10). All groups were irrigated with 2.5% sodium hypochlorite and 17% ethylenediaminetetraacetic acid. Results: All dentin disks were 100% covered by the smear layer before treatment, and all groups significantly reduced the percentage of the smear layer after treatment. After the irrigation protocols, the Ultra-X group showed the lowest coverage percentage, statistically differing from the conventional, PIK, and HBW groups (p < 0.05). There was no significant difference among Ultramint X, PUI-Irrisonic, and Easy Clean (p > 0.05). None of the agitation methods could remove the smear layer altogether. Conclusions: Ultramint X resulted in the most significant number of completely clean specimens.

• 대한환경공학회지
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• 제39권6호
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• pp.318-324
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• 2017

본 연구에서는 생물활성탄 공정에서 geosmin과 MIB의 제거시 생물분해와 흡착기작의 역할을 BAC와 biofilter를 이용하여 평가하였다. 정상상태에 도달한 BAC 공정에서 부착 박테리아들의 활성이 저하된 저수온기($9^{\circ}C$)에도 EBCT 30분의 조건에서는 geosmin과 MIB가 완전 제거되었다. 유입수의 수온이 $26^{\circ}C$일 때가 $9^{\circ}C$일 때보다 상층부분에서 부착 박테리아의 생체량과 활성도가 높았고, 여층의 하부로 갈수록 부착 박테리아의 생체량과 활성도의 감소율이 높게 나타났다. 이는 수온이 높을 때 상층부분에서 BOM 제거율이 높아 하층에 공급할 수 있는 BOM 양이 감소하기 때문이다. 부착 박테리아의 활성이 억제된 BAC 공정의 geosmin과 MIB의 제거율은 활성화된 BAC 공정에서의 제거율과 비교하여 큰 차이를 나타내지 않아 BAC 공정에서 geosmin과 MIB의 제거에 흡착기작의 기여도가 높게 나타났다. BAC 공정에서 geosmin과 MIB의 제거시 부착 박테리아에 의한 생물분해 기작과 활성탄 표면이 가지는 흡착 기작이 경쟁적으로 작용하였다.

• 한국재료학회지
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• 제24권12호
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• pp.682-688
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• 2014

Physical and chemical changes in a polished wafer and in $2.5{\mu}m$ & $4{\mu}m$ epitaxially grown Si layer wafers (Epilayer wafer) after surface treatment were investigated. We characterized the influence of surface treatment on wafer properties such as surface roughness and the chemical composition and bonds. After each surface treatment, the physical change of the wafer surface was evaluated by atomic force microscopy to confirm the surface morphology and roughness. In addition, chemical changes in the wafer surface were studied by X-ray photoemission spectroscopy measurement. Changes in the chemical composition were confirmed before and after the surface treatment. By combined analysis of the physical and chemical changes, we found that diluted hydrofluoric acid treatment is more effective than buffered oxide etching for $SiO_2$ removal in both polished and Epi-Layer wafers; however, the etch rate and the surface roughness in the given treatment are different among the polished $2.5{\mu}m$ and $4{\mu}m$ Epi-layer wafers in spite of the identical bulk structural properties of these wafers. This study therefore suggests that independent surface treatment optimization is required for each wafer type, $2.5{\mu}m$ and $4{\mu}m$, due to the meaningful differences in the initial surface chemical and physical properties.

• 한국분말재료학회지
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• 제24권1호
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• pp.46-52
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• 2017

Fecralloy coating layer with large surface area is suitable for use as a filter media for efficient removal of hot gaseous pollutants exhausted from combustion processes. For uniform preparation of a Fecralloy coating layer with large surface area and strong adhesion to substrate, electrospray coating and thermal treatment processes are experimentally optimized in this study. A nano-colloidal solution with 0.05 wt% Fecralloy nanoparticles is successfully prepared. Optimized electrospraying conditions are experimentally discovered to prepare a uniform coating layer of Fecralloy nano-colloidal solution on a substrate. Drying the electrospray coated Fecralloy nano-colloidal solution layer at $120^{\circ}C$ and subsequent heating at $600^{\circ}C$ are the best post-treatment for enhancing the adhesion force and surface roughness of the Fecralloy coating layer on a substrate. An electrospray coating system, consisting of several multi-groove nozzles, is also experimentally confirmed as a reasonable device for uniform coating of Fecralloy nano-colloid on a large area substrate.

• 멤브레인
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• 제16권3호
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• pp.188-195
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• 2006

본 연구의 목적은 침지형(YEF 750D-2) 모듈을 적용하여 공기유량에 따른 유체 유속과 간헐적인 세정공기의 공급에 의한 오염제거를 평가하는 것이다. 공기유량에 따라 모듈의 유체 유속은 선형적으로 증가하였으며, MLSS의 농도가 1,000 mg/L 증가할 때 마다 $3\times10^{-4}m{\cdot}min/sec{\cdot}L$의 비율로 유체 유속이 감소하였다. 세정공기의 공급이 정지되는 시간에 전여과가 일어나 흡인여과 시간 동안 겔층 위에 케익층이 형성되었다. 20초 정지와 20초 공기공급의 간헐공기주입으로 형성된 케익층이 역세정에 의하여 제거되면서 압력증가율이 가장 낮게 나타났다. 겔층이 제거되는 메커니즘은 세정 공기공급을 교대로 하여 겔층 위에 케익층을 형성시켜 케익층이 제거될 때 겔층이 함께 제거되는 원리로 설명할 수 있다.

