• 제목/요약/키워드: Ion-beam assisted deposition

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동심원형 대칭 전기장 집속 방식을 응용한 자가 이온 보조 소스 제작 및 Cu 박막 증착 (Design of Self-ion assisted beam source (SIAB) based on electron focusing with concentric symmetrical electric field and Cu thin film growth by SIAB)

  • 송재훈;김기환;이충만;최성창;송종한;정형진;최원국
    • 한국진공학회지
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    • 제8권2호
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    • pp.121-126
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    • 1999
  • Cu thin film was deposited by a self-ion assisted beam source (SIAB) and the assessment of the Cu films was given. Some characteristics of the source and the experimental procedure are described at various conditions such as total power, ionization efficiency, and ion current vs. deposition rate. The dependence of crystalline structure, impurity concentration, and resistivity of the Cu films deposited by SIAB on acceleration voltage are discussed.

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이온빔보조증착법으로 합성한 hexagonal BN막의 hexagonal ring의 배열과 결정성 (Alignment and lattice quality of hexagonal rings of hexagonal BN films synthesized by ion beam assisted deposition)

  • 박영준;한준희;이정용;백영준
    • 한국진공학회지
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    • 제8권1호
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    • pp.43-50
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    • 1999
  • 이온빔보조증착법으로 h-BN을 증착하여 이온에너지 및 기판온도에 따른 hexagonal ring의 배열 및 결정성의 변화를 연구하였다. 보론은 전자빔으로 1.5 $\AA$/sec 의 속도로 증발시켰으며, 질소는 둥-hall 형 이온건으로 60, 80, 100eV의 에너지로 공급하였다. 기판의 온도는 상온(no heating), 200, 400, 500, $800^{\circ}C$로 변화시켰다. 질소이온에너지가 증가할수록 hexagonal ring의 c축은 기판에 평행하게 배열하여 100 eV의 질소이온에너지에서 가장 좋은 배열을 나타내었다. 이는 이온에너지가 높을수록 합성 막에 큰 압축응력이 발생하기 때문으로 생각된다. 기판온도에 따라서는 온도가 증가함에 따라 배열이 증가하다가 약 $400^{\circ}C$에서 최대가 되고 그 보다 높은 온도에서는 배열이 감소하였다. 그리고 결정도는 온도가 증가할수록 향상되었다. 이러한 경향들은 온도가 증가함에 따라 원자 이동도는 증가하고 응력발생은 어려워지는 경향으로부터 잘 설명된다. 또한 nano-indentor로 측정한 h-BN막의 경도는 c-축의 배열정도와 같은 경향을 보였다. 이온빔보조증착법은 hexagonal ring의 배열을 통해 h-BN막 성질의 최적화에 효과적인 방법으로 판단된다.

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산소 이온 빔에 의한 산화 알루미늄 박막의 식각 효과 및 정전 용량 특성에 관한 연구 (A Study on the Etching Effect and the Capacitance of Aluminum Oxide Thin Film by Oxygen Ion Beam)

  • 조의식;권상직
    • 한국진공학회지
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    • 제22권1호
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    • pp.26-30
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    • 2013
  • 고유전율 절연체의 한 종류인 산화알루미늄 박막을 전자빔 증착법으로 형성하는 과정에서 산소 이온 빔의 조사를 이용, 산소 이온 빔 보조 증착 효과를 기대하였다. 산소 이온 보조 증착법으로 형성된 산화 알루미늄 박막의 두께 측정 결과, 높은 에너지에서의 이온 빔에 의한 식각 효과를 확인할 수 있었으며, 산소 이온 보조 증착 결과보다 높은 커패시턴스 값도 관찰할 수 있었다.

이온빔 보조 증착에 의한 TiN 박막의 특성 (Characteristics of TiN Films by ion Beam Assisted Deposition)

  • 김상현;김대현
    • 한국안광학회지
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    • 제9권1호
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    • pp.161-166
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    • 2004
  • 본 연구에서는 이온빔 증착방법을 사용하여 스테인레스 스틸 기판 위에 TiN 박막을 성장하였다. $10^{-5}$ Torr의 질소 분위기에서 아르곤 가스를 보조 이온빔으로 사용하여 TiN 박막을 성장하였다. TiN 박막의 화학 조성, 색상, 밀착력 등을 En의(원자당 이용에너지) 변화에 따라서 측정하였다. En이 증가 할 때 질소와 Ti의 비율은 선형적으로 변화 하였고, 높은 En의 경우에는 질소와 Ti의 비율은 1.2를 가지며 포화되었다. 밝은 금색은 En이 어떤 임계값(Ecn)에 도달 하였을 때 얻어졌다. 이때의 질소와 Ti의 비율은 0.9 이다.

