본 논문은 LCD의 백라이트로서 고휘도를 내는 간단한 구조의 평판형광램프를 연구하였다. 평판형광램프는 ITO glass와 절연층, 형광층, 전극층, gas층으로 구성된다. 이 램프의 방전개시전압은 주파수가 증가하면 감소하며 이러한 경향으로는 gas층에서 트립된 Xe과 Ar 양이온에 기인된 공간방전효과의 결과이다. 높은 구동 주파수에서 uniform 전압의 감소는 초기 구동에서 발생된 남아있는 공간전하에 기인한다. 결과로서 Xe gas를 사용한 평판형광램프는 구동전압 700[ $V_{rms}$], 주파수 80[kHz]에서 2700[cd/ $m^2$]의 휘도, 균일도 96[%], 최대 효율은 51[m/W]를 얻었다.다.
최근에 액정을 이용한 대형 디스플레이 장치를 만들기 위하여 PDLC(Polymer Dispersed Liquid Crystal)가 활발하게 개발되고 있다. 이것은 광손실이 적고 휘도가 높으며 제작 공정이 간단하여, 대형 디스플레이 장치로 제작하기 쉽다. 본 연구에서는 PDLC의 전기광학적 특성을 알아보기 위해 응답속도와 인가전압에 따른 광투과량을 측정하였다. 측정방법은 He-Ne 레이저를 PDLC 셀에 조사하고, 투과된 광량은 광다이오드를 사용하여 측정하였다. 측정결과는 디지털 오실로스코프로 분석하고 그래픽으로 표시하였으며, 측정한 데이터를 가지고 기존의 LCD와 비교하여 디스플레이 장치로서의 가능성을 연구하였다.
LGP (Light Guiding Plate) of LCD-BLU (Liquid Crystal Display - Back Light Unit) is one of the major components that affect the product quality of LCD. The optical patterns of LGP(2.2") molds are fabricated by three different methods, namely, (1) laser ablation, (2) chemical etching and (3) LiGA-reflow, respectively. The characteristics of surface patterns and roughnesses of molds and injection molded parts were compared to evaluate the optical characteristics. The optical patterns of injection molded LGP with mold fabricated by LiGA - reflow method showed the best geometric structure. The surface roughness (Ra) of LGP#s with molds fabricated by (1) laser ablation: $Ra={\sim}31nm$, (2) chemical etching: $Ra={\sim}22nm$, and (3) LiGA-reflow: $Ra={\sim}4nm$.
Kim, Jong-Sun;Ko, Young-Bae;Hwang, Chul-Jin;Kim, Jong-Deok;Yoon, Kyung-Hwan
Korea-Australia Rheology Journal
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제19권3호
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pp.171-176
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2007
LCD-BLU (Liquid Crystal Display-Back Light Unit) of medium size is usually manufactured by forming numerous dots with $50{\sim}300\;{\mu}m$ in diameter by etching process and V-grove shape with $50\;{\mu}m$ in height by mechanical cutting process. However, the surface of the etched dots is very rough due to the characteristics of the etching process and V-cutting needs rather high cost. Instead of existing optical pattern made by etching and mechanical cutting, 3-dimensional continuous micro-lens of $200\;{\mu}m$ in diameter was applied in the present study. The continuous micro-lens pattern fabricated by modified LIGA with thermal reflow process was tested to this new optical design of LGP. The manufacturing process using LIGA-reflow is made up of three stages as follows: (i) the stage of lithography, (ii) the stage of thermal reflow process and (iii) the stage of electroplating. The continuous micro-lens patterned LGP was fabricated with injection molding and its test results showed the possibility of commercial use in the future.
The fabrication of a thin-film transistor backplane and a liquid-crystal display using printing processes can eliminate the need for photolithography and offers the potential to reduce the manufacturing costs. In this study, we prepare contact via structures through a poly(methyl methacrylate) polymer insulator layer using inkjet printing. When droplets of silver ink composed of a polymer solvent are placed onto the polymer insulator and annealed at high temperatures, the silver ink penetrates the interior of the polymer and generates conducting paths between the top and bottom metal lines through the partial dissolution and swelling of the polymer. The electrical property of various contact via-hole interconnections is investigated using a semiconductor characterization system.