• 한국진공학회:학술대회논문집
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• 한국진공학회 2011년도 제40회 동계학술대회 초록집
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• pp.480-480
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• 2011

양극산화(anodization)는 금속을 전기화학적으로 산화시켜 금속산화물로 만드는 기술로서 최근 다양한 크기의 나노 구조를 제조하는 기술로 각광받고 있으며, 이러한 기술에 의하여 얻어지는 anodic aluminum oxide(AAO)는 magnetic data storage, optoelectronic device, sensor에 적용될 수 있는 nano device 뿐만 아니라 nanostructure를 제조하기 위한 template 및 mask로써 최근 광범위 하게 연구되고 있다. 또한, AAO는 Al2O3의 단단한 구조를 가진 무기재료이므로 solid mask로써 다른 porous materials 보다 뛰어난 특성을 갖고 있다. 또한 electron-beam lithography 및 block co-polymer 에 의한 patterning 과 비교하여 매우 경제적이며, 재현성이 우수할 뿐만 아니라 대면적에서 나노 구조의 크기 및 형상제어가 비교적 쉽기 때문에 널리 사용되고 있다. 그러나, AAO 형성 시 생기게 되는 반구형 모양의 barrier layer는 물질(substance)과 기판과의 direct physical and electrical contact을 방해하기 때문에 해결해야 할 가장 큰 문제점 중 하나로 알려져 있다. 따라서 본 연구에서는 실리콘 기판위의 형성된 AAO의 barrier layer를 Cl/BCl3 gas mixture에서 Neutral Beam Etching (NBE)과 Ion Beam Etching (IBE) 로 각각 식각한 후 그 결과와 비교하였다. NBE와 IBE 모두 Cl2/BCl3 gas mixture에서 BCl3 gas의 첨가량이 60% 일 경우 etch rate이 가장 높게 나타났고, optical emission spectroscopy (OES)로 Cl2/BCl3 플라즈마 내의 Cl radical density와 X-ray photoelectron spectroscopy (XPS)로 AAO 표면 위를 관찰한 결과 휘발성 BOxCly의 형성이 AAO 식각에 크게 관여함을 확인 할 수 있었다. 또한, NBE와 IBE 실험한 다양한 Cl2/BCl3 gas mixture ratio 에서 AAO가 식각이 되지만, 이온빔의 경우 나노사이즈의 AAO pore의 charging에 의해 pore 아래쪽의 위치한 barrier layer를 어떤 식각조건에서도 제거하지 못하였다. 하지만, NBE에서는 BCl3-rich Cl2/BCl3 gas mixture인 식각조건에서 AAO pore에 휘발성 BOxCly를 형성하면서 barrier layer를 제거할 수 있었다.

• Restorative Dentistry and Endodontics
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• 제40권3호
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• pp.216-222
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• 2015

Objectives: To evaluate the effects of copolymer of acrylic acid and maleic acid (Poly[AA-co-MA]) and calcium hypochlorite ($Ca(OCl)_2$) on root canal dentin using scanning electron microscope (SEM). Materials and Methods: Twenty-four single-rooted teeth were instrumented and the apical and coronal thirds of each root were removed, leaving the 5 mm middle thirds, which were then separated into two pieces longitudinally. The specimens were randomly divided into six groups and subjected to each irrigant for 5 min as follows: G1, $Ca(OCl)_2$; G2, Poly(AA-co-MA); G3, $Ca(OCl)_2$ + Poly(AA-co-MA); G4, sodium hypochlorite (NaOCl); G5, ethylenediaminetetraacetic acid (EDTA); G6, NaOCl+EDTA. The specimens were prepared for SEM evaluation. Smear layer, debris and erosion scores were recorded by two blinded examiners. One image from G3 was analyzed with energy dispersive spectroscopy (EDS) on suspicion of precipitate formation. Data were analyzed using the Kruskal-Wallis and Dunn tests. Results: G1 and G4 showed the presence of debris and smear layer and they were statistically different from G2, G3, G5 and G6 where debris and smear layer were totally removed (p < 0.05). In G1 and G4, erosion evaluation could not be done because of debris and smear layer. G2, G3 and G5 showed no erosion, and there was no significant difference between them. G6 showed severe erosion and was statistically different from G2, G3 and G5 (p < 0.05). EDS microanalysis showed the presence of Na, P, and Ca elements on the surface. Conclusions: Poly(AA-co-MA) is effective in removing the smear layer and debris without causing erosion either alone or with $Ca(OCl)_2$.

• 한국세라믹학회지
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• 제49권4호
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• pp.328-332
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• 2012

Etch rates of Si and high purity SiC have been compared for various fluorocarbon plasmas. The relative plasma resistance of SiC, which is defined as the etch rate ratio of Si to SiC, varied between 1.4 and 4.1, showing generally higher plasma resistance of SiC. High resolution X-ray photoelectron analysis revealed that etched SiC has a surface carbon content higher than that of etched Si, resulting in a thicker fluorocarbon polymer layer on the SiC surface. The plasma resistance of SiC was correlated with this thick fluorocarbon polymer layer, which reduced the reaction probability of fluorine-containing species in the plasma with silicon from the SiC substrate. The remnant carbon after the removal of Si as volatile etch products augments the surface carbon, and seems to be the origin of the higher plasma resistance of SiC.