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이온빔 보조 증착법에 의한 TiN 박막도포가 니켈-크롬-베릴륨 합금의 표면 성상에 미치는 영향에 관한 연구 (A STUDY OF ION BEAM ASSISTED DEPOSITION(IBAD) OF TiN ON Ni-Cr Be ALLOY FOR SURFACE CHARACTERISTIC)

  • 최수영;이선형;장익태;양재호;정헌영
    • 대한치과보철학회지
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    • 제37권2호
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    • pp.212-234
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    • 1999
  • Dental restorative materials must have the physical properties to withstand wear and corrosion. Base metal alloys possess better mechanical properties and lower price than the gold alloys. For these reasons such alloys have largely replaced the precious metal alloys. One aspect to con-sider is the release of metal substances to oral environment. The release of elements from dental alloys is a continuing concern because the elements may have the potentially harmful biological effects on local tissues. The purpose of this study was to minimize metal release on the nonprecious metal surfaces by ion beam assisted deposition(IBAD) of titanium nitride (TiN) Ni-Cr-Be alloys with and without TiN coatings were secured in an wear test machine opposing ruby ball to determine their relative resistance to wear with loom, 200m, 300m and 400m sliding distance. And the corrosion behavior of the Ni-Cr-Be alloys with and without TiN coatings and 3 dental noble alloys have been studied. Potentiodynamic curves were used to analyse the corrosion characteristics of the alloys. The measurement of the released Ni and Cr ions was conducted by analysis of the electrolyte solution with atomic absorption spectroscopy. The results were as follows : 1. The critical sliding distance that wore down TiN coatings of $2.5{\mu}m$ thickness in this study condition was 300m. 2. Ion beam assisted deposition of TiN showed a good surface modification with respect to the properties of wear and corrosion resistance. 3. X-ray diffraction showed that the strongest peak of TiN is TiN(111) in the coatings. 4. The release of Ni and Cr ions from alloys measured by means of atomic absorption spectroscopy was reduced by ion beam assisted deposition of TiN.

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Preferred orientation of TiN thin films produced by Ion Beam Assist Deposition

  • Won, J.Y.;Kim, J.H.;Kang, H.J.;Baeg, C.H.;Park, S.Y.;Hong, J.W.;Wey, M.Y.
    • 한국진공학회지
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    • 제6권S1호
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    • pp.154-159
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    • 1997
  • The crystal structure properties of TiN thin films deposited on SKD61 steel and Si(100) substrates by Ion Beam Assisted Deposition have been studied to clarify the thin film growth mechanism by using XRD, RBS, SEM, and AFM. The preferred orientation of TiN thin films changes from (111) to (100) as increasing the assisted energy. This tendency is independent of the substrate structure. The TiN thin film grow with (100) direction having surface free energy minimum as the assisted energy increases.

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표면전극 형성 방법과 이온-교환막 두께가 이온성 고분자-금속 복합체(IPMC) 구동에 미치는 영향 (Effect of the Surface Electrode Formation Method and the Thickness of Membrane on Driving of Ionic Polymer Metal Composites (IPMCs))

  • 차국찬;송점식;이석민;문무성
    • 폴리머
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    • 제30권6호
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    • pp.471-477
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    • 2006
  • 이온성 고분자-금속 복합체(ionic polymer metal composite, IPMC)는 낮은 구동 전압에서도 비교적 빠른 응답 속도를 갖는 전기활성고분자(electro active polymer, EAP) 재료이다. IPMC는 인간의 근육과 유사한 인성 및 변형 특성을 나타내므로 최근 인공근육용 구동체 개발을 위한 많은 연구들이 진행되어 왔으며, 또한 우주항공, 센서 및 펌프 등의 다양한 분야에서 적용가능성이 조사되고 있다. 본 연구에서는 액상 내피온을 이용하여 용액 캐스팅 방법으로 다양한 두께의 내피온 막을 제조하는 방법을 도입하였다. IPMC 제조방법은 Oguro가 제안한 방법을 기초로 하여 도금온도를 변화시켜 무전해 도금법을 이용하여 내피온 내부로의 1차 전극을 형성시켰으며, 형성된 1차 전극의 안정성과 표면전기저항을 낮추기 위하여 이온빔보조증착법(ion beam assisted deposition, IBAD)을 도입하여 금과 이리듐을 1차 전극표면 위에 증착하여 2차 전극을 형성시켰다. 1, 2차 무전해 도금한 IPMC와 2차 IBAD 코팅한 IPMC 전극의 표면과 단면 형상을 SEM으로 관찰하였으며, 전압을 인가할 때 IPMC 내부의 수분증발 및 이온전도도의 변화를 조사하였다. 또한 다양한 두께의 IPMC를 제조하여 두께변화에 따른 변위와 구동력을 측정하였다.

Influence of Deposition Method on Refractive Index of SiO2 and TiO2 Thin Films for Anti-reflective Multilayers

  • Song, Myung-Keun;Yang, Woo-Seok;Kwon, Soon-Woo;Song, Yo-Seung;Cho, Nam-Ihn;Lee, Deuk-Yong
    • 한국세라믹학회지
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    • 제45권9호
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    • pp.524-530
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    • 2008
  • Anti-Reflective (AR) thin film coatings of $SiO_2$ (n= 1.48) and $TiO_2$ (n=2.17) were deposited by ion-beam assisted deposition (IBAD) with End-Hall ion source and conventional electron beam (e-beam) evaporation to investigate the effect of deposition method on the refractive indicies (n) of the fIlms. Green-light generation using a GaAs laser diode was achieved via excitation of the second harmonic. The latter resulted from the transmission of the fundamental guided-mode wave of 1064 nm through periodically poled $LiNbO_3$. Large differences in the refractive indicies of each of the layers in the multilayer coating may improve AR performance. IBAD of $SiO_2$ reduced its refractive index from 1.45 to 1.34 at 1064 nm. Conversely, e-beam evaporation of $TiO_2$ increased its refractive index from 1.80 to 2.11. In addition, no fluctuations in absorption at the wavelength of 1064 nm were found. The results suggest that films prepared by different deposition methods can increase the effectiveness of multilayer AR coatings.