LCD 패널의 전기전도에 대한 물량여부를 측정하기 위한 프르브 유니트의 핵심소자 중 하나인 블레이드 타입의 핀을 제작하는데 있어서 주 소재인 베릴륨니켈 박판의 식각 조건에 대하여 연구하였다. 사용된 베릴륨니켈 기판의 두께는 $20{\mu}m$이며, DFR을 이용하여 패터닝하였고 염화제이철 및 황산을 첨가한 용액을 이용하여 침전법으로 단면 식각을 실시하였다. 베릴륨니켈 박판은 2mol의 염화제이철에 1mol의 황산을 첨가한 용액으로 $40^{\circ}C$의 온도에서 식각하였을때 가장 빠른 식각을 보였으며, 그에 따라 식각된 면의 상태도 매우 깨끗하고 수직 가까운 식각면이 나타남을 알 수 있었다.
Recently, many studies have been conducted on the nano-scale fabrication technology using twophoton- absorbed polymerization induced by a femtosecond laser. The nano-stereolithography process has many advantages as a technique for direct fabrication of true three-dimensional shapes in the range over several microns with sub-100 nm resolution, which might be difficult to obtain by using general nano/microscale fabrication technologies. Therefore, two-photon induced nano-stereolithography has been recently recognized as a promising candidate technology to fabricate arbitrary 3D structures with sub-100 nm resolution. Many research works for fabricating novel 3D nano/micro devices using the two-photon nano-stereolithography process, which can be utilized in the NT/BT/IT fields, are rapidly advancing.
디스플레이산업은 세계 최고의 수준을 달성한 한국의 대표적 주력 산업이다. LCD 패널의 대표기업들을 중심으로 한 기존의 연구와는 달리, 본 연구는 가치사슬 관점과 아키텍처 관점을 결합하여 후방가치사슬(upstream) 영역에 속한 소재부품 장비 공급기업에 중점을 둔 산업의 발달구조와 발전추이 특성을 분석하였다. 2002년부터 2015년까지 208개 기업에 대한 매출액 및 연구개발비 자료를 활용하여, 산업의 가치사슬별 성장 및 혁신 특성을 분석하였다. 결과, 소재부품기업과 장비기업은 패널 제조 공정별로 상반된 발전 추이가 있음을 규명하였다. 본 연구는 디스플레이산업과 같이 대규모 시스템 공정산업의 경우는 공정산업의 특성을 반영하여 기존의 가치사슬 관점에 아키텍처 혁신 관점을 반영한 분석 틀을 통하여 향후 산업 기술 전략과 정책의 방향을 제시하였다는 점에 의의가 있다.
A light guide panel (LGP) is an element of the LCD back light unit, which is used for display devices. In this study, a laser marking process is applied to the fabrication of light guide panels as the new fabrication process. In order to obtain a light guide panel which has high luminance and uniformity, four principal parameters such as power, scanning speed, ratio of line gap, and number of line were selected as important factors. A Web-based design tool was developed to generate patterns of light guide panel, and the tool may assist the designer to develop optimized patterns. Topcon-BM7 was used for luminance measurement of each specimen 100mm$\times$100mm area. By Taguchi method optimized levels of each parameters such as 40W of power, 30mm/s of scanning speed, 100:50 ratio of pattern gap, and 90 line of pattern were found by Taguchi method.
Recently, research on a flat panel display(FPD) has focused on organic light-emitting display(OLED) which has wide angle of view, high contrast ratio and low power consumption. ITO(Indium-Tin-Oxide) films are the most widely used material as a transparent electrode of OLED and also in many other display devices like LCD or PDP. The performance and efficiency of OLED is related to the surface condition of ITO coated glass substrate. The typical surface defect of glass substrate is measured for electric characteristics and physical condition for transmittance and roughness. Since ITO coated glass substrate can be destroyed for inspection about surface roughness, sheet resistance, film thickness and transmittance, precise fabrication condition should be made based on the estimated relationship. In this paper, ITO films were prepared on the commercial glass substrate by the Ion-Plating method changing the partial pressure of gas(Ar, 02) and the chamber temperature between $200^{\circ}C$ and $300^{\circ}C$. The characteristics of films were examined by the 4-point probe, supersonic thickness measurement, transmittance measurement and AFM. We estimated the relationship between processing parameters(Ar gas, O2 gas, Temperature) and properties of ITO films (Sheet Resistance, Film Thickness, Transmittance, Surface Roughness).
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[게시일 2004년 10월 1일]
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